[發明專利]一種掩膜板、顯示面板及其制備方法在審
| 申請號： | 202010319152.3 | 申請日： | 2020-04-21 |
| 公開（公告）號： | CN111413846A | 公開（公告）日： | 2020-07-14 |
| 發明（設計）人： | 全海燕;呂曉文 | 申請（專利權）人： | TCL華星光電技術有限公司 |
| 主分類號： | G03F1/00 | 分類號： | G03F1/00 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知識產權代理有限公司 44570 | 代理人： | 李新干 |
| 地址： | 518132 廣東*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 掩膜板 顯示 面板 及其 制備 方法 | ||
1.一種掩膜板，其特征在于，包括橫向遮光條和所述橫向遮光條交叉的縱向遮光條，所述掩膜板在所述橫向遮光條和所述縱向遮光條的轉角處存在至少一個挖空區域。
2.根據權利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述挖空區域為圓形、菱形、正方形、三角形或不規則形狀中的一種。
3.根據權利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述挖空區域的中心點在轉角的中心軸線上。
4.根據權利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述橫向遮光條和所述縱向遮光條包括目標交叉區域，所述目標交叉區域處形成相對的第一轉角和第二轉角，所述第一轉角和第二轉角分別設置有挖空區域。
5.根據權利要求4所述的掩膜板，其特征在于，所述第一轉角的挖空區域和所述第二轉角的挖空區域形狀相同。
6.一種顯示面板，其特征在于，所述顯示面板包括至少一條金屬線，所述金屬線由權利要求1-5中任一種掩膜板制成。
7.一種顯示面板的制備方法，其特征在于，所述制備方法中，掩膜設計階段中使用的掩膜板包括橫向遮光條和所述橫向遮光條交叉的縱向遮光條，在所述橫向遮光條和所述縱向遮光條的轉角處進行挖空，以得到至少一個挖空區域。
8.根據權利要求7所述的顯示面板的制備方法，其特征在于，所述挖空區域為圓形、菱形、正方形、三角形或不規則形狀中的一種。
9.根據權利要求7所述的顯示面板的制備方法，其特征在于，所述挖空區域的中心點在轉角的中心軸線上。
10.根據權利要求7所述的顯示面板的制備方法，其特征在于，所述橫向遮光條和所述縱向遮光條包括目標交叉區域，所述目標交叉區域處形成相對的第一轉角和第二轉角，所述第一轉角和第二轉角分別設置有挖空區域。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其專門適用于此的容器；其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如通過電子束；其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜；其制備，例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜，例如用于校準或測試的特殊涂層或標記；其制備
