[發明專利]一種渦流沖洗式部件快速清潔裝置

在審

• 申請號: 202010217280.7
• 申請日: 2020-03-25
• 公開（公告）號: CN111215379A
• 公開（公告）日: 2020-06-02
• 發明（設計）人: 邱焜
• 申請（專利權）人: 泉州市欣泓潤工業設計有限公司
• 主分類號: B08B3/02
• 分類號: B08B3/02
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本發明公開了一種渦流沖洗式部件快速清潔裝置，包括清洗外殼。本發明利用多個圓周面安裝的旋轉部件，驅動內部清洗液體形成渦流，再以渦流的形式對部件進行全方位的沖洗作用，具有清洗力度強和清洗效率高的優點，并且具有較強的機械式自主控制能力，而且，該裝置具有環形陣列永磁體體吸附式部件空間限位機構，能夠吸附在工作部位，防止被清洗部件與旋轉板之間發生碰撞，此外，該裝置具有環形陣列式主旋轉驅動力度分散機構，能夠將驅動旋轉轉化為多個同向的旋轉狀態，實現多個旋轉部件的帶動作用，另外，該裝置具有環形陣列式螺旋彈簧壓縮式最大旋轉扭矩力度控制機構，能夠在螺旋彈簧的作用下，實現最大旋轉阻力的控制。

技術領域

本發明涉及清潔裝置技術領域，具體為一種渦流沖洗式部件快速清潔裝置。

背景技術

目前，對于集中部件的沖洗清潔，現有的方式室利用高壓水槍進行噴射處理，但是噴射面積比較窄，所以其工作效率低下，而且死角較多，所以清潔力度不強。

發明內容

本發明的目的在于提供一種渦流沖洗式部件快速清潔裝置，以解決上述背景技術中提出的問題。

為實現上述目的，本發明提供如下技術方案：一種渦流沖洗式部件快速清潔裝置，包括清洗外殼，所述清洗外殼中心設置有清洗空間，所述清洗外殼在位于所述清洗空間側面的底部設置有環形凹槽結構，所述清洗外殼外側底部設置有與其一體式結構的主排液管道，所述主排液管道的內部設置有連通外界和環形凹槽結構的主排料孔，所述主排料孔的內部安裝一柱塞，所述清洗外殼底部中心設置有鐵片鑲嵌空間，所述鐵片鑲嵌空間的內部鑲嵌一鐵片，所述清洗空間底部中心吸附一環形陣列永磁體體吸附式部件空間限位機構，所述清洗外殼的底部內部通過主軸承安裝多個副旋轉軸，每個所述副旋轉軸的軸體上均安裝一旋轉板，所述清洗外殼的底部通過螺栓安裝一環形陣列式主旋轉驅動力度分散機構，所述環形陣列式主旋轉驅動力度分散機構底部安裝有支撐桿，所述支撐桿的底部安裝一底部支撐基板，所述底部支撐基板的上表面中心通過螺栓安裝一驅動電機安裝外殼，所述驅動電機安裝外殼的內部設置有驅動電機安裝空間，所述驅動電機安裝空間的內部安裝一驅動電機，所述驅動電機中的電機主軸頂部安裝一環形陣列式螺旋彈簧壓縮式最大旋轉扭矩力度控制機構，所述環形陣列式螺旋彈簧壓縮式最大旋轉扭矩力度控制機構的上表面中心安裝一主旋轉軸，所述主旋轉軸的頂端與環形陣列式主旋轉驅動力度分散機構底部中心固定連接。

進一步地，所述環形陣列永磁體體吸附式部件空間限位機構包括環形陣列永磁體體吸附式部件空間限位機構用圓環體、環形陣列永磁體體吸附式部件空間限位機構用中心孔、環形陣列永磁體體吸附式部件空間限位機構用限位桿、環形陣列永磁體體吸附式部件空間限位機構用環形永磁體安裝凹槽結構和環形陣列永磁體體吸附式部件空間限位機構用環形永磁體；所述環形陣列永磁體體吸附式部件空間限位機構用圓環體的中心設置有連通環形陣列永磁體體吸附式部件空間限位機構用圓環體上下表面的環形陣列永磁體體吸附式部件空間限位機構用中心孔，所述環形陣列永磁體體吸附式部件空間限位機構用圓環體的上表面邊緣部位安裝有多個環形陣列永磁體體吸附式部件空間限位機構用限位桿，所述環形陣列永磁體體吸附式部件空間限位機構用圓環體的下表面設置有一環形陣列永磁體體吸附式部件空間限位機構用環形永磁體安裝凹槽結構，所述環形陣列永磁體體吸附式部件空間限位機構用環形永磁體安裝凹槽結構的內部安裝一環形陣列永磁體體吸附式部件空間限位機構用環形永磁體。

進一步地，多個所述環形陣列永磁體體吸附式部件空間限位機構用限位桿關于所述環形陣列永磁體體吸附式部件空間限位機構用圓環體的軸心線為圓心呈環形陣列設置。

進一步地，所述環形陣列永磁體體吸附式部件空間限位機構用環形永磁體為釹鐵硼材料制成，且所述環形陣列永磁體體吸附式部件空間限位機構用環形永磁體吸附在鐵片的正上方。