[發明專利]微透鏡組件、制備方法、光學指紋模組及電子裝置

在審

• 申請號: 202010340327.9
• 申請日: 2020-04-26
• 公開（公告）號: CN111353480A
• 公開（公告）日: 2020-06-30
• 發明（設計）人: 劉偉;鄭剛強;任金虎;黃梅峰
• 申請（專利權）人: 歐菲微電子技術有限公司
• 主分類號: G06K9/00
• 分類號: G06K9/00;G02B3/00
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 閆曉欣

本發明涉及一種微透鏡組件、制備方法、光學指紋模組及電子裝置。一種微透鏡組件，包括：透明基板；壓印基底，設于透明基板上；微透鏡陣列，包括若干個設于壓印基底的遠離透明基板的表面，且呈陣列排布的微透鏡；相鄰微透鏡之間有間隔；以及遮光層，完全覆蓋壓印基底的未被微透鏡覆蓋的部分，并部分覆蓋微透鏡；遮光層具有若干個與微透鏡一一對應的鏤空結構；在垂直于工作面的方向，鏤空結構的中心軸線與對應的微透鏡的中心軸線共線；在垂直于工作面的方向，鏤空結構在微透鏡上的投影全部落在微透鏡上，并與微透鏡的邊緣有間隔。上述微透鏡組件，即避免了透明基板因設置凹槽而導致的強度的降低，也不會影響透明基板上二極管等元件的布局。

技術領域

本發明涉及微透鏡領域，特別是涉及一種微透鏡組件、制備方法、光學指紋模組及電子裝置。

背景技術

微透鏡陣列是指若干個呈陣列狀排布的微納尺度的透鏡群組。它不僅具有傳統透鏡的聚焦、成像等基本功能，而且具有單元尺寸小、集成度高的特點，使得它能夠完成傳統光學元件無法完成的功能，并能構成許多新型的光學系統。一般地，為了避免傾斜角度較大的光射入微透鏡后再透過壓印基底后成像，往往在透明基板上設置凹槽，并在凹槽內設置遮光材料的方式，遮擋入射的傾斜角度較大的光。然而該方式需要改變透明基板的結構，導致透明基板強度降低，同時還可能影響透明基板上二極管等元件的布局。

發明內容

基于此，有必要提供一種不改變透明基板的機構也可阻擋傾斜角度較大的光射入微透鏡的微透鏡組件。

一種微透鏡組件，包括：

透明基板，具有工作面；

壓印基底，設于所述透明基板的工作面上；

微透鏡陣列，包括若干個設于所述壓印基底的遠離所述透明基板的表面，且呈陣列排布的微透鏡；相鄰所述微透鏡之間有間隔；以及

遮光層，完全覆蓋所述壓印基底的未被所述微透鏡覆蓋的部分，并部分覆蓋所述微透鏡；所述遮光層具有若干個與所述微透鏡一一對應的鏤空結構；在垂直于所述工作面的方向，所述鏤空結構的中心軸線與對應的所述微透鏡的中心軸線共線；在垂直于所述工作面的方向，所述鏤空結構在所述微透鏡上的投影全部落在所述微透鏡上，并與所述微透鏡的邊緣有間隔。

上述微透鏡組件，遮光層覆蓋微透鏡的邊緣，直接阻擋傾斜角較大的光射入微透鏡。另外遮光層位于壓印基底的遠離透明基板的一側，從而無需改變透明基板的結構即可實現對傾斜角較大的光的阻擋，即避免了透明基板因設置凹槽而導致的強度的降低，也不會影響透明基板上二極管等元件的布局。

在其中一個實施例中，沿與所述工作面平行的方向，所述鏤空結構在所述壓印基底上的投影與對應的所述微透鏡的邊緣的間隔≤2.5μm。從而，一方面可以遮擋射入微透鏡邊緣的傾斜角度較大的光；另一方面也避免微透鏡被覆蓋較多而導致穿過微透鏡的光過少而影響成像效果。

在其中一個實施例中，所述遮光層的遠離所述壓印基底的表面設有凸起；所述凸起圍成若干個與所述微透鏡一一對應的凹陷；所述微透鏡位于所述凹陷內，且與所述凸起之間有間隔；在垂直于所述工作面的方向，以所述工作面為基準，所述凸起的高度高于所述微透鏡的高度。從而，可以進一步遮擋射入微透鏡邊緣的傾斜角度較大的光。

在其中一個實施例中，在垂直于所述工作面的方向，以所述工作面為基準，所述凸起與所述微透鏡的高度差為5μm-10μm。在能夠較好的遮擋傾斜射入微透鏡的光以使得光學指紋模組具有較好成像效果外，還能避免因凸起的高度h1過高而較多的增加微透鏡組件的厚度。

在其中一個實施例中，垂直于所述工作面且由所述工作面指向所述凸起的方向，所述凸起的側面與對應的所述微透鏡的中心軸線在沿所述工作面的方向的距離逐漸增大。從而在形成遮光層的鏤空結構時，便于模具的脫模。