[發明專利]物料測量裝置及物料測量系統

在審

• 申請號: 202010433969.3
• 申請日: 2020-05-21
• 公開（公告）號: CN111721357A
• 公開（公告）日: 2020-09-29
• 發明（設計）人: 呼秀山;夏陽
• 申請（專利權）人: 北京銳達儀表有限公司
• 主分類號: G01D21/02
• 分類號: G01D21/02
• 代理公司: 北京庚致知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 11807
• 代理人: 李偉波;韓德凱

1.一種物料測量裝置，其特征在于，包括：

多個微帶天線，形成多個收發天線單元，所述收發天線單元包括發射天線與接收天線，所述發射天線用于生成微波發射波束，所述接收天線用于接收所述微波發射波束被反射后而生成的微波反射波束，通過所述微波發射波束和所述微波反射波束來對物料進行測量；以及

微波透鏡，所述多個微帶天線位于所述微波透鏡的一側，在所述微波透鏡的另一側，所述微波透鏡會聚每個發射天線所發射的微波發射波束，會聚后的每個微波發射波束的角度不同，并且所述微波透鏡會聚所述微波反射波束，以便所述接收天線接收會聚后的微波反射波束。

2.如權利要求1所述的物料測量裝置，其特征在于，所述多個微帶天線設置在所述微波透鏡的焦面上。

3.如權利要求1或2所述的物料測量裝置，其特征在于，

所述多個微帶天線位于一個參考平面中或附近，所述一個參考平面與所述微波透鏡的軸線平行和/或穿過所述軸線，位于所述一個參考平面中或附近的多個微帶天線布置成直線或曲線形狀或者接近直線或曲線形狀；或者

所述多個微帶天線位于兩個以上參考平面中或附近，所述兩個以上參考平面分別與所述微波透鏡的軸線平行和/或穿過所述軸線，分別位于兩個以上參考平面的每個參考平面中或附近的多個微帶天線分別布置成直線或曲線形狀或者接近直線或曲線形狀。

4.一種物料測量裝置，其特征在于，包括：

一個或多個微帶天線，形成一個或多個收發天線單元，所述收發天線單元包括發射天線與接收天線，所述發射天線用于生成微波發射波束，所述接收天線用于接收所述微波發射波束被反射后而生成的微波反射波束，通過所述微波發射波束和所述微波反射波束來對物料進行測量；以及

微波透鏡，所述微帶天線位于所述微波透鏡的一側，在所述微波透鏡的另一側，所述微波透鏡會聚每個發射天線所發射的微波發射波束，會聚后的每個微波發射波束的角度不同，并且所述微波透鏡會聚所述微波反射波束，以便所述接收天線接收會聚后的微波反射波束，

其中，所述一個或多個微帶天線為可移動微帶天線，通過移動的所述微帶天線，來對所述物料進行測量。

5.如權利要求4所述的物料測量裝置，其特征在于，所述微帶天線設置在所述微波透鏡的焦面上且在所述焦面上移動。

6.如權利要求4或5所述的物料測量裝置，其特征在于，

在所述微帶天線在一個參考平面中或附近進行移動的情況下，通過所述微波透鏡會聚的不同角度的微波發射波束位于一個平面中或附近，從而形成一個波束掃描面，以對一個截面上的物料進行測量；

在所述微帶天線在兩個以上參考平面中或附近進行移動的情況下，位于每個參考平面中或附近的微帶天線的微波發射波束被所述微波透鏡會聚為分別位于一個平面的不同角度的微波發射波束，從而形成多個波束掃描面，以對多個截面的物料進行測量。

7.一種物料測量系統，用于對固體物料或液體物料進行測量，其特征在于，包括：

容納體，用于容納所述固體物料或液體物料，并且所述容納體設置有供物料進入的進料口與供物料排出的出料口；以及

如權利要求1至6中任一項所述的物料測量裝置，所述物料測量裝置安裝至在所述容納體上形成的開口的上方，所述物料測量裝置通過角度不同的微波發射波束來多角度地對物料進行測量。

8.一種物料測量系統，用于對液體或固體物料的漩渦進行測量，其特征在于，包括：

容納體，用于容納所述液體或固體物料；

攪拌器，用于對所述液體或固體物料進行攪拌；以及

如權利要求1至6中任一項所述的物料測量裝置，所述物料測量裝置安裝至在所述容納體上形成的開口的上方，所述物料測量裝置通過角度不同的微波發射波束來多角度地對所述漩渦進行測量。