[發(fā)明專利]一種批量制作增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)光柵波導(dǎo)的方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010167098.5
• 申請日: 2020-03-11
• 公開（公告）號: CN111257997B
• 公開（公告）日: 2022-03-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 趙宇暄;孟祥峰;冒新宇;徐軍
• 申請（專利權(quán)）人: 北京至格科技有限公司
• 主分類號: G02B6/13
• 分類號: G02B6/13;G02B6/138
• 代理公司: 北京易捷勝知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11613
• 代理人: 齊勝杰

1.一種批量制作增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)光柵波導(dǎo)的方法，其特征在于，包括：

S1：制備具有預(yù)設(shè)圖案的壓印母版；

S2：在所述壓印母版上涂覆壓印膠，并通過納米壓印工藝將光柵波導(dǎo)圖案轉(zhuǎn)印到軟膜襯底上，得到具有光柵波導(dǎo)圖案的軟膜，其中所述具有光柵波導(dǎo)圖案的軟膜包括軟膜襯底和具有光柵波導(dǎo)圖案的壓印膠；

S3：將具有光柵波導(dǎo)圖案的軟膜直接貼到波導(dǎo)襯底上，得到增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)光柵波導(dǎo)。

2.如權(quán)利要求1所述的批量制作增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)光柵波導(dǎo)的方法，其特征在于，步驟S1中的所述預(yù)設(shè)圖案與增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)光柵波導(dǎo)上的光柵波導(dǎo)圖案的凹凸相反。

3.如權(quán)利要求1所述的批量制作增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)光柵波導(dǎo)的方法，其特征在于，步驟S1包括：

S11：在母版襯底上均勻涂覆光刻膠；

S12：采用曝光工藝對母版襯底上的光刻膠進(jìn)行曝光、顯影，在母版襯底上形成具有預(yù)設(shè)圖案的光刻膠；

S13：根據(jù)所述具有預(yù)設(shè)圖案的光刻膠對所述母版襯底進(jìn)行部分刻蝕，在母版襯底形成預(yù)設(shè)圖案；

S14：去除光刻膠，得到具有預(yù)設(shè)圖案的壓印母版。

4.如權(quán)利要求1所述的批量制作增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)光柵波導(dǎo)的方法，其特征在于，步驟S1中壓印母版的材料為硅、石英或玻璃其中之一。

5.如權(quán)利要求1所述的批量制作增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)光柵波導(dǎo)的方法，其特征在于，步驟S2中納米壓印為紫外壓印或熱壓印或二者的混合工藝。

6.如權(quán)利要求1所述的批量制作增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)光柵波導(dǎo)的方法，其特征在于，步驟S2包括：

S21：在所述壓印母版上均勻旋涂壓印膠；

S22：將軟膜襯底與壓印母版貼合，施加壓力使得壓印膠填充至所述壓印母版的所述光柵波導(dǎo)圖案中；

S23：利用紫外光固化、脫模，將具有光柵波導(dǎo)圖案的壓印膠轉(zhuǎn)移到所述軟膜襯底上，得到具有光柵波導(dǎo)圖案的軟膜。

7.如權(quán)利要求1所述的批量制作增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)光柵波導(dǎo)的方法，其特征在于，步驟S2中所述軟膜襯底的材料為PET材料、PDMS材料或者氟塑料材料其中之一，所述壓印膠為柔性材料。

8.如權(quán)利要求1所述的批量制作增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)光柵波導(dǎo)的方法，其特征在于，步驟S3包括：

S31：利用紫外線照射所述具有光柵波導(dǎo)圖案的軟膜，在與所述波導(dǎo)襯底貼合的表面進(jìn)行等離子氧化；

S32：將軟膜等離子氧化后的表面與所述波導(dǎo)襯底進(jìn)行粘貼，得到增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)光柵波導(dǎo)。

9.如權(quán)利要求1所述的批量制作增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)光柵波導(dǎo)的方法，其特征在于，步驟S3包括：

S33：將固化后具有光柵波導(dǎo)圖案的壓印膠從所述軟膜襯底上剝離；

S34：將剝離后具有光柵波導(dǎo)圖案的壓印膠直接粘貼到所述波導(dǎo)襯底上，得到增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)光柵波導(dǎo)。

10.如權(quán)利要求1-9中任一項(xiàng)所述的批量制作增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)光柵波導(dǎo)的方法，其特征在于，所述波導(dǎo)襯底為平面襯底或曲面襯底。