[發明專利]基于滑動均流的均流裝置及均流方法在審
| 申請號: | 202010445363.1 | 申請日: | 2020-05-24 |
| 公開(公告)號: | CN111509998A | 公開(公告)日: | 2020-08-07 |
| 發明(設計)人: | 劉金鳳;張正蕾;曲鑫;何佳偉 | 申請(專利權)人: | 哈爾濱理工大學 |
| 主分類號: | H02M7/02 | 分類號: | H02M7/02;H02M1/32;H02J1/10 |
| 代理公司: | 北京中濟緯天專利代理有限公司 11429 | 代理人: | 楊紅娟 |
| 地址: | 150080 黑龍*** | 國省代碼: | 黑龍江;23 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 基于 滑動 裝置 方法 | ||
1.基于滑動均流的均流裝置,其特征在于,包括:
若干并聯的整流單元,生成若干路整流電流;
滑動均流單元,根據所述整流電流生成對應的若干均流信號;
雙閉環PI控制單元,根據所述均流信號、整流電流和負載電壓生成若干PWM信號,PWM信號數量與所述均流信號的數量相同。
2.根據權利要求1所述基于滑動均流的均流裝置,其特征在于,所述滑動均流單元包括:
若干并聯的濾波模塊,用以濾除整流電流中的擾動分量,得到模塊電流;
判斷模塊,比較所述模塊電流,得到最大電流值;
比較模塊,比較所述最大電流值與所述模塊電流,得到電流差;
PI控制模塊,根據所述電流差生成若干均流信號。
3.根據權利要求1所述基于滑動均流的均流裝置,其特征在于,所述雙閉環PI控制單元包括:
電壓環控制模塊,將參考電壓值和所述負載電壓做差后通過PI控制生成控制電壓信號;
電流環控制模塊,將所述控制電壓信號與所述均流信號共同作為電流環參考值,電流參考值與所述電流采樣值比較經PI控制得到PWM控制信號。
4.基于滑動均流的均流方法,通過權利要求1-3任意權利要求所述基于滑動均流的均流裝置實現,其特征在于,包括如下步驟:
S1、生成若干路整流電流;
S2、根據所述整流電流生成對應的若干均流信號;;
S3、根據所述均流信號、整流電流和負載電壓生成若干PWM信號,PWM信號數量與所述均流信號的數量相同。
5.根據權利要求4所述基于滑動均流的均流方法,其特征在于,步驟S2具體包括:
S21、濾除整流電流中的擾動分量,得到模塊電流;
S22、比較所述模塊電流,得到最大電流值;
S23、比較所述最大電流值與所述模塊電流,得到電流差;
S24、根據所述電流差生成若干均流信號。
6.根據權利要求4所述基于滑動均流的均流方法,其特征在于,步驟S3具體包括:
S31、根據參考電壓值和所述負載電壓生成控制電壓信號;
S32、根據所述控制電壓信號與所述均流信號共同作為電流環參考值,電流參考值與所述電流采樣值比較經PI控制得到PWM控制信號。
7.根據權利要求5所述基于滑動均流的均流方法,其特征在于,所述步驟S21采用最小二乘滑動平均濾波算法對整流電流進行濾波處理,具體為:
式中,j=N,N+1,.....,yj+k為濾波前的數據,Yj為yj+k濾波后的數據,即所述模塊電流,滑窗的窗口大小為(2N+1),Wj(k)為濾波算法中采樣點yj+k對應的非歸一化的權系數。
8.根據權利要求7所述基于滑動均流的均流方法,其特征在于,所述Wj(k)非歸一化的權系數通過最小二乘權法得到。
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