[發(fā)明專利]基片升降機構、基片支承器和基片處理裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010157227.2
• 申請日: 2020-03-09
• 公開（公告）號: CN111710641B
• 公開（公告）日: 2023-06-20
• 發(fā)明（設計）人: 出口新悟
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創(chuàng)株式會社
• 主分類號: H01L21/687
• 分類號: H01L21/687
• 代理公司: 北京尚誠知識產(chǎn)權代理有限公司 11322
• 代理人: 龍淳;劉芃茜

1.一種基片升降機構，其用于使基片相對于設置于基片處理裝置的腔室內(nèi)的載置臺的上表面升降，所述基片升降機構的特征在于，包括：

升降銷，其構成為能夠在其前端支承基片；

驅(qū)動機構，其構成為以容許所述升降銷的水平移動的方式支承該升降銷，并能夠使該升降銷升降；

多個波紋管，其以包圍所述升降銷的方式沿垂直方向排列以密封所述升降銷的周圍的空間，所述多個波紋管包括第1波紋管和第2波紋管，所述第1波紋管設置于該多個波紋管中最靠上的位置，具有作為固定端的上端和能夠與所述升降銷一起水平移動的下端，所述第2波紋管設置于所述第1波紋管的下方，能夠與所述升降銷的升降連動地在垂直方向上伸縮；以及

限制機構，其構成為能夠限制所述第1波紋管的垂直方向上的伸縮。

2.如權利要求1所述的基片升降機構，其特征在于：

所述限制機構包括：

被設置成限制所述第1波紋管的垂直方向上的縮小的第1定程器；和

被設置成限制所述第1波紋管的垂直方向上的伸長的第2定程器。

3.如權利要求2所述的基片升降機構，其特征在于：

所述第1波紋管的所述下端包括凸緣，

所述第1定程器以限制所述第1波紋管的垂直方向上的縮小的方式在所述凸緣之上或者上方延伸，

所述第2定程器以限制所述第1波紋管的垂直方向上的伸長的方式在所述凸緣之下或者下方延伸。

4.如權利要求1～3中任一項所述的基片升降機構，其特征在于：

所述第1波紋管的內(nèi)徑比所述第2波紋管的內(nèi)徑大。

5.如權利要求4所述的基片升降機構，其特征在于：

所述第2波紋管的外徑比所述第1波紋管的外徑小。

6.如權利要求1～5中任一項所述的基片升降機構，其特征在于：

所述升降銷的一部分在形成于所述腔室的貫通孔和形成于所述載置臺的貫通孔中延伸，能夠與所述載置臺的熱變形連動地水平移動，

所述驅(qū)動機構固定于所述腔室，

所述第1波紋管的所述上端以密封形成于所述腔室的所述貫通孔的方式固定于所述腔室。

7.如權利要求6所述的基片升降機構，其特征在于：

還包括具有筒形形狀的銷引導件，其在所述載置臺的下方延伸，提供與形成于所述載置臺的所述貫通孔相連的內(nèi)孔，

所述銷引導件固定于所述載置臺，

所述升降銷的一部分在所述銷引導件的內(nèi)孔中延伸。

8.如權利要求1～7中任一項所述的基片升降機構，其特征在于：

所述升降銷包括銷主體和柱狀的銷保持件，

所述銷主體包括所述前端，沿垂直方向延伸，

所述銷保持件支承所述銷主體，從所述銷主體向下方延伸。

9.如權利要求1～8中任一項所述的基片升降機構，其特征在于：

所述驅(qū)動機構包括：

以容許所述升降銷的水平移動的方式支承該升降銷的定心裝置；

在所述定心裝置的下方沿垂直方向延伸的驅(qū)動軸；和

構成為能夠使所述驅(qū)動軸升降的驅(qū)動裝置。

10.如權利要求9所述的基片升降機構，其特征在于：

所述定心裝置包括：

設置于所述驅(qū)動軸的上方并被該驅(qū)動軸支承的基座；和

以能夠水平移動的方式被支承于所述基座上的承載臺，

所述升降銷的下端固定于所述承載臺，

所述第2波紋管的下端以密封該第2波紋管的下端開口的方式固定于所述承載臺。

11.一種基片支承器，其特征在于，包括：

設置于基片處理裝置的腔室內(nèi)的載置臺；和

權利要求1～10中任一項所述的基片升降機構，其構成為能夠使基片相對于所述載置臺的上表面升降。