[發(fā)明專利]陣列基板及其制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010424574.7 | 申請日: | 2020-05-19 |
| 公開(公告)號: | CN111610659A | 公開(公告)日: | 2020-09-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 奚蘇萍 | 申請(專利權(quán))人: | 深圳市華星光電半導(dǎo)體顯示技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1335 | 分類號: | G02F1/1335;G02F1/1337;G02F1/1333 |
| 代理公司: | 深圳紫藤知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44570 | 代理人: | 刁文魁 |
| 地址: | 518132 廣東省深*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 陣列 及其 制備 方法 | ||
本申請?zhí)峁┮环N陣列基板及其制備方法,該陣列基板包括依次設(shè)置的基底、色阻層、平坦層、像素電極層、多個第一填充體和配向?qū)?,色阻層上開設(shè)有至少一第一開孔;平坦層覆蓋第一開孔,平坦層對應(yīng)于第一開孔內(nèi)的部分上開設(shè)有一第一過孔;像素電極層包括多個連接走線,每一連接走線對應(yīng)覆蓋一第一過孔并形成一第一凹部;第一填充體一一對應(yīng)填充于一第一凹部;配向?qū)痈采w第一填充體。本申請?zhí)岣吡伺湎驅(qū)雍穸鹊木恍?,提升了顯示面板的顯示品質(zhì)。
技術(shù)領(lǐng)域
本申請涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種陣列基板及其制備方法。
背景技術(shù)
隨著顯示技術(shù)的發(fā)展,液晶顯示器等平面顯示裝置因其具有高畫質(zhì)等優(yōu)點,而廣泛應(yīng)用于手機、電視等電子產(chǎn)品中。
在液晶顯示器顯示面板的像素設(shè)計中,一般需要通過過孔來實現(xiàn)不同金屬走線之間的導(dǎo)通。然而,在目前的COA(Color Filter OnArray,彩色濾光層制作在陣列基板上)技術(shù)中,由于色阻制作工藝的限制,使得色阻上的開孔較大,進而導(dǎo)致像素中的過孔較大。當(dāng)在色阻上方的膜層上涂布配向液時,配向液會堆積在過孔內(nèi),導(dǎo)致配向?qū)拥暮穸炔痪?,進而影響了色阻開孔附近液晶分子的導(dǎo)向,從而降低了顯示面板的顯示品質(zhì)。
發(fā)明內(nèi)容
本申請?zhí)峁┮环N陣列基板及其制備方法,以解決因配向液堆積在過孔內(nèi)而配向?qū)雍穸炔痪坏募夹g(shù)問題。
本申請?zhí)峁┮环N陣列基板,其包括:
基底;
色阻層,所述色阻層設(shè)置于所述基底上,所述色阻層上開設(shè)有至少一第一開孔;
平坦層,所述平坦層設(shè)置于所述色阻層上,且覆蓋所述第一開孔,所述平坦層對應(yīng)于所述第一開孔內(nèi)的部分上開設(shè)有一第一過孔;
像素電極層,所述像素電極層設(shè)置在所述平坦層上,所述像素電極層包括多個連接走線,每一所述連接走線對應(yīng)覆蓋一所述第一過孔并形成一第一凹部;
多個第一填充體,所述第一填充體一一對應(yīng)填充于一所述第一凹部;以及
配向?qū)?,所述配向?qū)釉O(shè)置于所述像素電極層上并覆蓋所述第一填充體。
在本申請所述的陣列基板中,所述陣列基板還包括依次設(shè)置于所述基底上的柵極金屬層、柵極絕緣層、有源層和源漏金屬層,所述色阻層設(shè)置于所述源漏金屬層上;
所述柵極金屬層包括公共電極走線,所述第一過孔還貫穿所述柵極絕緣層并裸露出所述公共電極走線,所述連接走線的一端覆蓋所述第一過孔且與所述公共電極走線相連。
在本申請所述的陣列基板中,所述源漏金屬層包括源極和與所述源極相連的源極走線,所述平坦層上還開設(shè)有多個第二過孔,所述第二過孔貫穿所述色阻層并裸露出所述源極走線,所述第二過孔的一側(cè)與所述第一過孔連通;
所述連接走線的另一端覆蓋所述第二過孔并形成一第二凹部,所述第二凹部連通于所述第一凹部,所述連接走線的另一端與所述源極走線相連,所述第一填充體填充于所述第二凹部內(nèi)。
在本申請所述的陣列基板中,所述源漏金屬層包括源極和與所述源極相連的源極走線,所述平坦層上還開設(shè)有多個第二過孔,所述第二過孔貫穿所述色阻層并裸露出所述源極走線;
所述連接走線的另一端覆蓋所述第二過孔并形成一第二凹部,所述連接走線的另一端與所述源極走線相連,所述陣列基板還包括多個第二填充體,所述第二填充體一一對應(yīng)填充于一所述第二凹部。
在本申請所述的陣列基板中,所述平坦層對應(yīng)于每一所述第一開孔的部分包括一第三凹部,所述第三凹部位于所述第一過孔遠(yuǎn)離所述基底的一側(cè),且對應(yīng)連通于一所述第一過孔;
每一所述連接走線對應(yīng)覆蓋一所述第三凹部并形成一第四凹部,每一所述第四凹部對應(yīng)連通于一所述第一凹部,所述第一填充體還一一對應(yīng)填充于一所述第四凹部。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于深圳市華星光電半導(dǎo)體顯示技術(shù)有限公司,未經(jīng)深圳市華星光電半導(dǎo)體顯示技術(shù)有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202010424574.7/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





