[發明專利]一種OLED制程提高光刻膠剝離效果的方法

有效

• 申請號: 202010499955.1
• 申請日: 2020-06-04
• 公開（公告）號: CN111628117B
• 公開（公告）日: 2023-06-27
• 發明（設計）人: 胡璐
• 申請（專利權）人: 南京華易泰電子科技有限公司
• 主分類號: H10K71/00
• 分類號: H10K71/00;H10K71/15;H10K71/16;H10K50/10
• 代理公司: 深圳紫晴專利代理事務所(普通合伙) 44646
• 代理人: 林鵬

本發明專利公開了一種OLED制程提高光刻膠剝離效果的方法，其方法包括如下步驟：首先在OLED基板上涂覆一層光阻層(PR)；對涂覆光阻層的基板上方，用掩膜版覆蓋，從上方進行曝光照射，使曝光區域下的光刻膠發生光化學反應，將掩膜版阻擋的部位定義為A區域；OLED基板上被掩膜版阻擋的部位A區域的光刻膠溶解脫落；本發明專利通過干刻蝕法對表面蒸鍍OLED功能層的基板進行處理，使得剝膜液可以順利在OLED功能層未覆蓋的光阻裸露區域與其接觸，達到有效去除光阻目的，解決了目前采用的OLED蒸鍍制程工藝在進行蒸鍍后光刻膠難剝離，容易造成光刻膠無法順利去除，從而影響后續制程的問題，避免了OLED顯示器產生像素點缺色形成黑點，造成顯示不良的情況。

技術領域

本發明專利涉及OLED制程工藝技術領域，具體為一種OLED制程提高光刻膠剝離效果的方法。

背景技術

OLED，又稱為有機電激光顯示、有機發光半導體。OLED屬于一種電流型的有機發光器件，是通過載流子的注入和復合而致發光的現象，發光強度與注入的電流成正比。OLED在電場的作用下，陽極產生的空穴和陰極產生的電子就會發生移動，分別向空穴傳輸層和電子傳輸層注入，遷移到發光層。當二者在發光層相遇時，產生能量激子，從而激發發光分子最終產生可見光。

目前采用的OLED蒸鍍制程工藝在進行蒸鍍后光刻膠難剝離，容易造成光刻膠無法順利去除，從而影響后續制程，最終使OLED顯示器產生像素點缺色形成黑點，造成顯示不良，為此我們提出一種通過干刻蝕法對表面蒸鍍OLED功能層的基板進行處理，使得剝膜液可以順利在OLED功能層未覆蓋的光阻裸露區域與其接觸，達到有效去除光阻目的的光刻膠剝離效果的方法來解決此問題。

發明專利內容

本發明專利的目的在于提供一種OLED制程提高光刻膠剝離效果的方法，以解決上述背景技術中提到的目前采用的OLED蒸鍍制程工藝在進行蒸鍍后光刻膠難剝離，容易造成光刻膠無法順利去除，從而影響后續制程問題。

為實現上述目的，本發明專利提供如下技術方案：一種OLED制程提高光刻膠剝離效果的方法，其方法包括如下步驟：

(1)光阻涂覆：首先在OLED基板上涂覆一層光阻層(PR)；

(2)UV曝光：對涂覆光阻層的基板上方，用掩膜版覆蓋，從上方進行曝光照射，使曝光區域下的光刻膠發生光化學反應，將掩膜版阻擋的部位定義為A區域；

(3)光阻顯影：OLED基板上被掩膜版阻擋的部位A區域的光刻膠溶解脫落，暴露出下面的鍍層，對像素定義區進行開孔操作；

(4)蒸鍍OLED功能層：對顯影后的基板進行功能層蒸鍍，首先對其蒸鍍紅光功能層，該功能層隨即覆蓋在暴露區和光阻層(PR)上；

(5)干刻蝕：選取掩膜版對OLED基板上方進行遮擋，利用掩膜版對開孔區域下方的紅光OLED功能層進行干法刻蝕，使該區域的光阻層(PR)裸露出來；

(6)去除光阻層：用剝膜液對經過干刻蝕后的OLED基板從上方進行噴灑，剝膜液可以順利地在紅光OLED功能層未覆蓋光阻裸露區域與其相接觸，從而對光阻層(PR)進行去除，即可完成對OLED基板表面紅光的制備；

(7)重復光阻涂覆：在完成紅光制備OLED基板上涂覆一層新的光阻層(PR)，此時紅光被新的光阻層(PR)所覆蓋；

(8)重復曝光：重復進行步驟(2)中的操作，采用掩膜版進行遮擋，再進行曝光照射，之后重復進行步驟(3)-(6)中的操作；

(9)重復制備：在步驟(8)的基礎上，重復進行步驟(1)-(6)的操作，實現藍光的制備。

優選的，所述步驟(1)中，所涂覆光阻層的厚度范圍為0.5-5mm，且光阻為負型，基板為陽極。

優選的，所述步驟(2)中，用于曝光的波長為405nm，且該曝光操作為非接觸式。