[發明專利]用于生成電路版圖圖案的方法、設備和存儲介質

有效

• 申請號: 202010414302.9
• 申請日: 2020-05-15
• 公開（公告）號: CN111597769B
• 公開（公告）日: 2023-08-25
• 發明（設計）人: 請求不公布姓名
• 申請（專利權）人: 全芯智造技術有限公司
• 主分類號: G06F30/392
• 分類號: G06F30/392;G06F30/398
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 黃倩

1.一種生成電路版圖圖案的方法，包括：

獲取與電路版圖中的幾何圖形的尺寸和位置相關的約束條件；

從所述約束條件，確定用于約束單個幾何圖形的尺寸范圍和用于約束相鄰幾何圖形的間距范圍；以及

基于所述尺寸范圍和所述間距范圍，生成樣本圖案集，所述樣本圖案集中的樣本圖案包括至少一個幾何圖形；

其中生成所述樣本圖案集包括：

基于所述尺寸范圍，確定與單個幾何圖形的尺寸有關的至少一組候選尺寸；

基于所述間距范圍，確定與幾何圖形之間的相對位置有關的一組候選間距；以及

通過組合所述至少一組候選尺寸中的候選尺寸和所述一組候選間距中的候選間距，生成所述樣本圖案集中的多個樣本圖案。

2.根據權利要求1所述的方法，其中生成所述樣本圖案集中的多個樣本圖案包括：

從所述至少一組候選尺寸中，選擇多個目標尺寸；

從所述一組候選間距中，選擇目標間距；以及

通過以所述目標間距布置相鄰幾何圖形，生成所述多個樣本圖案中包括所述相鄰幾何圖形的樣本圖案，所述相鄰幾何圖形具有所述多個目標尺寸的相應尺寸。

3.根據權利要求2所述的方法，其中所述目標間距表示所述相鄰幾何圖形在第一方向上的距離，并且布置所述相鄰幾何圖形包括以下中的一項：

使所述相鄰幾何圖形在所述第一方向上對齊，或

使所述相鄰幾何圖形在第二方向上相對移位，其中，所述第二方向與所述第一方向垂直。

4.根據權利要求2所述的方法，其中所述相鄰幾何圖形包括以下至少一項：

在長度方向上相鄰的長方形，

在寬度方向上相鄰的長方形，

在長度方向上偏移的長方形，或

在寬度方向上偏移的長方形。

5.根據權利要求1所述的方法，其中所述樣本圖案集中的樣本圖案在以下一個或多個方面彼此不同：

所包括的幾何圖形的數目，

所包括的幾何圖形的尺寸，

所包括的多個幾何圖形之間的間距，或

所包括的多個幾何圖形之間的對齊性。

6.根據權利要求5所述的方法，其中所述對齊性包括：

所述多個幾何圖形的中心對齊，

所述多個幾何圖形的中心不對齊，

所述多個幾何圖形的端部對齊，或

所述多個幾何圖形的端部不對齊。

7.根據權利要求1所述的方法，其中獲取所述約束條件包括：

標識參考電路版圖中的多個邊界元素，邊界元素表示所述參考電路版圖中的相應參考幾何圖形的邊界的至少一部分；

基于所述多個邊界元素在所述參考電路版圖中的位置，確定所述多個邊界元素彼此之間的距離；以及

基于確定的所述距離，確定所述約束條件。

8.根據權利要求1所述的方法，還包括：

獲得針對所述電路版圖的另外的樣本圖案集，所述樣本圖案集和所述另外的樣本圖案集包括不同類型的樣本圖案，所述不同類型的樣本圖案分別與所述電路版圖中的不同組成元素相關；以及

通過組合所述樣本圖案集和所述另外的樣本圖案集中的個體樣本圖案，生成所述電路版圖的局部圖案。

9.根據權利要求8所述的方法，其中組合所述樣本圖案集和所述另外的樣本圖案集中的個體樣本圖案是基于以下至少一項：

所述局部圖案中相同類型的樣本圖案的數目，

所述相同類型的樣本圖案的相對位置，或

所述局部圖案中不同類型的樣本圖案的相對位置。