[發(fā)明專利]納米合金材料的制作方法、納米合金材料及電子產(chǎn)品

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• 申請日: 2020-06-10
• 公開（公告）號: CN111534795A
• 公開（公告）日: 2020-08-14
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 夏祥國;李林軍;任詩舉
• 申請（專利權(quán)）人: 深圳市樂工新技術(shù)有限公司
• 主分類號: C23C14/16
• 分類號: C23C14/16;C23C28/02;F21V21/002;B82Y30/00;B82Y40/00
• 代理公司: 深圳眾邦專利代理有限公司 44545
• 代理人: 崔亞軍

1.一種納米合金材料的制作方法，其特征在于，包括：

提供一鋁箔薄膜層，該鋁箔薄膜層的厚度大于或者等于10微米，且小于或者等于100微米；

在鋁箔薄膜層的表面上進(jìn)行氣相沉積，在表面上形成至少一可焊接金屬層，該可焊接金屬層的厚度大于或者等于0.05微米，且小于或者等于15微米。

2.如權(quán)利要求1所述的納米合金材料的制作方法，其特征在于，所述可焊接金屬層是由銅、鎳、鋅、銦、錫、銀、金、鎂中的任意一種或者多種金屬形成的金屬層或者任意兩種和兩種以上的金屬形成的合金層。

3.如權(quán)利要求2所述的納米合金材料的制作方法，其特征在于，所述可焊接金屬層是由銅或者銅與鎳、鋅、銦、錫、銀、金、鎂的合金形成。

4.如權(quán)利要求1所述的納米合金材料的制作方法，其特征在于，所述金屬層以真空鍍膜的方式形成。

5.如權(quán)利要求4所述的納米合金材料的制作方法，其特征在于，所述金屬層以濺射的方式形成，其工藝條件為真空度0.01Pa-0.5Pa，連續(xù)卷繞式鍍速為0.01-300米/分鐘，電流為1A-50A，電壓為200V-700V。

6.如權(quán)利要求1所述的納米合金材料的制作方法，其特征在于，在鋁箔薄膜層的表面上形成至少一可焊接金屬層的具體步驟包括：

對鋁箔薄膜層的表面進(jìn)行真空電鍍，真空電鍍的金屬層的厚度大于或者等于0.1微米，且小于或者等于1微米；

對真空電鍍后的材料進(jìn)行水電鍍，水電鍍的金屬層的厚度大于或者等于1微米，且小于或者等于10微米。

7.一種由權(quán)利要求1-6中的任一項(xiàng)所述的方法制得的納米合金材料。

8.如權(quán)利要求7所述的納米合金材料，其特征在于，該納米合金材料包括鋁箔薄膜層及形成于鋁箔薄膜層一表面的至少一可焊接金屬層。

9.如權(quán)利要求8所述的納米合金材料，其特征在于，所述可焊接金屬層的層數(shù)為1-3層，不同層可焊接金屬層的厚度相同或不相同，不同層可焊接金屬層的材質(zhì)相同或不相同。

10.一種電子產(chǎn)品，包括電子產(chǎn)品本體，其特征在于，安裝于所述電子產(chǎn)品本上的如權(quán)利要求7-9任意一項(xiàng)所述的納米合金材料。