[發明專利]一種有效減少土方數量的大面積填方方法在審
| 申請號： | 202010181329.8 | 申請日： | 2020-03-16 |
| 公開（公告）號： | CN111350194A | 公開（公告）日： | 2020-06-30 |
| 發明（設計）人： | 李連祥;李紅波;張錕;王欽山;秦世朋;李文;蘇日嘎拉圖 | 申請（專利權）人： | 山東大學 |
| 主分類號： | E02D17/18 | 分類號： | E02D17/18 |
| 代理公司： | 濟南圣達知識產權代理有限公司 37221 | 代理人： | 趙敏玲 |
| 地址： | 250061 山東*** | 國省代碼： | 山東;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 有效 減少 土方 數量 大面積 填方 方法 | ||
1.一種有效減少土方數量的大面積填方方法，其特征在于，包括如下步驟：
步驟1：確定擬建建筑物范圍內的水準基點；
步驟2：根據施工要求，確定填土設計標高H1、基底設計標高H3，確定建筑占地面積S1、填土面積S；
步驟3：通過挖填平衡確定施工標高H2，并在待建的建筑物周圍填土至施工標高H2；
步驟4：開挖基坑至基底設計標高H3；
步驟5：將開挖基坑土回填至建筑周圍填土面積范圍內達到原始設計標高H1。
2.如權利要求1所述的有效減少土方數量的大面積填方方法，其特征在于，所述水準基點布設于填土施工范圍影響距離之外，以初始地面標高為水準基點。
3.如權利要求1所述的有效減少土方數量的大面積填方方法，其特征在于，所述的施工標高H2的高度介于初始地面和設計標高H1之間。
4.如權利要求1所述的有效減少土方數量的大面積填方方法，其特征在于，所述的填土設計標高H1為建筑施工完成后室外地面至初始地面的高度。
5.如權利要求1所述的有效減少土方數量的大面積填方方法，其特征在于，所述的基底設計標高H3為初始地面算起開挖至基坑設計深度后的基底標高。
6.如權利要求1所述的有效減少土方數量的大面積填方方法，其特征在于，所述的填土面積S在挖填平衡計算過程中不包括建筑占地面積S1。
7.如權利要求1所述的有效減少土方數量的大面積填方方法，其特征在于，所述的填土至施工標高H2時，建筑占地面積S1范圍內無需填土。
8.如權利要求1所述的有效減少土方數量的大面積填方方法，其特征在于，其中施工標高H2根據挖填平衡方法計算，其計算公式為：
9.如權利要求1所述的有效減少土方數量的大面積填方方法，其特征在于，外界運入的土方＝H2*S。
10.如權利要求1所述的有效減少土方數量的大面積填方方法，其特征在于，基坑開挖出的土方＝H3*S1。
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