[發明專利]真空精煉爐的氧槍保護裝置

有效

• 申請號: 202010235569.1
• 申請日: 2020-03-30
• 公開（公告）號: CN111321277B
• 公開（公告）日: 2022-11-15
• 發明（設計）人: 李實;畢洪運;鄭海明;余海峰;莊清云;施志遠;張志霞;宋景喆;王剛
• 申請（專利權）人: 寶鋼德盛不銹鋼有限公司
• 主分類號: C21C7/068
• 分類號: C21C7/068;C21C7/10
• 代理公司: 福州鼎新知識產權代理有限公司 35263
• 代理人: 程捷;楊慧娟

1.一種真空精煉爐的氧槍保護裝置，其應用于真空精煉爐，所述真空精煉爐包括爐體，爐體頂部安裝有真空蓋，真空蓋上于氧槍穿設工位安裝有氧槍中心套筒，爐體內于氧槍中心套筒的下方安裝有鋼包防濺蓋，其特征在于：所述氧槍保護裝置包括中空的轉軸和氧槍擋板，所述轉軸垂直設置，氧槍擋板水平固定安裝于轉軸的底部，轉軸的中空內腔穿設有至少一根進水管和一根回水管，進水管的進水端與冷卻水供應裝置連通，回水管的出水端與回水儲存裝置連通，氧槍擋板的內部設置有水冷通道，所述進水管的出水端和回水管的進水端分別與氧槍擋板的水冷通道的進水口、出水口連通并與氧槍擋板固定連接；所述真空蓋上于氧槍中心套筒的安裝位置旁側向上延伸有一通管，通管管腔為轉軸通孔，所述轉軸的頂部自真空蓋下方經轉軸通孔穿出真空蓋外，轉軸通孔內的轉軸與真空蓋之間安裝有對轉軸與真空蓋的空隙進行密封的密封機構，所述氧槍擋板位于真空精煉爐內的真空蓋和鋼包防濺蓋之間，轉軸與氧槍中心套筒遠離轉軸一側的外緣在水平面投影的間距小于轉軸與氧槍擋板遠離轉軸一側的外緣的間距，真空蓋的外側安裝有用于驅動轉軸旋轉的旋轉驅動機構；所述氧槍擋板的邊沿具有一缺口，所述缺口繞轉軸軸心的徑向寬度略大于氧槍的外徑，所述缺口的開設位置以當氧槍下降到吹氧位置后，氧槍擋板隨轉軸旋轉到氧槍所在工位時所述缺口套設于氧槍外側壁上為限。

2.根據權利要求1所述的真空精煉爐的氧槍保護裝置，其特征在于：所述氧槍擋板包括數根并列的耐熱鋼管，相鄰耐熱鋼管首尾相連形成水冷通道，各進水管的出水端與回水管的進水端之間的水冷通道均為往復的s型通路。

3.根據權利要求1所述的真空精煉爐的氧槍保護裝置，其特征在于：所述密封機構包括中空的軸套以及安裝于軸套內的第一軸承、定距件、第二軸承、環形的密封圈固定座、密封圈和環形的密封壓蓋；所述軸套的上端部沿其周向向外延伸有軸套掛耳，軸套的下端部水平向內彎折形成環形的支撐平臺，軸套通過軸套掛耳懸掛于轉軸通孔內，軸套與轉軸通孔之間存在膨脹間隙，所述轉軸自支撐平臺穿設過軸套，所述第一軸承自上而下穿過轉軸設置于支撐平臺上，定距件自上而下穿過轉軸并壓設于第一軸承上，第二軸承自上而下穿過轉軸并壓設于定距件上，第一軸承、定距件以及第二軸承分別與轉軸以及軸套內側壁過盈配合，所述密封圈固定座穿過轉軸套設于第二軸承的上表面的軸套內，密封圈穿過轉軸嵌套于密封圈固定座內，密封壓蓋穿過轉軸鎖緊于密封圈固定座的上端面，密封圈限定于密封圈固定座內。

4.根據權利要求3所述的真空精煉爐的氧槍保護裝置，其特征在于：所述密封壓蓋的外徑與密封圈的外徑相同，密封壓蓋的頂部沿其周向向外延伸的壓蓋掛耳，密封壓蓋的底面為正圓臺狀缺口部，密封壓蓋穿過轉軸嵌套于密封圈固定座內，密封壓蓋底面的缺口部與密封圈緊密接觸，壓蓋掛耳疊置于軸套掛耳上，壓蓋掛耳以及軸套掛耳由螺栓緊定于真空蓋上。

5.根據權利要求1所述的真空精煉爐的氧槍保護裝置，其特征在于：所述轉軸驅動機構包括水平設置的氣缸和旋轉臂，所述旋轉臂一端套固于轉軸上，旋轉臂的另一端與驅動氣缸的活塞桿鉸接。

6.根據權利要求1所述的真空精煉爐的氧槍保護裝置，其特征在于：氧槍擋板與鋼包防濺爐蓋的垂直間距為300～500mm。