[發(fā)明專利]一種芯片蝕刻設(shè)備在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010433455.8 | 申請日: | 2020-05-21 |
| 公開(公告)號: | CN111564390A | 公開(公告)日: | 2020-08-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 李偉明 | 申請(專利權(quán))人: | 廣州冰鈁商貿(mào)有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 510000 廣東省廣州市*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 芯片 蝕刻 設(shè)備 | ||
1.一種芯片蝕刻設(shè)備,其結(jié)構(gòu)包括蝕刻機(1)、導(dǎo)軌(2)、操作臺(3)、噴淋頭(4)、升降端(5)、護(hù)罩(6),所述導(dǎo)軌(2)嵌固于蝕刻機(1)的內(nèi)壁位置,所述操作臺(3)安裝于蝕刻機(1)的內(nèi)部位置,所述升降端(5)與導(dǎo)軌(2)活動卡合,所述護(hù)罩(6)與蝕刻機(1)鉸鏈連接,其特征在于:所述噴淋頭(4)與升降端(5)為一體化結(jié)構(gòu)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種芯片蝕刻設(shè)備,其特征在于:所述噴淋頭(4)包括外框(41)、活動片(42)、彈力片(43)、阻流板(44)、導(dǎo)塊(45)、引導(dǎo)機構(gòu)(46),所述活動片(42)的一端與外框(41)的內(nèi)壁相連接,且活動片(42)的另一端與導(dǎo)塊(45)活動卡合,所述彈力片(43)安裝于外框(41)的內(nèi)壁與阻流板(44)之間,所述阻流板(44)與外框(41)鉸鏈連接,所述導(dǎo)塊(45)與阻流板(44)嵌固連接,所述引導(dǎo)機構(gòu)(46)與外框(41)為一體化機構(gòu)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種芯片蝕刻設(shè)備,其特征在于:所述阻流板(44)包括外殼(a1)、彈力條(a2)、變形膜(a3)、撞擊球(a4)、附著面(a5),所述彈力條(a2)安裝于外殼(a1)的內(nèi)壁上端位置,所述變形膜(a3)與外殼(a1)嵌固連接,所述撞擊球(a4)與彈力條(a2)相連接,所述附著面(a5)與外殼(a1)為一體化結(jié)構(gòu)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種芯片蝕刻設(shè)備,其特征在于:所述附著面(a5)包括底塊(a51)、底塊(a51)、擺動板(a53),所述彈性片(a52)安裝于底塊(a51)與擺動板(a53)之間,所述擺動板(a53)與底塊(a51)鉸鏈連接。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種芯片蝕刻設(shè)備,其特征在于:所述引導(dǎo)機構(gòu)(46)包括引流板(b 1)、增力面(b2)、緩沖機構(gòu)(b3)、復(fù)位條(b4)、板面(b5),所述引流板(b 1)與板面(b5)間隙配合,所述增力面(b2)與引流板(b 1)為以一體化結(jié)構(gòu),所述緩沖機構(gòu)(b3)與引流板(b1)嵌固連接,所述復(fù)位條(b4)安裝于板面(b5)內(nèi)部。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種芯片蝕刻設(shè)備,其特征在于:所述緩沖機構(gòu)(b3)包括銜接塊(b31)、聯(lián)動塊(b32)、接觸面(b33)、彈性條(b34),所述聯(lián)動塊(b32)與銜接塊(b31)活動卡合,所述接觸面(b33)嵌固于聯(lián)動塊(b32)的下端位置,所述彈性條(b34)安裝于接觸面(b33)與銜接塊(b31)之間。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種芯片蝕刻設(shè)備,其特征在于:所述接觸面(b33)包括承接面(c 1)、減觸板(c2)、回彈片(c3),所述減觸板(c2)與承接面(c 1)鉸鏈連接,所述回彈片(c3)安裝于兩個減觸板(c2)之間。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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