[發(fā)明專利]一種黑色膜層組件及其制備方法和電子設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010224945.7 | 申請日： | 2020-03-26 |
| 公開（公告）號： | CN113448003B | 公開（公告）日： | 2022-07-15 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 劉玉陽;許旭佳;王繼厚;馬蘭;胡威威 | 申請（專利權(quán)）人： | 比亞迪股份有限公司;韶關(guān)比亞迪電子有限公司 |
| 主分類號： | G02B5/00 | 分類號： | G02B5/00;C23C14/24;C23C14/10;C23C14/06;C23C14/14 |
| 代理公司： | 廣州三環(huán)專利商標(biāo)代理有限公司 44202 | 代理人： | 熊永強(qiáng) |
| 地址： | 518118 廣東省*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 黑色 組件 及其 制備 方法 電子設(shè)備 | ||
本申請?zhí)峁┝艘环N黑色膜層組件，包括基底以及設(shè)置在基底上的鍍膜層，鍍膜層包括交替層疊設(shè)置的金屬層和無機(jī)化合物層，金屬層為至少兩層，無機(jī)化合物層為至少兩層；基底具有相對設(shè)置的外表面和內(nèi)表面，鍍膜層設(shè)置在基底的外表面時，鍍膜層遠(yuǎn)離基底一側(cè)的最外層為無機(jī)化合物層，和/或鍍膜層設(shè)置在基底的內(nèi)表面時，鍍膜層靠近基底一側(cè)的最外層為無機(jī)化合物層，無機(jī)化合物層的折射率小于1.75，金屬層的材質(zhì)為銦、錫或銦錫合金。該黑色膜層組件的吸光率高，反射率和透過率極低，外觀呈現(xiàn)真正的黑色，有利于其在電子設(shè)備中的應(yīng)用。本申請還提供了黑色膜層組件的制備方法以及包括上述黑色膜層組件的電子設(shè)備。
技術(shù)領(lǐng)域
本申請涉及鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種黑色膜層組件及其制備方法和電子設(shè)備。
背景技術(shù)
隨著電子產(chǎn)品的發(fā)展，越來越多的電子產(chǎn)品呈現(xiàn)局部或整體一體黑的效果。相關(guān)技術(shù)中，往往進(jìn)行鍍膜來實(shí)現(xiàn)這一效果，但是目前制得的鍍膜反射率和透過率較高，使得電子產(chǎn)品呈現(xiàn)灰黑色，無法實(shí)現(xiàn)真正的黑色。
發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，本申請?zhí)峁┝艘环N黑色膜層組件，該黑色膜層組件的吸光率高，反射率和透過率極低，外觀呈現(xiàn)真正的黑色，有利于其在電子設(shè)備中的應(yīng)用。
第一方面，本申請?zhí)峁┝艘环N黑色膜層組件，包括基底以及設(shè)置在所述基底上的鍍膜層，所述鍍膜層包括交替層疊設(shè)置的金屬層和無機(jī)化合物層，所述金屬層為至少兩層，所述無機(jī)化合物層為至少兩層；所述基底具有相對設(shè)置的外表面和內(nèi)表面，所述鍍膜層設(shè)置在所述基底的外表面時，所述鍍膜層遠(yuǎn)離所述基底一側(cè)的最外層為無機(jī)化合物層，和/或所述鍍膜層設(shè)置在所述基底的內(nèi)表面時，所述鍍膜層靠近所述基底一側(cè)的最外層為無機(jī)化合物層，所述無機(jī)化合物層的折射率小于1.75，所述金屬層的材質(zhì)為銦、錫或銦錫合金。
可選的，所述金屬層的厚度小于或等于50nm，以使得金屬層能較好的吸收光能，同時使得未吸收的光能可以最大程度的穿過金屬層，避免過多的反射，進(jìn)而降低反射率。
可選的，所述金屬層為單層或多層堆疊結(jié)構(gòu)，有利于提高黑色膜層組件的吸光率。
可選的，所述無機(jī)化合物層的折射率小于1.5，更進(jìn)一步的改變光線在黑色膜層組件的反射率和透過率，同時配合金屬層使用，提高黑色膜層組件的吸光率。進(jìn)一步的，所述無機(jī)化合物層的材質(zhì)包括二氧化硅和氟化鎂中的至少一種。
可選的，所述無機(jī)化合物層的厚度為20nm-90nm，以降低黑色膜層組件的反射率和透過率。
在本申請中，所述鍍膜層設(shè)置在所述基底的外表面時，所述鍍膜層遠(yuǎn)離所述基底一側(cè)的最外層為無機(jī)化合物層，和/或所述鍍膜層設(shè)置在所述基底的內(nèi)表面時，所述鍍膜層靠近所述基底一側(cè)的最外層為無機(jī)化合物層。通過該設(shè)置，提高黑色膜層組件的吸光率。
可選的，所述黑色膜層組件的反射率小于5％，透過率小于1％。進(jìn)一步的，所述黑色膜層組件的反射率小于或等于2.5％。更進(jìn)一步的，所述黑色膜層組件的反射率小于或等于2％。具體的，所述黑色膜層組件的反射率可以但不限于小于或等于1％、0.5％、0.1％、0.05％或0.01％。
可選的，所述無機(jī)化合物層為單層或多層堆疊結(jié)構(gòu)，以通過不同層結(jié)構(gòu)的設(shè)置方法改變黑色膜層組件的反射率和透過率。
可選的，所述基底的材質(zhì)包括玻璃、陶瓷、藍(lán)寶石和塑膠中的至少一種。
本申請第一方面提供的黑色膜層組件對光線的反射率和透過率極低，具有優(yōu)異的吸光性能，在不同波長的光線下均呈現(xiàn)黑色，有利于其應(yīng)用。
第二方面，本申請?zhí)峁┝艘环N黑色膜層組件的制備方法，包括：
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