[發明專利]用于排氣處理單元的基材

在審

• 申請號: 202010198923.8
• 申請日: 2020-03-20
• 公開（公告）號: CN111720194A
• 公開（公告）日: 2020-09-29
• 發明（設計）人: A·施皮特
• 申請（專利權）人: 埃貝斯佩歇排氣技術有限公司
• 主分類號: F01N3/28
• 分類號: F01N3/28;B01D53/92
• 代理公司: 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038
• 代理人: 程猛

1.用于排氣處理單元的基材，所述排氣處理單元尤其是用于內燃機排氣系統的排氣處理單元，所述基材包括沿基材縱向方向(S)長形延伸的基材主體(18)，該基材主體(18)在大致垂直于基材縱向方向(S)的扁平化方向(A)上是扁平的，在基材主體(18)中形成多個大致沿基材縱向方向(S)延伸的、提供流動通道的格室(24)，所述格室(24)由大致沿基材縱向方向(S)延伸的格室壁(20、22)界定，所述格室壁(20、22)相對于扁平化方向(A)成角度。

2.根據權利要求1所述的基材，其特征在于，設有相互平行且彼此間隔開設置的第一格室壁(20)和相互平行且彼此間隔開設置的第二格室壁(22)，所述第一格室壁(20)相對于第二格室壁(22)成角度，使得所述格室(24)分別由兩個第一格室壁(20)和兩個第二格室壁(22)包圍。

3.根據權利要求2所述的基材，其特征在于，所述第一格室壁(20)相對于第二格室壁(22)成大約90°角。

4.根據權利要求2或3所述的基材，其特征在于，直接相鄰的第一格室壁(20)相互間的距離大致等于直接相鄰的第二格室壁(22)相互間的距離。

5.根據權利要求2至4中任一項所述的基材，其特征在于，格室線(L₁、L₂)利用彼此相鄰的格室(24)形成，一條格室線(L₁、L₂)的格室(24)由兩個相同的第一格室壁(20)或兩個相同的第二格室壁(22)界定。

6.根據權利要求2至5中任一項所述的基材，其特征在于，所述第一格室壁(20)和第二格室壁(22)形成柵格狀的格室壁結構，和/或第一格室壁(20)和第二格室壁(22)基本上不彎曲。

7.根據前述權利要求中任一項所述的基材，其特征在于，所述格室(24)具有大致矩形、優選正方形的橫截面輪廓，和/或所述格室壁(20、22)相對于扁平化方向(A)成40°至50°范圍內的角度、優選成大約45°角。

8.根據前述權利要求中任一項所述的基材，其特征在于，所述基材主體(18)構造有關于沿扁平化方向(A)和沿基材縱向方向(S)延伸的第一縱向中心平面(E₁)大致鏡像對稱的外周輪廓，和/或基材主體(18)構造有關于垂直于扁平化方向(A)并且沿基材縱向方向(S)延伸的第二縱向中心平面(E₂)大致鏡像對稱的外周輪廓。

9.根據前述權利要求中任一項所述的基材，其特征在于，所述基材主體(18)具有扁圓形、優選大致橢圓形的外周輪廓，和/或所述基材主體(18)相對于基材縱向方向(S)構造成大致柱形的。

10.根據前述權利要求中任一項所述的基材，其特征在于，所述基材主體(18)由陶瓷材料制成，和/或所述格室壁(20、22)涂覆有排氣處理材料、優選催化劑材料。

11.排氣處理單元、尤其是用于內燃機排氣系統的排氣處理單元，所述排氣處理單元包括殼體(12)，該殼體具有圍繞殼體內部空間的管狀的周壁(14)，所述排氣處理單元還包括至少一個設置在殼體內部空間中的根據前述權利要求中任一項所述的基材(16)。

12.根據權利要求11所述的排氣處理單元，其特征在于，至少一個、優選每個設置在殼體內部空間中的基材(16)被至少一個相對于周壁支撐基材(16)的支撐材料層(30)包圍。

13.根據權利要求11或12所述的排氣處理單元，其特征在于，所述周壁(14)在扁平化方向(A)上是扁平的，和/或所述周壁(14)具有扁圓形、優選大致橢圓形的外周輪廓。