[發明專利]一種超薄鍍膜光學晶圓及其制備方法

在審

• 申請號: 202010514934.2
• 申請日: 2020-06-08
• 公開（公告）號: CN111580193A
• 公開（公告）日: 2020-08-25
• 發明（設計）人: 王林;李菲;李延凱
• 申請（專利權）人: 華天慧創科技(西安)有限公司
• 主分類號: G02B1/11
• 分類號: G02B1/11;G02B1/10;C23C14/58;C23C14/22;C23C14/02
• 代理公司: 西安通大專利代理有限責任公司 61200
• 代理人: 姚詠華

本發明提供一種超薄鍍膜光學晶圓及其制備方法，所述的光學晶圓包括一個超薄光學晶圓和鍍制在超薄光學晶圓兩個表面上的光學薄膜；通過將光學薄膜鍍制在超薄光學晶圓的兩個表面，形成超薄鍍膜光學晶圓，能夠降低對IR截止膜的透過率特性要求，縮短成膜時間；減薄單面鍍膜的膜層厚度。光學晶圓的制備方法，在超薄光學晶圓的兩個表面鍍制一層或若干層光學薄膜，得到超薄鍍膜光學晶圓，兩面的光學膜層具有不同的分光性能，不同分光性能的膜層互相補償，相同或者相近膜層設計疊加，可以達成膜層的總體分光性能。

技術領域

本發明涉及光學薄膜設計及鍍制技術領域，具體為一種超薄鍍膜光學晶圓及其制備方法。

背景技術

光學薄膜鍍制是指在光學晶圓表面上鍍上一層或多層金屬薄膜或介質薄膜的工藝過程。在光學晶圓表面鍍膜的目的是為了達到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。

當前，超薄光學晶圓上鍍制光學薄膜的工藝都是在超薄晶圓的一面鍍制光學薄膜，得到超薄鍍膜光學晶圓，但這種鍍制方法對光學薄膜的特性要求非常高。以IR截止膜為例，IR截止膜是阻止紅外波段透過的光學薄膜，鍍制IR截止膜是包括光學晶圓的光學成像產品要求，不需要近紅外波段的光線透過光學系統成像，即僅需可見光成像。

如圖1所示，如果僅在超薄光學晶圓一面鍍制IR截止膜，不但IR截止膜的IR截止率要求高，如需在380～630nm具有高透過率，在650～1200nm具有高截止率，具體在650～1200nm的紅外波段的透過率低于0.01％，膜層設計較困難，而且單面IR截止膜較厚，成膜時間長，鍍制完成后容易造成晶圓翹曲過大，可能會造成晶圓破裂進而影響后續工藝。此外，單面IR截止膜紅光反射過大會造成膜層視覺上的紅色，進而無法滿足產品需要。

發明內容

針對現有技術中存在的問題，本發明提供一種超薄鍍膜光學晶圓及其制備方法，薄膜設計簡單，并且能夠減小或消除超薄光學晶圓的翹曲。

本發明是通過以下技術方案來實現：

一種超薄鍍膜光學晶圓，包括一個超薄光學晶圓和鍍制在超薄光學晶圓兩個表面上的光學薄膜。

優選的，所述的光學薄膜為IR截止膜。

優選的，所述的超薄鍍膜光學晶圓在380nm～630nm的可見光波段內平均透過率≥90％。

優選的，所述的超薄鍍膜光學晶圓在650nm～1200nm的可見光和近紅外波段內平均透過率≤0.01％。

優選的，所述光學薄膜在超薄光學晶圓兩個表面的厚度差在1um以內。

一種超薄鍍膜光學晶圓的制備方法，在超薄光學晶圓的兩個表面鍍制一層或若干層光學薄膜，得到超薄鍍膜光學晶圓。

進一步，先在超薄光學晶圓的一個表面鍍制一層或若干層光學薄膜，鍍制完成后清洗或者在真空環境下翻轉，之后在超薄光學晶圓的另一個表面鍍制一層或若干層光學薄膜，得到超薄鍍膜光學晶圓。

進一步，在超薄光學晶圓的兩個表面同時開始鍍制光學薄膜。

進一步，在超薄光學晶圓的兩個表面鍍制光學薄膜后，光學薄膜在超薄光學晶圓兩個表面的厚度差在1um以內。

進一步，在超薄光學晶圓的兩個表面鍍制10～100層光學薄膜。

與現有技術相比，本發明具有以下有益的技術效果：