[發明專利]一種高壓水射流清洗設備在審
| 申請號: | 202010177344.5 | 申請日: | 2020-03-13 |
| 公開(公告)號: | CN113385460A | 公開(公告)日: | 2021-09-14 |
| 發明(設計)人: | 潘炳峰 | 申請(專利權)人: | 上海施代科流體科技有限公司 |
| 主分類號: | B08B3/02 | 分類號: | B08B3/02;B08B13/00;B05B9/04;B05B15/68 |
| 代理公司: | 上海宏京知識產權代理事務所(普通合伙) 31297 | 代理人: | 李倩倩 |
| 地址: | 201508 上海市金山區山*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 高壓 水射流 清洗 設備 | ||
本發明涉及一種高壓水射流清洗設備,包括清洗室,清洗室內設有射流清洗裝置、清洗物定位裝置,射流清洗裝置包括導軌座,導軌座上設有噴槍滑座,噴槍滑座上設有噴槍,導軌座的下方設有循環水柜,循環水柜的進口與清洗室的漏水地面連通,循環水柜的出口與噴槍連通,噴槍通過噴槍滑座在導軌座上移動至噴射清洗位置,高壓泵將循環水柜內的噴洗液加壓從噴槍噴射出清洗設在清洗物定位裝置上的待洗目標物,射出的噴洗液從清洗室的漏水地面回流至循環水柜。本發明采用封閉的射流清洗作業環境結合水循環利用方案,具有環保以及節約水源的特點。
技術領域
本發明涉及一種高壓水射流清洗設備,特別涉及一種改進的高壓水射流清洗設備,屬于高壓水射流清洗領域。
背景技術
傳統的清洗作業采用機械鉆孔清洗、蒸汽清洗、化學清洗、超聲波清洗、以及水射流清洗等方式。但是,化學清洗、人工清洗都存在著清洗成本高、效率低、污染環境等問題,遠遠不能滿足現代社會日益增長的工業及民用清洗要求。高壓水射流清洗是使用高壓泵打出高壓水,并經過一定管路到達噴嘴,再把高壓力低流速的水轉換為高壓力高流速的射流,連續不斷地噴射在被清洗表面,從而使垢物脫落,實現清洗目的。高壓水射流清洗廣泛應用于清除水垢鐵垢、油類等烴類殘渣結焦、各種涂層混凝土刺脂層、顏料、橡膠石膏、塑料等,具有清洗成本低、效率高、不損壞被清洗物、不污染環境等特點。但是,露天作業射流清洗仍然會造成環境影響,并且長時間的清洗會消耗大量的水源。
發明內容
本發明高壓水射流清洗設備公開了新的方案,采用封閉的射流清洗作業環境結合水循環利用方案,解決了現有方案長時間露天作業帶來的環境污染以及浪費水源的問題。
本發明高壓水射流清洗設備包括清洗室,清洗室內設有射流清洗裝置、清洗物定位裝置,射流清洗裝置包括導軌座,導軌座上設有噴槍滑座,噴槍滑座上設有噴槍,導軌座的下方設有循環水柜,循環水柜的進口與清洗室的漏水地面連通,循環水柜的出口與噴槍連通,噴槍通過噴槍滑座在導軌座上移動至噴射清洗位置,高壓泵將循環水柜內的噴洗液加壓從噴槍噴射出清洗設在清洗物定位裝置上的待洗目標物,射出的噴洗液從清洗室的漏水地面回流至循環水柜。
進一步,本方案的導軌座上設有橫向軌道,橫向軌道上設有縱向軌道,縱向軌道上設有所述噴槍滑座,縱向軌道沿所述橫向軌道滑動,噴槍滑座沿所述縱向軌道滑動,噴槍通過噴槍滑座、縱向軌道調節噴射清洗位置。
進一步,本方案的清洗物定位裝置包括上下定位裝置、左右定位裝置。上下定位裝置包括設在清洗室的天花板上的旋轉上液壓缸、設在清洗室的地板上的旋轉下液壓缸,旋轉上液壓缸與旋轉下液壓缸配合夾緊待洗目標物,夾緊待洗目標物的旋轉上液壓缸、旋轉下液壓缸繞夾緊端軸線自轉來調整待洗目標物的清洗面。左右定位裝置包括設在清洗室內部左側面上的旋轉左液壓缸、設在清洗室內部右側面上的旋轉右液壓缸,旋轉左液壓缸與旋轉右液壓缸配合夾緊待洗目標物,夾緊待洗目標物的旋轉左液壓缸、旋轉右液壓缸繞夾緊端軸線自轉來調整待洗目標物的清洗面。
進一步,本方案的噴槍包括噴管段、噴頭段,噴頭段與噴管段鉸接,噴管段上設有噴管自轉控制器、噴頭段搖擺控制器,噴頭段上設有噴頭自轉控制器,噴管自轉控制器驅動噴管段繞軸線自轉,噴頭段搖擺控制器驅動噴頭段繞鉸接處旋轉擺動,噴頭自轉控制器驅動噴頭段的噴頭繞軸線自轉。
更進一步,本方案的噴管自轉控制器包括套設在噴管段外側上的殼體A,殼體A內設有驅動電機A,驅動電機A的輸出軸與驅動齒輪A傳動連接,驅動齒輪A與噴管段的外側形成輪齒傳動連接A,驅動電機A驅動驅動齒輪A通過輪齒傳動連接A帶動噴管段繞軸線自轉。
更進一步,本方案的噴頭段搖擺控制器包括套設在噴管段外側上的殼體B,殼體B內設有驅動電機B、皮帶輪A,驅動電機B的輸出軸與皮帶輪A傳動連接,皮帶輪A與設在鉸接處的皮帶輪B通過皮帶傳動連接,皮帶輪B通過鉸接軸與噴頭段連接,驅動電機B驅動皮帶輪A通過皮帶輪B帶動噴頭段繞鉸接處旋轉擺動。
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