[發明專利]超聲處理器

有效

• 申請號: 202010197515.0
• 申請日: 2020-03-19
• 公開（公告）號: CN111944670B
• 公開（公告）日: 2021-11-30
• 發明（設計）人: 胡俊輝;蘇松飛;鄭樂;鄭末晶;柳林
• 申請（專利權）人: 珠海艾博羅生物技術股份有限公司
• 主分類號: C12M1/33
• 分類號: C12M1/33
• 代理公司: 北京康思博達知識產權代理事務所(普通合伙) 11426
• 代理人: 劉冬梅;范國鋒

1.雙聚焦型超聲處理器，其特征在于，該超聲處理器包括：聚焦聲透鏡(1)、超聲換能器(2)、樣品處理槽(3)和試管支架(4)；

試管支架(4)設置于樣品處理槽(3)頂部，其上設置有用以固定樣品的試管放置孔，所述試管放置孔設置于聚焦聲透鏡(1)的聚焦區域上方；

兩個聚焦聲透鏡(1)分別設置于樣品處理槽(3)平行側壁內側，超聲換能器(2)設置于聚焦聲透鏡(1)背部中心處，其對聚焦聲透鏡(1)進行勵振，激發樣品處理槽(3)內部聚焦聲場以對樣品進行處理；

聚焦聲透鏡(1)的聚焦半徑不同，且聚焦聲透鏡(1)的聚焦半徑差的絕對值不等于超聲波半波長的整數倍；

所述聚焦聲透鏡(1)在樣品處理槽(3)側壁上的高度不同，二者在高度方向上錯開一定距離，所述樣品處理槽(3)為長方體，聚焦聲透鏡(1)設置于樣品處理槽(3)的長邊側壁內側，并沿長邊側壁延伸；

所述超聲換能器(2)為超聲換能器陣列，設置于樣品處理槽(3)的側壁外側，并沿聚焦聲透鏡(1)延伸方向排列，樣品處理槽(3)同側的超聲換能器(2)的高度相同；樣品處理槽(3)兩側的超聲換能器(2)并不是相向對稱設置的，而是在水平方向上相互交錯設置，錯開或間隔設定的距離，超聲換能器的工作電壓為非同頻激勵電壓；

兩個聚焦聲透鏡(1)的激振頻率不相同。

2.根據權利要求1所述的超聲處理器，其特征在于，聚焦聲透鏡(1)的焦點位置重合。