[發(fā)明專利]烤盤(pán)用限位裝置、烤盤(pán)以及半導(dǎo)體處理設(shè)備在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010499155.X | 申請(qǐng)日: | 2020-06-04 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN111627839A | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-09-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 沈克;張雷 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 廈門(mén)通富微電子有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/67 | 分類號(hào): | H01L21/67;H01L21/677;H01L21/687 |
| 代理公司: | 北京中知法苑知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11226 | 代理人: | 李明;趙吉陽(yáng) |
| 地址: | 361012 福建省廈門(mén)市自由貿(mào)易試驗(yàn)區(qū)廈門(mén)片*** | 國(guó)省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 烤盤(pán)用 限位 裝置 以及 半導(dǎo)體 處理 設(shè)備 | ||
本發(fā)明提供一種烤盤(pán)用限位裝置、烤盤(pán)以及一種半導(dǎo)體處理設(shè)備,屬于半導(dǎo)體加工技術(shù)領(lǐng)域。其中,烤盤(pán)用限位裝置包括:升降驅(qū)動(dòng)組件、夾持組件以及限位環(huán),夾持組件分別與升降驅(qū)動(dòng)組件以及限位環(huán)連接;升降驅(qū)動(dòng)組件能夠驅(qū)動(dòng)夾持組件帶動(dòng)限位環(huán)在工藝位置和非工藝位置之間進(jìn)行切換;夾持組件能夠在工藝位置時(shí),將限位環(huán)放置在承載面上,以使得限位環(huán)與待處理工件的外周壁抵接。本發(fā)明的限位裝置在不改變現(xiàn)有烤盤(pán)結(jié)構(gòu)的前提下,實(shí)現(xiàn)了小尺寸晶圓(例如,8寸晶圓)在烤盤(pán)上的位置限定,解決了目前烤盤(pán)設(shè)計(jì)只有12寸定位防漂移裝置,無(wú)法兼容8寸等其他尺寸晶圓定位的問(wèn)題,并實(shí)現(xiàn)了有效防止小尺寸晶圓在烤盤(pán)漂移導(dǎo)致手臂取片異常或破片。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于半導(dǎo)體加工技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種烤盤(pán)用限位裝置、一種烤盤(pán)以及一種半導(dǎo)體處理設(shè)備。
背景技術(shù)
半導(dǎo)體制造業(yè)中晶圓是當(dāng)前半導(dǎo)體組件的基礎(chǔ)半成品,在生產(chǎn)晶圓的過(guò)程中,使用的均膠機(jī)、顯影機(jī)等機(jī)臺(tái)不可避免會(huì)用到烘烤裝置,需要將晶圓置于烘烤裝置中,通過(guò)烤盤(pán)的適當(dāng)溫度將晶圓上的光刻膠體等進(jìn)行物理或者化學(xué)性的轉(zhuǎn)變,例如,熱固化等。
而將晶圓輸送至烤盤(pán)的過(guò)程中,隨著支撐針不斷下降,使晶圓逐漸接近熱盤(pán),升起后方便機(jī)器人取放,這樣,晶圓接觸烤盤(pán)表面時(shí)會(huì)不可避免有一些滑動(dòng)。目前,隨著技術(shù)的發(fā)展,雖然一些機(jī)臺(tái)可兼容大尺寸的晶圓定位防漂移裝置,例如,在烤盤(pán)上設(shè)置多個(gè)12寸定位擋塊,但這技術(shù)方案只針對(duì)12寸的單一晶圓可以起到定位防漂移的作用,無(wú)法兼容8寸以及其他尺寸的小尺寸晶圓,仍具有一定的局限性。并且,目前半導(dǎo)體行業(yè)的主流設(shè)備是8寸或12寸晶圓機(jī)臺(tái),在三五族半導(dǎo)體行業(yè)用的較多的還有6寸晶圓機(jī)臺(tái),另外,企業(yè)在研發(fā)過(guò)程中可能還會(huì)涉及到2寸和4寸的晶圓,這就會(huì)多尺寸晶圓的烘烤處理工藝具有極大的局限性,并且,一些小尺寸晶圓在烤盤(pán)出現(xiàn)漂移導(dǎo)致的手臂取片異常或破片。因此,亟需開(kāi)發(fā)一種新的限位裝置,在現(xiàn)有的烘烤裝置基礎(chǔ)上對(duì)小尺寸的晶圓也可以起到限位作用,防止漂移。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明旨在至少解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問(wèn)題之一,提供一種烤盤(pán)用限位裝置、一種烤盤(pán)以及一種半導(dǎo)體處理設(shè)備。
本發(fā)明的一方面,提供一種烤盤(pán)用限位裝置,所述烤盤(pán)具有承載面,所述承載面用于承載待處理工件,所述限位裝置包括:升降驅(qū)動(dòng)組件、夾持組件以及限位環(huán),所述夾持組件分別與所述升降驅(qū)動(dòng)組件以及所述限位環(huán)連接;其中,
所述升降驅(qū)動(dòng)組件能夠驅(qū)動(dòng)所述夾持組件帶動(dòng)所述限位環(huán)在工藝位置和非工藝位置之間進(jìn)行切換;以及,
所述夾持組件能夠在所述工藝位置時(shí),將所述限位環(huán)放置在所述承載面上,以使得所述限位環(huán)與所述待處理工件的外周壁抵接。
可選的,所述夾持組件包括至少一個(gè)夾持驅(qū)動(dòng)件以及至少一個(gè)夾持件;其中,
所述夾持驅(qū)動(dòng)件分別與所述升降驅(qū)動(dòng)組件和所述夾持件相連,以驅(qū)動(dòng)所述夾持件夾緊或松開(kāi)所述限位環(huán)。
可選的,所述夾持件背離所述夾持驅(qū)動(dòng)件的一側(cè)設(shè)置有夾持凸起,所述限位環(huán)外周壁上設(shè)置有夾持凹槽,所述夾持凹槽用于容置所述夾持凸起。
可選的,所述限位裝置還包括定位組件,所述定位組件與放置在所述烤盤(pán)上的限位環(huán)的外周壁抵接,以對(duì)所述限位環(huán)進(jìn)行定位。
可選的,所述定位組件包括多個(gè)定位驅(qū)動(dòng)件和多個(gè)定位件,所述定位驅(qū)動(dòng)件與對(duì)應(yīng)的所述定位件相連,以驅(qū)動(dòng)所述定位件與所述限位環(huán)外周壁抵接。
可選的,所述限位環(huán)外周壁上設(shè)置有多個(gè)定位槽,所述定位槽用于容置對(duì)應(yīng)的所述定位件。
可選的,所述限位環(huán)內(nèi)周壁上設(shè)置有防搭部,以防止所述待處理工件搭接在所述限位環(huán)邊緣上。
可選的,所述限位環(huán)包括朝向所述烤盤(pán)的底壁以及背離所述烤盤(pán)的頂壁,所述內(nèi)周壁分別連接所述頂壁和所述底壁;其中,
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- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門(mén)適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門(mén)適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門(mén)適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門(mén)適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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- 凈水濾芯以及凈水裝置、以及洗漱臺(tái)
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