[發(fā)明專利]電子束偏轉(zhuǎn)掃描裝置及應(yīng)用方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010424817.7
• 申請(qǐng)日: 2020-05-19
• 公開（公告）號(hào): CN111479378A
• 公開（公告）日: 2020-07-31
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 賈朝偉;李琦;曾利;嚴(yán)鵬程
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 四川智研科技有限公司
• 主分類號(hào): H05H7/00
• 分類號(hào): H05H7/00
• 代理公司: 北京遠(yuǎn)大卓悅知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11369
• 代理人: 蔣海燕

1.一種電子束偏轉(zhuǎn)掃描裝置，其特征在于，包括：

產(chǎn)生點(diǎn)狀電子束的電子加速管；

對(duì)點(diǎn)狀電子束進(jìn)行掃描的一套二級(jí)電磁鐵，其被配置為包括：相配合的磁極、磁軛和激磁線圈，以構(gòu)成產(chǎn)生預(yù)定波形的偏轉(zhuǎn)掃描磁場；

所述點(diǎn)狀電子束經(jīng)過二極磁鐵時(shí)，被偏轉(zhuǎn)掃描磁場偏轉(zhuǎn)一個(gè)預(yù)定的角度，并以此預(yù)定角度為中心掃描展開形成帶狀電子束，通過引出窗進(jìn)入大氣中。

2.如權(quán)利要求1所述的電子束偏轉(zhuǎn)掃描裝置，其特征在于，所述磁軛上套有一組第一激磁線圈，以同時(shí)產(chǎn)生偏轉(zhuǎn)及掃描磁場。

3.如權(quán)利要求1所述的電子束偏轉(zhuǎn)掃描裝置，其特征在于，所述磁軛上被配置為套有兩組第二激磁線圈；

其中，一組第二激磁線圈被用于獨(dú)立產(chǎn)生直流偏轉(zhuǎn)磁場，另一組第二激磁線圈被用于獨(dú)立產(chǎn)生掃描磁場，通過兩個(gè)磁場的疊加合成形成相應(yīng)的偏轉(zhuǎn)及掃描磁場。

4.如權(quán)利要求1所述的電子束偏轉(zhuǎn)掃描裝置，其特征在于，所述二極磁鐵產(chǎn)生的偏轉(zhuǎn)掃描磁場，使電子束偏轉(zhuǎn)一個(gè)預(yù)定的角度；

其中，所述預(yù)定角度的范圍控制在0～145度。

5.如權(quán)利要求1所述的電子束偏轉(zhuǎn)掃描裝置，其特征在于，所述二極磁鐵產(chǎn)生的掃描磁場，能使電子束以預(yù)定偏轉(zhuǎn)角度為中心，左右掃描展開另一預(yù)定角度，且其角度范圍控制在±15～25度的范圍內(nèi)。

6.如權(quán)利要求1所述的電子束偏轉(zhuǎn)掃描裝置，其特征在于，在所述二極磁鐵之前，設(shè)置一個(gè)對(duì)點(diǎn)狀電子束進(jìn)行短方向展寬的橫向展開磁鐵，以對(duì)電子束在引出窗的短方向上進(jìn)行小角度展寬，且其展開角度被配置在±1～5度的范圍內(nèi)。

7.一種應(yīng)用如權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述電子束偏轉(zhuǎn)掃描裝置的方法，其特征在于，包括：

通過二極磁鐵將入射的點(diǎn)狀電子束整體偏轉(zhuǎn)預(yù)定角度，同時(shí)圍繞其偏轉(zhuǎn)方向，在另一預(yù)定的正負(fù)夾角范圍內(nèi)掃描散開成帶狀電子束。

8.如權(quán)利要求7所述的電子束偏轉(zhuǎn)掃描裝置應(yīng)用方法，其特征在于，所述二極磁鐵上磁軛在只配置一組第一激磁線圈時(shí)，偏轉(zhuǎn)磁場和掃描磁場都由第一激磁線圈產(chǎn)生，其中的激磁電流被配置為在一個(gè)偏轉(zhuǎn)用直流波形的基礎(chǔ)上，疊加一個(gè)掃描展開用的鋸齒波形；

其中，所述直流波形的幅值與電子束的偏轉(zhuǎn)角度呈正比，所述鋸齒波形幅值與電子束掃描展開的幅度呈正比。

9.如權(quán)利要求7所述的電子束偏轉(zhuǎn)掃描裝置，其特征在于，所述二極磁鐵上磁軛被配置為具有兩組第二激磁線圈時(shí)，包括：

一組第二激磁線圈用以獨(dú)立產(chǎn)生直流偏轉(zhuǎn)磁場，激磁電流被配置為直流波形，所述直流波形的幅值與電子束的偏轉(zhuǎn)角度呈正比；

另一組第二激磁線圈用以獨(dú)立產(chǎn)生掃描磁場，激磁電流被配置為鋸齒波形，所述鋸齒波形幅值與電子束掃描展開的幅度呈正比；

所述偏轉(zhuǎn)掃描磁場由兩個(gè)磁場疊加合成以得到。