[發明專利]一種水處理裝置

在審

• 申請號: 202010354017.2
• 申請日: 2020-04-29
• 公開（公告）號: CN111517541A
• 公開（公告）日: 2020-08-11
• 發明（設計）人: 何頔;李曉翔;陳發源;杜星
• 申請（專利權）人: 廣東工業大學
• 主分類號: C02F9/08
• 分類號: C02F9/08
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 趙煥

1.一種水處理裝置，其特征在于，包括輸水管道(2)和串接在所述輸水管道(2)上的電解超聲波處理器(5)，所述電解超聲波處理器(5)包括：

電解槽(5a)；

設置于所述電解槽(5a)內的陰極(5c)和陽極(5d)，所述陰極(5c)和陽極(5d)均為微孔電極，所述陰極(5c)和陽極(5d)能夠電解含有氯離子的水以產生氯氣；

超聲波發生器(5b)，所述超聲波發生器(5b)的超聲探頭(5b1)伸入所述電解槽(5a)內。

2.根據權利要求1所述的水處理裝置，其特征在于，所述微孔電極上的微孔孔隙為10-50um。

3.根據權利要求1所述的水處理裝置，其特征在于，所述陽極(5d)包括陽極基板和覆蓋所述陽極基板表面的鍍層，所述陽極基板為鈦基板，且所述鍍層的材質為釕銥、釕、釕錫、釕銥鉈、釕銥錫、二氧化鉛或釕銥錫鈷；和/或，

所述陰極(5c)為鈦板。

4.根據權利要求1所述的水處理裝置，其特征在于，還包括控制器和位于所述電解槽(5a)內部的余氯傳感器，所述控制器調控所述陰極(5c)和陽極(5d)間的電解電流以使所述電解槽(5a)內的余氯濃度保持在設定值。

5.根據權利要求1所述的水處理裝置，其特征在于，所述超聲波發生器(5b)間歇的發射超聲波。

6.根據權利要求1-5中任一項所述的水處理裝置，其特征在于，還包括串接在所述輸水管道(2)上的排氣部件，所述排氣部件位于所述電解超聲波處理器(5)的下游。

7.根據權利要求6所述的水處理裝置，其特征在于，所述排氣部件具體為除氣罐(7)，且所述除氣罐(7)的上側開設有排氣管(7a)。

8.根據權利要求1-5中任一項所述的水處理裝置，其特征在于，還包括串接在所述輸水管道(2)上的自動反沖洗過濾器(4)，且所述自動反沖洗過濾器(4)位于所述電解超聲波處理器(5)的上游。

9.根據權利要求1-5中任一項所述的水處理裝置，其特征在于，還包括串接在所述輸水管道(2)上的增壓部件。

10.根據權利要求9所述的水處理裝置，其特征在于，所述增壓部件包括分別位于所述電解超聲波處理器(5)上游和下游的兩個水泵。