[發明專利]保護膜形成用復合片在審
| 申請號： | 202010317354.4 | 申請日： | 2020-04-21 |
| 公開（公告）號： | CN111849377A | 公開（公告）日： | 2020-10-30 |
| 發明（設計）人： | 佐伯尚哉 | 申請（專利權）人： | 琳得科株式會社 |
| 主分類號： | C09J7/30 | 分類號： | C09J7/30;C09J7/24;H01L21/683 |
| 代理公司： | 北京路浩知識產權代理有限公司 11002 | 代理人： | 張晶;敖蓮 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 保護膜 形成 復合 | ||
【權利要求書】：
1.一種保護膜形成用復合片，其具備支撐片、及設置在所述支撐片的一個面上的保護膜形成用膜，所述保護膜形成用膜的波長365nm的光的透射率為0.3％以下。
2.根據權利要求1所述的保護膜形成用復合片，其中，所述支撐片具備基材、及設置在所述基材的一個面上的粘著劑層，
所述粘著劑層配置在所述基材與所述保護膜形成用膜之間，
所述粘著劑層為能量射線固化性的粘著劑層。
3.根據權利要求1或2所述的保護膜形成用復合片，其中，所述保護膜形成用膜或其固化物與所述支撐片之間的粘著力小于370mN/25mm。
4.根據權利要求1～3中任一項所述的保護膜形成用復合片，其中，所述保護膜形成用膜的波長555nm的光的透射率為5％以下。
5.根據權利要求1～4中任一項所述的保護膜形成用復合片，其中，所述保護膜形成用膜的波長800nm的光的透射率小于20％。
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