[發明專利]電漿裝置在審
| 申請號: | 202010175012.3 | 申請日: | 2020-03-13 |
| 公開(公告)號: | CN111822162A | 公開(公告)日: | 2020-10-27 |
| 發明(設計)人: | 徐逸明;王朝俊;李安仁 | 申請(專利權)人: | 馗鼎奈米科技股份有限公司 |
| 主分類號: | B05B3/10 | 分類號: | B05B3/10;H01J37/32 |
| 代理公司: | 北京律誠同業知識產權代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金國 |
| 地址: | 中國臺灣臺南市永康區亞*** | 國省代碼: | 臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 裝置 | ||
一種電漿裝置。此電漿裝置包含外殼、內電極、旋轉構件、延伸管座、噴嘴、以及磁浮馬達。外殼具有容置空間,其中容置空間具有彼此相對的第一開口與第二開口。內電極設于外殼的容置空間中且鄰近于第一開口。旋轉構件可旋轉地設于外殼的外側面外,其中旋轉構件具有至少一溝槽沿著外殼的外側面延伸,且旋轉構件包含數個磁性元件。延伸管座與旋轉構件接合且鄰近第二開口。噴嘴設于延伸管座上且與外殼的第二開口相對。磁浮馬達設于外殼上且位于旋轉構件的溝槽中,其中此磁浮馬達鄰近磁性元件。此電漿裝置利用磁浮馬達與旋轉構件之間的磁斥力來帶動旋轉構件與噴嘴旋轉,借此可達到大面積的電漿處理效果。
技術領域
本發明是有關于一種電漿裝置,且特別是有關于一種具旋轉噴嘴的電漿裝置。
背景技術
為因應工業化的生產需求,有時需對產品或組件的表面進行大面積的電漿處理。有鑒于此,目前發展出一些電漿技術,其大氣電漿裝置中的電漿噴嘴可相對于電漿裝置的軸心歪斜一角度,且電漿噴嘴可繞此軸心進行圓周式旋轉,借此可使電漿噴射面積增大,進而可達到大面積的電漿處理效果。
這樣的大氣電漿裝置的旋轉需通過馬達連結轉動皮帶輪,以帶動大氣電漿裝置的管狀電極以及電漿噴嘴旋轉,借此使電漿噴嘴的噴口相對于大氣電漿裝置的外殼做圓周式旋轉。然而,這樣的大氣電漿裝置長期使用下會導致皮帶松弛,需不定期更換皮帶才能維持裝置的運作。此外,此大氣電漿裝置的體積大,會造成裝置無法輕量化,且裝置成本也隨之提高。
發明內容
因此,本發明的一目的就是在提供一種電漿裝置,其利用磁浮馬達與旋轉構件之間所產生的磁斥力,來帶動旋轉構件,再利用旋轉構件來帶動噴嘴旋轉,故可達到大面積的電漿處理效果。
本發明的另一目的是在提供一種電漿裝置,其旋轉構件利用對磁浮馬達的磁斥力來產生旋轉的方式不僅可大幅降低旋轉構件的磨耗,更可抑制電漿裝置因旋轉構件的轉動所產生的震動,而可降低電漿裝置運轉所產生的噪音,并可提升磁浮馬達運轉的穩定度。
本發明的又一目的是在提供一種電漿裝置,其可改善習知透過馬達帶動皮帶輪轉動來進一步帶動噴嘴旋轉技術中,皮帶因長久使用而易疲乏需常更換的問題,進而可提升產線的生產率。
本發明的再一目的是在提供一種電漿裝置,其磁浮馬達與旋轉構件可安裝于電漿裝置中,因此可有效節省電漿裝置的體積,并可減少電漿裝置的裝置復雜性,而可延長電漿裝置的使用壽命,并可降低成本和簡化電漿裝置的組裝。
根據本發明的上述目的,提出一種電漿裝置。此電漿裝置包含外殼、內電極、旋轉構件、延伸管座、噴嘴、以及磁浮馬達。外殼具有容置空間,其中容置空間具有彼此相對的第一開口與第二開口。內電極設于外殼的容置空間中且鄰近于第一開口。旋轉構件可旋轉地設于外殼的外側面外,其中旋轉構件具有至少一溝槽沿著外殼的外側面延伸,且旋轉構件包含數個磁性元件。延伸管座與旋轉構件接合且鄰近第二開口。噴嘴設于延伸管座上且與外殼的第二開口相對。磁浮馬達設于外殼上且位于旋轉構件的溝槽中,其中此磁浮馬達鄰近磁性元件。
依據本發明的一實施例,上述的旋轉構件是一環形結構,且上述至少一溝槽是一環形溝槽,旋轉構件與溝槽均環設于外殼的外側面外。
依據本發明的一實施例,上述的至少一溝槽是環形溝槽,上述的磁性元件以相同間隔方式圍設于外殼的外側面外。
依據本發明的一實施例,上述的電漿裝置還包含分氣塊設于外殼的容置空間中且鄰近第一開口,其中內電極穿設于此分氣塊中,且分氣塊具有數個氣孔。
依據本發明的一實施例,上述每個氣孔的延伸方向相對于外殼的軸心傾斜。
依據本發明的一實施例,上述的噴嘴的噴口的延伸方向相對于外殼的軸心傾斜。
依據本發明的一實施例,上述的電漿裝置還包含至少一軸承,其中旋轉構件透過此至少一軸承與外殼的外側面連結。
附圖說明
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