[發(fā)明專利]一種復合涂層低溫測溫光纖及其制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010230893.4 | 申請日： | 2020-03-27 |
| 公開（公告）號： | CN111413762B | 公開（公告）日： | 2021-11-23 |
| 發(fā)明（設計）人： | 戴少濤;方埼磊;張騰;莫思銘;蔡淵;袁文;馬韜;胡磊;王邦柱 | 申請（專利權(quán)）人： | 北京交通大學;東部超導科技（蘇州）有限公司 |
| 主分類號： | G02B6/02 | 分類號： | G02B6/02;G01K11/32;C23C24/04;C22C28/00;C22C13/00 |
| 代理公司： | 北京衛(wèi)平智業(yè)專利代理事務所(普通合伙) 11392 | 代理人： | 張新利;謝建玲 |
| 地址： | 100044*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 復合 涂層 低溫 測溫 光纖 及其 制備 方法 | ||
1.一種復合涂層測溫光纖，其特征在于，包括：裸光纖、聚合物涂層和金屬涂層；所述聚合物涂層涂敷在裸光纖外表面，金屬涂層冷噴涂于聚合物涂層外表面；
所述裸光纖為僅含纖芯的石英芯單模光纖；
所述聚合物涂層為聚丙烯酸甲酯涂層；
所述金屬涂層的成分為Sn，或62％的Sn、36％的Pb與2％的Ag組成的PbSnAg合金，或66.3％的In與33.7％的Bi組成的InBi合金，或98.5％的Sn與1.5％的Ag組成的SnAg合金，或69.5％的In與30.5％的Sn組成的InSn合金，以上比例均為重量百分比。
2.如權(quán)利要求1所述復合涂層測溫光纖的制備方法，包括以下步驟：
步驟1、采用浸漬涂敷-紫外光固化工藝將聚丙烯酸甲酯涂敷于裸光纖表面，經(jīng)過多次涂敷，在裸光纖表面形成聚合物涂層；
步驟2、采用冷噴涂機，將金屬粉末在60～200℃預熱后噴涂于聚合物涂層表面，噴涂氣體和送粉氣體均為N2；
步驟3、將噴涂金屬涂層后的光纖迅速經(jīng)過80～235℃高溫爐中熱處理30～60s，在聚合物涂層表面形成致密的金屬涂層；
步驟4、將步驟3得到的復合涂層測溫光纖在50℃靜置24小時后得到成品；
步驟1中，所述聚合物涂層的厚度為10μm～200μm；
步驟2中，所述氣體的壓力為0.5～3MPa，噴涂距離為10～30cm。
3.如權(quán)利要求2所述的復合涂層測溫光纖的制備方法，其特征在于：步驟2中，所述金屬粉末為Sn金屬粉末，或由62％Sn、36％Pb與2％Ag組成的PbSnAg金屬粉末，或由66.3％In與33.7％Bi組成的InBi金屬粉末，或由98.5％Sn與1.5％Ag組成的SnAg金屬粉末，或由69.5％In與30.5％Sn組成的InSn金屬粉末，以上比例均為重量百分比。
4.如權(quán)利要求2所述的復合涂層測溫光纖的制備方法，其特征在于：步驟2中，所述金屬粉末的平均粒徑為100nm～50μm。
5.如權(quán)利要求2所述的復合涂層測溫光纖的制備方法，其特征在于：步驟3中，形成的致密的金屬涂層厚度為10μm～200μm。
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