[發明專利]一種掃描電子顯微鏡成像缺陷判定方法有效
| 申請號: | 202010169099.3 | 申請日: | 2020-03-12 |
| 公開(公告)號: | CN111289775B | 公開(公告)日: | 2021-08-31 |
| 發明(設計)人: | 李萬國;杜暢 | 申請(專利權)人: | 北京航空航天大學 |
| 主分類號: | G01Q30/02 | 分類號: | G01Q30/02 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 100191*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 掃描 電子顯微鏡 成像 缺陷 判定 方法 | ||
1.一種掃描電子顯微鏡成像缺陷的判定方法,其特征在于:(1)使用掃描電子顯微鏡發出的電子束照射在被觀察樣品表面的電子束斑的實際位置與理想位置的對照情況定義掃描電子顯微鏡的成像缺陷;(2)選取掃描電子顯微鏡中參與成像的部件,即電子槍、聚光鏡線圈、掃描線圈、物鏡線圈和樣品臺,作為測量機械振動的關鍵部位;(3)使用掃描電子顯微鏡在所選關鍵部位的機械振動測量信號,運用坐標變換的方法結合現有的電子束參數傳遞計算方法預測電子束斑實際照射位置在機械振動影響下與理想照射位置的偏差;(4)將所得偏差隨時間變化的曲線離散和變換后繪制成照射位置對照圖,可視化電子束實際照射位置與理想照射位置偏差的預測結果;(5)使用所繪制的照射位置對照圖判定掃描電子顯微鏡成像缺陷的性質和程度。
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