[發(fā)明專利]含氮化合物、電子元件和電子裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010414445.X | 申請日: | 2020-05-15 |
| 公開(公告)號: | CN111377853B | 公開(公告)日: | 2021-04-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 楊敏;馬天天;南朋 | 申請(專利權(quán))人: | 陜西萊特光電材料股份有限公司 |
| 主分類號: | C07D213/16 | 分類號: | C07D213/16;C07D239/26;C07D251/24;C07D401/04;C07D401/10;C07D401/14;C07D403/04;C07D403/10;C07D405/04;C07D409/04;C07D411/14;C07D413/04;C07D471/04 |
| 代理公司: | 北京律智知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11438 | 代理人: | 闞梓瑄 |
| 地址: | 710065 陜西省*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 氮化 電子元件 電子 裝置 | ||
1.一種含氮化合物,其特征在于,所述含氮化合物的結(jié)構(gòu)如化學(xué)式1所示:
其中,表示化學(xué)鍵;
X1為N;
X2選自C或N;
X3為N;
R1、R2和R3分別獨立地選自氫或化學(xué)式1-1所示的基團(tuán),且所述R1、R2和R3僅有一個為化學(xué)式1-1所示的基團(tuán),當(dāng)R1、R2或R3選自氫時,選自氫的所述R1、R2或R3能被R5取代;
R4、R5相同或不同,分別獨立地選自氘、氟、苯基;
a選自0,1,2,3或4,當(dāng)a大于1時,任意兩個R4相同或不同;
b選自0,1,2或3,當(dāng)b大于1時,任意兩個R5相同或不同;
L選自取代的亞苯基、取代的亞萘基、取代或未取代的亞芴基、取代的亞聯(lián)苯基、取代或未取代的亞三聯(lián)苯基、取代或未取代的亞二苯并呋喃基、取代或未取代的亞二苯并噻吩基、取代或未取代的亞N-苯基咔唑基;
L的取代基選自氘、氟、氰基、碳原子數(shù)為1-5的烷基、苯基、萘基、聯(lián)苯基;
Ar1和Ar2分別獨立地選自以下取代或未取代的基團(tuán):苯基、萘基、聯(lián)苯基、二苯并呋喃基、二苯并噻吩基;
所述Ar1和Ar2的取代基分別獨立地選自氘、氟、苯基、萘基、聯(lián)苯基、碳原子數(shù)為1-5的烷基。
2.一種含氮化合物,其特征在于,所述含氮化合物的結(jié)構(gòu)如化學(xué)式1所示:
其中,表示化學(xué)鍵;
X1為N;
X2選自C或N;
X3為N;
R1、R2和R3分別獨立地選自氫或化學(xué)式1-1所示的基團(tuán),且所述R1、R2和R3僅有一個為化學(xué)式1-1所示的基團(tuán),當(dāng)R1、R2或R3選自氫時,選自氫的所述R1、R2或R3能被R5取代;
R4、R5相同或不同,分別獨立地選自氘、氟、苯基;
a選自0,1,2,3或4,當(dāng)a大于1時,任意兩個R4相同或不同;
b選自0,1,2或3,當(dāng)b大于1時,任意兩個R5相同或不同;
L選自取代或未取代的亞苯基、取代或未取代的亞萘基、取代或未取代的亞芴基、取代的亞聯(lián)苯基、取代或未取代的亞三聯(lián)苯基、取代或未取代的亞二苯并呋喃基、取代或未取代的亞二苯并噻吩基、取代或未取代的亞N-苯基咔唑基;
L的取代基選自氘、氟、氰基、碳原子數(shù)為1-5的烷基、苯基、萘基、聯(lián)苯基;
Ar1和Ar2分別獨立地選自取代的苯基、取代的萘基、取代的聯(lián)苯基、取代的二苯并呋喃基、取代的二苯并噻吩基;
所述Ar1和Ar2的取代基分別獨立地選自氘、氟、萘基、聯(lián)苯基、碳原子數(shù)為1-5的烷基。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的含氮化合物,其特征在于,L選自如下基團(tuán)所組成的組:
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的含氮化合物,其特征在于,L選自如下基團(tuán)所組成的組:
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