[發(fā)明專利]一種復(fù)合型二氧化鈦介孔薄膜電極材料及其制備方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010430042.4 | 申請(qǐng)日: | 2020-05-20 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN111564325B | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-06-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 熊幫云;李靜靜;彭銀錠;樊婷 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 佛山科學(xué)技術(shù)學(xué)院 |
| 主分類號(hào): | H01G11/46 | 分類號(hào): | H01G11/46;H01G11/86;H01G11/30 |
| 代理公司: | 北京東方盛凡知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11562 | 代理人: | 張雪 |
| 地址: | 528000 廣*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 復(fù)合型 氧化 鈦介孔 薄膜 電極 材料 及其 制備 方法 | ||
本發(fā)明公開(kāi)一種復(fù)合型二氧化鈦介孔薄膜電極材料及其制備方法,制備方法包括:向鹽酸溶液中添加鈦源和銻源化合物,攪拌混合后在水熱反應(yīng)得前驅(qū)體溶液,將溶液進(jìn)行噴霧干燥、高溫煅燒得介孔空心球狀銻摻雜二氧化鈦復(fù)合材料;置于鹽酸溶液中,超聲分散,攪拌條件下加入吡咯單體,攪拌均勻后逐滴滴加氧化劑,反應(yīng)完成后靜置,過(guò)濾、烘干,得聚吡咯@銻/二氧化鈦復(fù)合材料;將制得的聚吡咯@銻/二氧化鈦復(fù)合材料與聚偏氟乙烯均勻混合,加入1?甲基?2?吡硌烷酮調(diào)成漿料,均勻地涂覆于導(dǎo)電基底上,干燥后進(jìn)行煅燒處理,得到所述的薄膜電極材料。本發(fā)明制備的復(fù)合薄膜材料顯著提高了二氧化鈦電極材料的光電性能,且結(jié)構(gòu)緊密,性能穩(wěn)定。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于光電轉(zhuǎn)化、光電池或薄膜電池領(lǐng)域,具體涉及一種復(fù)合型二氧化鈦介孔薄膜電極材料及其制備方法。
背景技術(shù)
二氧化鈦?zhàn)鳛橐环N半導(dǎo)體材料,近年來(lái),作為一種有希望的超級(jí)電容器電極材料而受到廣泛關(guān)注,然而TiO2帶隙能較大,光生載流子的復(fù)合率高,太陽(yáng)能的利用率低,量子效率低,因此需要通過(guò)改性來(lái)提高基于TiO2電極的可見(jiàn)光的利用率和減少電子-空穴對(duì)的復(fù)合幾率。目前具體改性方法有離子摻雜、貴金屬沉積、半導(dǎo)體復(fù)合、有機(jī)染料改性等方法。金屬離子摻雜和重金屬沉積雖然可以改善TiO2在可見(jiàn)光下的活性,但由于金屬離子容易形成電子-空穴的復(fù)合中心,需精確控制摻雜濃度,濃度過(guò)高,極易產(chǎn)生金屬簇,阻塞TiO2表面,使TiO2在紫外光下的活性下降或者可見(jiàn)光下的活性遠(yuǎn)低于紫外光下的活性;同時(shí)金屬摻雜成本較高且使TiO2的穩(wěn)定性變差。半導(dǎo)體復(fù)合材料的穩(wěn)定性和使用壽命往往不盡人意,而有機(jī)染料大多數(shù)具有毒性,并且容易污染環(huán)境。
發(fā)明內(nèi)容
基于上述技術(shù)問(wèn)題,本發(fā)明提供一種復(fù)合型二氧化鈦介孔薄膜電極材料及其制備方法。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供一種復(fù)合型二氧化鈦介孔薄膜電極材料的制備方法,包括以下步驟:
(1)向鹽酸溶液中添加鈦源和銻源化合物,攪拌混合后在160-180℃條件下水熱反應(yīng)4-6h得前驅(qū)體溶液,將溶液進(jìn)行噴霧干燥、高溫煅燒得介孔空心球狀銻摻雜二氧化鈦復(fù)合材料;
(2)將步驟(1)制備的銻摻雜二氧化鈦復(fù)合材料置于鹽酸溶液中,超聲分散,攪拌條件下加入吡咯單體,攪拌均勻后逐滴滴加氧化劑,反應(yīng)完成后靜置,過(guò)濾、烘干,得聚吡咯@銻/二氧化鈦復(fù)合材料;
(3)將步驟(2)制得的聚吡咯@銻/二氧化鈦復(fù)合材料與聚偏氟乙烯均勻混合,加入1-甲基-2-吡硌烷酮調(diào)成漿料,均勻地涂覆于導(dǎo)電基底上,干燥后進(jìn)行煅燒處理,得到所述的薄膜電極材料。
優(yōu)選的,所述步驟(1)中鈦源為鈦酸異丙酯或鈦酸正丁酯,所述銻源為三氯化銻,鹽酸溶液的物質(zhì)的量濃度為3-5mol/L,所述鈦源和銻源的摩爾比為(5-8)∶1,銻源物質(zhì)的量濃度為3-5mmol/L。
優(yōu)選的,所述步驟(1)中所述的高溫煅燒溫度300-500℃,煅燒時(shí)間2-5h,煅燒升溫速率為5-10℃/min。
優(yōu)選的,所述步驟(2)中,鹽酸溶液的物質(zhì)的量濃度為1-2mol/L,滴加氧化劑過(guò)程在0℃的冰浴條件下完成,吡咯單體溶液的濃度為0.05-0.2mol/L,氧化劑與吡咯單體的摩爾比為(0.5-1.2)∶1,吡咯單體和銻摻雜二氧化鈦摩爾比例為(1-2)∶(4-1)。
優(yōu)選的,所述步驟(2)中氧化劑為三氯化鐵、過(guò)硫酸鉀或者過(guò)硫酸銨。
優(yōu)選的,步驟(2)所述反應(yīng)時(shí)間24h,烘干溫度40-60℃,干燥時(shí)間12-24h。
優(yōu)選的,步驟(3)所述聚吡咯@銻/二氧化鈦納米粉末與聚偏氟乙烯、1-甲基-2-吡硌烷酮的質(zhì)量比為1:(0.2~0.5):(1~3)。
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