[發(fā)明專利]用于調(diào)質(zhì)生產(chǎn)線設(shè)備的可調(diào)式淬火加熱裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010186736.8
• 申請日: 2020-03-17
• 公開（公告）號: CN111270055A
• 公開（公告）日: 2020-06-12
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 許仙福
• 申請（專利權(quán)）人: 許仙福
• 主分類號: C21D1/667
• 分類號: C21D1/667;C21D1/10;C21D9/28
• 代理公司: 北京恒泰銘睿知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11642
• 代理人: 郭曉

本發(fā)明提供用于調(diào)質(zhì)生產(chǎn)線設(shè)備的可調(diào)式淬火加熱裝置，包括:底座、凸塊和冷卻管；所述底座的內(nèi)部軸性連接有一組所述螺紋盤；所述底座的頂部均勻排布滑動連接有三組所述滑動支架；所述滑動支架的頂部固定連接有一組所述高頻加熱管；所述底座的內(nèi)部下方固定連接有一組所述冷卻管；所述底座的右端面固定連接有一組所述電機。通過改變?nèi)M高頻加熱管的內(nèi)切圓大小，利用與內(nèi)切圓相近的高頻加熱管進行加熱，從而實現(xiàn)改變淬火零件直徑的目的，提高了淬火設(shè)備是適應(yīng)性和生產(chǎn)效率，對于臺階軸可以一次性完成淬火工作，減少淬火工序，提高生產(chǎn)率，降低生產(chǎn)成本。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明屬于熱處理機械技術(shù)領(lǐng)域，更具體地說，特別涉及用于調(diào)質(zhì)生產(chǎn)線設(shè)備的可調(diào)式淬火加熱裝置。

背景技術(shù)

淬火是指通過將金屬表面加熱到一定溫度后迅速冷卻的手段使金屬表面形成馬氏體結(jié)晶以提高金屬的表面硬度的熱處理方式，一般需要淬火的零件位置為需要配合的軸頸，現(xiàn)有的淬火裝置一般采用動力裝置轉(zhuǎn)動零件，通過高頻加熱管對零件軸頸進行加熱后噴射冷卻液進行快速冷卻。

例如申請?zhí)枺篊N201310220351.9一種轉(zhuǎn)軸淬火裝置，包括淬火感應(yīng)線圈和淬火件，所述的淬火感應(yīng)線圈懸于所述的淬火件上方，距離5cm-7cm。本發(fā)明技術(shù)方案通過對淬火感應(yīng)線圈的技術(shù)改進，并與淬火件相對位置的互相配合，適用于長度在10cm以上的軸工件的表面加工處理，增加工件表面的硬度。。

基于上述兩個專利的檢索，以及結(jié)合現(xiàn)有技術(shù)中的設(shè)備發(fā)現(xiàn)，上述設(shè)備在應(yīng)用時，基于加熱效率考慮高頻加熱管一般采用螺旋管狀結(jié)構(gòu)，其直徑無法改變，導(dǎo)致一只加熱管只能加熱一種直徑的零件，適應(yīng)性不好，同時當(dāng)遇到臺階軸進行淬火時，對于不同的軸頸需要分兩次甚至多次進行淬火，嚴(yán)重影響生產(chǎn)效率。

發(fā)明內(nèi)容

為了解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供用于調(diào)質(zhì)生產(chǎn)線設(shè)備的可調(diào)式淬火加熱裝置，以解決現(xiàn)有的基于加熱效率考慮高頻加熱管一般采用螺旋管狀結(jié)構(gòu)，其直徑無法改變，導(dǎo)致一只加熱管只能加熱一種直徑的零件，適應(yīng)性不好，同時當(dāng)遇到臺階軸進行淬火時，對于不同的軸頸需要分兩次甚至多次進行淬火，嚴(yán)重影響生產(chǎn)效率的問題。

本發(fā)明用于調(diào)質(zhì)生產(chǎn)線設(shè)備的可調(diào)式淬火加熱裝置的目的與功效，由以下具體技術(shù)手段所達(dá)成：

用于調(diào)質(zhì)生產(chǎn)線設(shè)備的可調(diào)式淬火加熱裝置，包括底座、凸塊、環(huán)槽、電機、主動錐齒輪、螺紋盤、從動錐齒輪、端面螺紋、滑動支架、螺紋齒、滑槽、高頻加熱管、導(dǎo)磁塊和冷卻管；所述底座的內(nèi)部軸性連接有一組所述螺紋盤；所述底座的頂部均勻排布滑動連接有三組所述滑動支架；所述滑動支架的頂部固定連接有一組所述高頻加熱管；所述底座的內(nèi)部下方固定連接有一組所述冷卻管；所述底座的右端面固定連接有一組所述電機。

進一步的，所述底座的內(nèi)部設(shè)置有一組環(huán)狀的所述環(huán)槽，所述環(huán)槽通過滾珠與所述螺紋盤軸性連接；

進一步的，所述底座生物上端面輻射狀均勻排布設(shè)置有三組所述凸塊，所述滑動支架的下部兩側(cè)均設(shè)置有一組所述滑槽，所述滑動支架通過所述滑槽在所述凸塊沿所述底座的直徑方向滑動；

進一步的，所述高頻加熱管為環(huán)狀的高頻加熱管，且三組所述高頻加熱管為相對于所述底座為中心對稱分布；

進一步的，所述螺紋盤的上端面設(shè)置有一組所述端面螺紋，所述滑動支架的底部設(shè)置有一組所述螺紋齒，所述螺紋齒與所述端面螺紋之間構(gòu)成端面螺紋傳動機構(gòu)；

進一步的，所述螺紋盤的底部固定連接有一組所述從動錐齒輪，所述電機的傳動軸上固定連接有一組所述主動錐齒輪；所述主動錐齒輪與所述從動錐齒輪相嚙合構(gòu)成錐齒輪傳動機構(gòu)；

進一步的，所述高頻加熱管上均勻排布有多組所述導(dǎo)磁塊，所述導(dǎo)磁塊為由硅鋼片等的導(dǎo)磁體；

進一步的，所述冷卻管通過一組圓形的管道連接有八組噴頭，八組噴頭朝向所述底座的中心。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明具有如下有益效果：