[發(fā)明專利]一種輻射監(jiān)測(cè)系統(tǒng)

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010176763.7
• 申請(qǐng)日: 2020-03-13
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN111337968A
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-06-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 孔祥松;胡博;張立波;彭會(huì)軍;陳全福;郭繼林;劉朋
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 孔祥松
• 主分類號(hào): G01T1/18
• 分類號(hào): G01T1/18;G01T1/208;G01T7/12
• 代理公司: 暫無(wú)信息
• 代理人: 暫無(wú)信息

1.一種輻射監(jiān)測(cè)系統(tǒng)，包括監(jiān)測(cè)終端和監(jiān)控中心，其特征在于，所述監(jiān)測(cè)終端內(nèi)設(shè)有探測(cè)器探頭、模擬電路模塊、模數(shù)轉(zhuǎn)換模塊、數(shù)字多道分析器和微處理器，探測(cè)器探頭和模擬電路模塊電性連接，模擬電路模塊通過(guò)模數(shù)轉(zhuǎn)換模塊和數(shù)字化多道分析器電性連接，數(shù)字化多道分析器和微處理器電性連接，所述監(jiān)測(cè)終端和監(jiān)控中心通訊連接。

2.如權(quán)利要求1所述的輻射監(jiān)測(cè)系統(tǒng)，其特征在于，所述監(jiān)控中心包括計(jì)算機(jī)和計(jì)算機(jī)處理方法，所述的計(jì)算機(jī)處理方法包括如下步驟：

(1)收集各個(gè)監(jiān)測(cè)終端上傳的核與輻射信息；

(2)判斷每個(gè)監(jiān)測(cè)終端上傳的核與輻射信息是否大于警戒值；

(3)判斷后符合大于警戒值的顯示到計(jì)算機(jī)上，同時(shí)當(dāng)輻射信息大于警戒值時(shí)開(kāi)啟聲光報(bào)警器。

3.如權(quán)利要求1所述的輻射監(jiān)測(cè)系統(tǒng)，其特征在于，所述模擬電路模塊包括核脈沖調(diào)理電路、模數(shù)轉(zhuǎn)換電路和用于GM計(jì)數(shù)管劑量率測(cè)量的脈沖成形電路。

4.如權(quán)利要求1所述的輻射監(jiān)測(cè)系統(tǒng)，其特征在于，所述數(shù)字信號(hào)處理模塊含有數(shù)字多道子系統(tǒng)和MPU子系統(tǒng)。

5.如權(quán)利要求1所述的輻射監(jiān)測(cè)系統(tǒng)，其特征在于，所述監(jiān)控終端外部設(shè)有金屬外殼。

6.如權(quán)利要求5所述的輻射監(jiān)測(cè)系統(tǒng)，其特征在于，所述金屬外殼內(nèi)還設(shè)有電池，電池分別和探測(cè)器探頭、模擬電路模塊、模數(shù)轉(zhuǎn)換模塊、數(shù)字多道分析器、微處理器電性連接。

7.如權(quán)利要求6所述的輻射監(jiān)測(cè)系統(tǒng)，其特征在于，所述金屬外殼分為上外殼和下外殼，探測(cè)器探頭設(shè)置在上外殼中，模擬電路模塊、模數(shù)轉(zhuǎn)換模塊、數(shù)字多道分析器、微處理器和電池設(shè)置在下外殼中。

8.如權(quán)利要求7所述的輻射監(jiān)測(cè)系統(tǒng)，其特征在于，所述下外殼下設(shè)有支架。

9.如權(quán)利要求1所述的輻射監(jiān)測(cè)系統(tǒng)，其特征在于，所述探測(cè)器探頭包括閃爍探測(cè)器和GM計(jì)數(shù)管。

10.如權(quán)利要求5所述的輻射監(jiān)測(cè)系統(tǒng)，其特征在于，所述金屬外殼上設(shè)有網(wǎng)絡(luò)數(shù)據(jù)接口或者SIM卡插入口，網(wǎng)絡(luò)數(shù)據(jù)接口或者SIM卡插入口和微處理器電性連接。