[發明專利]一種頭顱表面立體定位穿刺顱內腦空間結構的技術

在審

• 申請號: 202010300740.2
• 申請日: 2020-04-16
• 公開（公告）號: CN111407376A
• 公開（公告）日: 2020-07-14
• 發明（設計）人: 趙華;趙雨萱;王全麗
• 申請（專利權）人: 趙華;趙雨萱
• 主分類號: A61B17/34
• 分類號: A61B17/34;A61B90/11;B29C64/386;B33Y50/00;A61N5/10
• 代理公司: 西安合創非凡知識產權代理事務所(普通合伙) 61248
• 代理人: 惠銀銀

本發明公開了一種頭顱表面立體定位穿刺顱內腦空間結構的技術，通過在頭顱表面穿刺區域周圍設計定位區域，在定位區域內設置定位框架，應用3D打印技術將頭顱表面定位穿刺區域內的影像數據制作成頭顱表面定位穿刺一體構件，在頭顱表面穿刺區域行顱骨開窗手術，頭顱表面定位區域內的定位框架，定位構件在頭顱表面三維立體空間上的位置，保證頭顱影像穿刺區域設計的穿刺針道和頭顱表面穿刺區域三維立體空間位置對應一致。本發明頭顱表面立體定位穿刺顱內腦空間結構的技術，能夠應用到任何相關定位穿刺顱內腦空間結構的學科領域，是有計劃微創介入診斷和微創介入治療顱內腦組織疾病的保障。該技術的應用使顱內腦疾病有計劃的微創介入治療成為可能。

技術領域

本發明涉及腦空間定位技術領域，具體涉及一種頭顱表面立體定位穿刺顱內腦空間結構的技術。

背景技術

目前沒有應用頭顱表面對顱內腦空間結構進行有計劃的多針道、多點位立體定位穿刺的方法，對顱內腦病變組織施行有計劃的穿刺，或者通過穿刺植入針在腦病變組織中有計劃的植入“治療載體”，對顱內腦疾病實施有計劃的微創介入治療。我們曾在頭顱表面引入面、軸、角的概念，結合顱內解剖標志點定位的方法，應用頭顱表面3D打印構件立體定位穿刺顱內腦空間結構，這種方法用頭顱的四面、五軸、兩角作為表面標志制作頭顱表面構件，設計頭顱表面構件時需要選擇足夠大的頭顱表面積。用該方法制作的頭顱表面構件，存在著以下不足：1.使用構件時需要影像下在頭顱表面復位構件，復位過程繁瑣；2.目前醫用3D打印材料打印出的構件，面積超過一定大小時，頭顱表面構件越靠近邊緣部分外翹越明顯，影響構件定位；3.過大的構件表面積，滅菌消毒時容易發生外形的改變，影響構件在頭顱表面定位顱內腦空間結構的精準度。本發明通過在穿刺區域周圍設計定位區域，在定位區域內設置定位框架，能夠人為的將構件面積控制在一定大小，減小構件在制作、消毒過程中外形改變；頭顱表面定位框架空間位置穩定，使用構件時不需要影像下在頭顱表面復位構件。

發明內容

為解決上述問題，本發明提供了一種頭顱表面立體定位穿刺顱內腦空間結構的技術。

為實現上述目的，本發明采取的技術方案為：

一種頭顱表面立體定位穿刺顱內腦空間結構的技術，包括如下步驟：

S1、應用影像技術在頭顱表面確定顱內腦空間結構的穿刺區域，并在頭顱表面穿刺區域周圍設計一定大小的定位區域，在定位區域內設置定位框架；其中，定位框架由定位標記物構成，定位標記物和定位框架具有下列特征：

a.定位標記物具有空間外形，在頭顱表面不發生空間位置改變,能夠被CT、或者CT和MRI影像數據記錄，在影像數據中定位標記物和頭顱表面融為一體，能夠引導頭顱CT影像之間、或者頭顱CT和MRI影像之間的對位融合；

b.定位框架由多個獨立的設置在頭顱表面的定位標記物構成，或者由多個定位標記物連接成一體后放置到頭顱表面構成，定位框架能夠定位構件在頭顱表面的空間位置，在影像上定位框架能夠立體定位顱腦三維立體空間結構；

S2、對頭顱表面穿刺區域周圍設置定位框架的患者行顱腦CT和MRI影像掃描，獲取定位區域設置有定位框架、穿刺區域影像數據上設計有穿刺針道的頭顱表面定位穿刺區域的影像數據；

S3、應用3D打印技術，將上述影像數據制作成頭顱表面構件，頭顱表面定位區域內構成定位框架的定位標記物，在構件上打印成同其外形一致的定位標記物鏤空結構。

進一步地，頭顱表面定位區域內的定位框架，同構件上的定位框架鏤空結構“卯榫”相合，定位構件在頭顱表面三維立體空間上的位置，保證頭顱影像穿刺區域設計的穿刺針道和頭顱表面穿刺區域三維立體空間位置對應一致；在頭顱表面構件的邊緣部分間隔一定距離設計一個固定孔，用于將構件縫合固定在頭顱表面。