[發(fā)明專利]一種芯片蝕刻設(shè)備在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010433455.8 | 申請(qǐng)日: | 2020-05-21 |
| 公開(公告)號(hào): | CN111564390A | 公開(公告)日: | 2020-08-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李偉明 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 廣州冰鈁商貿(mào)有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/67 | 分類號(hào): | H01L21/67 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 510000 廣東省廣州市*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 芯片 蝕刻 設(shè)備 | ||
本發(fā)明公開了一種芯片蝕刻設(shè)備,其結(jié)構(gòu)包括蝕刻機(jī)、導(dǎo)軌、操作臺(tái)、噴淋頭、升降端、護(hù)罩,導(dǎo)軌嵌固于蝕刻機(jī)的內(nèi)壁位置,操作臺(tái)安裝于蝕刻機(jī)的內(nèi)部位置,升降端與導(dǎo)軌活動(dòng)卡合,護(hù)罩與蝕刻機(jī)鉸鏈連接,噴淋頭與升降端為一體化結(jié)構(gòu),通過升降端帶動(dòng)噴淋頭進(jìn)行下降,通過操作臺(tái)上的芯片對(duì)噴淋頭上的阻流板產(chǎn)生向上的推力,能夠使阻流板沿著外框向上擺動(dòng),從而使阻流板傾斜的面能夠與芯片的邊側(cè)相貼合,通過升降端噴出的腐蝕液體對(duì)引導(dǎo)機(jī)構(gòu)上的增力面產(chǎn)生的推力,能夠使引流板沿著板面向下滑動(dòng),直至與引流板底部與導(dǎo)塊的表面相貼合,從而使腐蝕液體能夠沿著兩個(gè)引流板之間噴出。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及芯片蝕刻領(lǐng)域,具體的是一種芯片蝕刻設(shè)備。
背景技術(shù)
芯片蝕刻機(jī)主要是用于對(duì)芯片雕刻線路上不需要的部分進(jìn)行去除的設(shè)備,能夠通過噴淋頭將腐蝕液體高壓噴淋在芯片上表面,從而將芯片上除了電路的其他不需要部分腐蝕去除,使芯片制造行業(yè)的常見設(shè)備,基于上述描述本發(fā)明人發(fā)現(xiàn),現(xiàn)有的一種芯片蝕刻設(shè)備主要存在以下不足,例如:
由于芯片蝕刻機(jī)是將腐蝕液噴淋在芯片上表面的,若上表面傾斜的芯片在芯片蝕刻機(jī)上進(jìn)行腐蝕時(shí),腐蝕液體容易在表面傾斜的芯片上流動(dòng),從而使腐蝕液體會(huì)接觸到芯片的邊側(cè),對(duì)芯片的邊側(cè)進(jìn)行腐蝕,導(dǎo)致腐蝕后的芯片規(guī)格大小和原本的尺寸出現(xiàn)偏差。
發(fā)明內(nèi)容
針對(duì)上述問題,本發(fā)明提供一種芯片蝕刻設(shè)備。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明是通過如下的技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn):一種芯片蝕刻設(shè)備,其結(jié)構(gòu)包括蝕刻機(jī)、導(dǎo)軌、操作臺(tái)、噴淋頭、升降端、護(hù)罩,所述導(dǎo)軌嵌固于蝕刻機(jī)的內(nèi)壁位置,所述操作臺(tái)安裝于蝕刻機(jī)的內(nèi)部位置,所述升降端與導(dǎo)軌活動(dòng)卡合,所述護(hù)罩與蝕刻機(jī)鉸鏈連接,所述噴淋頭與升降端為一體化結(jié)構(gòu)。
作為本發(fā)明的進(jìn)一步優(yōu)化,所述噴淋頭包括外框、活動(dòng)片、彈力片、阻流板、導(dǎo)塊、引導(dǎo)機(jī)構(gòu),所述活動(dòng)片的一端與外框的內(nèi)壁相連接,且活動(dòng)片的另一端與導(dǎo)塊活動(dòng)卡合,所述彈力片安裝于外框的內(nèi)壁與阻流板之間,所述阻流板與外框鉸鏈連接,所述導(dǎo)塊與阻流板嵌固連接,所述引導(dǎo)機(jī)構(gòu)與外框?yàn)橐惑w化機(jī)構(gòu),所述阻流板設(shè)有兩個(gè),且在外框的底部呈對(duì)稱分布。
作為本發(fā)明的進(jìn)一步優(yōu)化,所述阻流板包括外殼、彈力條、變形膜、撞擊球、附著面,所述彈力條安裝于外殼的內(nèi)壁上端位置,所述變形膜與外殼嵌固連接,所述撞擊球與彈力條相連接,所述附著面與外殼為一體化結(jié)構(gòu),所述附著面呈梯形結(jié)構(gòu)。
作為本發(fā)明的進(jìn)一步優(yōu)化,所述附著面包括底塊、底塊、擺動(dòng)板,所述彈性片安裝于底塊與擺動(dòng)板之間,所述擺動(dòng)板與底塊鉸鏈連接,所述擺動(dòng)板呈三角形結(jié)構(gòu)。
作為本發(fā)明的進(jìn)一步優(yōu)化,所述引導(dǎo)機(jī)構(gòu)包括引流板、增力面、緩沖機(jī)構(gòu)、復(fù)位條、板面,所述引流板與板面間隙配合,所述增力面與引流板為以一體化結(jié)構(gòu),所述緩沖機(jī)構(gòu)與引流板嵌固連接,所述復(fù)位條安裝于板面內(nèi)部,所述增力面呈連續(xù)三角形結(jié)構(gòu)。
作為本發(fā)明的進(jìn)一步優(yōu)化,所述緩沖機(jī)構(gòu)包括銜接塊、聯(lián)動(dòng)塊、接觸面、彈性條,所述聯(lián)動(dòng)塊與銜接塊活動(dòng)卡合,所述接觸面嵌固于聯(lián)動(dòng)塊的下端位置,所述彈性條安裝于接觸面與銜接塊之間,所述彈性條采用彈性較強(qiáng)的彈簧鋼材質(zhì)。
作為本發(fā)明的進(jìn)一步優(yōu)化,所述接觸面包括承接面、減觸板、回彈片,所述減觸板與承接面鉸鏈連接,所述回彈片安裝于兩個(gè)減觸板之間,所述回彈片呈弧形結(jié)構(gòu)。
本發(fā)明具有如下有益效果:
1、當(dāng)升降端上的噴淋頭需要對(duì)操作臺(tái)上的芯片進(jìn)行蝕刻時(shí),通過升降端帶動(dòng)噴淋頭進(jìn)行下降,通過操作臺(tái)上的芯片對(duì)噴淋頭上的阻流板產(chǎn)生向上的推力,能夠使阻流板沿著外框向上擺動(dòng),從而使阻流板傾斜的面能夠與芯片的邊側(cè)相貼合,有效的避免了噴在傾斜的芯片上表面的腐蝕液體,會(huì)流入芯片邊側(cè)的情況。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
- 傳感設(shè)備、檢索設(shè)備和中繼設(shè)備
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