[發明專利]一種光學組件、光刻系統以及光刻投影方法

在審

• 申請號: 202010312423.2
• 申請日: 2020-04-20
• 公開（公告）號: CN111367150A
• 公開（公告）日: 2020-07-03
• 發明（設計）人: 李建新;曾依蕾;楊忠憲
• 申請（專利權）人: 福建省晉華集成電路有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京聿宏知識產權代理有限公司 11372
• 代理人: 吳大建;金淼

本發明公開了一種光學組件、光刻系統以及光刻投影方法，通過在基底101上設置反射層102，在基底101背面和/或基底101與反射層102之間設置熱電層103，能夠通過熱電層103將光學組件中的熱能轉換為電能，從而及時把熱能從光學組件中傳導出去，降低了光學組件的溫度，避免了光學組件因受熱變形，有效提高了光學組件的穩定性。

技術領域

本發明涉及半導體制造技術領域，尤其涉及一種光學組件、光刻系統以及光刻投影方法。

背景技術

現有技術中極紫外光刻系統主要可以包括極紫外光源、光照系統、掩膜工作臺、投影系統和晶圓工作臺，通常極紫外光通過光照系統照射到掩膜工作臺上后，再通過投影系統反射到晶圓工作臺。因極紫外光的波長約在10納米～14納米，波長較短很容易被材料吸收，因此，在極紫外光通過光照系統、掩膜工作臺或投影系統中的光學元件例如反射鏡時，會有大量的能量損耗，同時產生熱能導致反射鏡形變，最終影響極紫外光刻系統制程的穩定性。

發明內容

本發明要解決的技術問題是：如何有效的解決光學組件由受熱變形導致的穩定性差的問題。

為解決上述技術問題，本發明提供了一種光學組件、光刻系統以及光刻投影方法。

本發明的第一個方面，提供了一種光學組件，其包括：

基底；

反射層，所述反射層位于所述基底上；

熱電層，所述熱電層位于所述基底背面和/或所述基底與所述反射層之間。

優選的，所述光學組件包括至少一個反射鏡元件。

優選的，所述光學組件包括光罩裝置或光收集裝置。

優選的，形成所述熱電層的材料包括石墨烯、碲化鉍、碲化鉛或硅鍺中的任意一種熱電材料。

優選的，所述熱電層設置為多層，相鄰兩層熱電層之間設置有導熱層。

優選的，所述熱電層設置為多層，多層熱電層連續堆疊設置。

優選的，多層熱電層由不同的熱電材料組成。

優選的，所述反射層包括布拉格反射層。

優選的，所述光學組件還包括至少一個冷卻通道，所述冷卻通道被設置為供冷卻介質通過。

本發明的第二個方面，提供了一種光刻系統，其包括光源裝置、照射裝置、圖案化裝置、投影裝置和晶圓支撐裝置，其中，

所述照射裝置設置為接收并調整所述光源裝置生成的輻射束；

所述圖案化裝置設置為將從所述照射裝置接收到的輻射束圖案化后，反射到所述投影裝置；

所述投影裝置設置為將圖案化后的輻射束投射到所述晶圓支撐裝置，

其中，所述光源裝置、照射裝置、圖案化裝置和投影裝置中至少一個包括如上任意一項所述的光學組件。

優選的，所述光源裝置發出的光源包括極紫外光源。

優選的，所述光刻系統還包括冷卻設備，所述冷卻設備設置為將所述光源裝置、照射裝置、圖案化裝置、投影裝置和晶圓支撐裝置中的至少一個的溫度冷卻至預設溫度。

本發明的第三個方面，提供了一種光刻投影方法，其包括：

使用照射裝置接收并調整光源裝置生成的輻射束；

利用圖案化裝置對從所述照射裝置接收到的輻射束圖案化，并將圖案化后的輻射束反射到投影裝置；

利用所述投影裝置將圖案化后的輻射束投射到晶圓支撐裝置，