[發(fā)明專利]防窺膜、背光源和顯示裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010156961.7 | 申請日: | 2020-03-09 |
| 公開(公告)號: | CN111323982B | 公開(公告)日: | 2023-07-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 湯海;高亮;耿霄霖;張冰 | 申請(專利權(quán))人: | 合肥京東方光電科技有限公司;京東方科技集團股份有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/167 | 分類號: | G02F1/167;G02F1/1677;G02F1/16757;G02F1/13;G02F1/13357;G02F1/157 |
| 代理公司: | 北京天昊聯(lián)合知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11112 | 代理人: | 姜春咸;馮建基 |
| 地址: | 230012 安*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 防窺膜 背光源 顯示裝置 | ||
本公開提供一種防窺膜,其特征在于,所述防窺膜包括透光的膜本體、電泳液、第一電極圖形和第二電極圖形,所述膜本體包括入光面和出光面,所述第一電極圖形和所述第二電極圖形沿所述防窺膜的厚度方向間隔設(shè)置,所述膜本體內(nèi)部形成有多個容納腔,所述電泳液設(shè)置在所述容納腔內(nèi),且所述電泳液位于所述第一電極圖形和所述第二電極圖形之間,延伸方向一致的相鄰兩條所述容納腔之間的距離為預(yù)定距離,所述電泳液包括分散介質(zhì)和電泳粒子,所述分散介質(zhì)的折射率小于所述膜本體的折射率。本公開還提供一種背光源和一種顯示裝置。所述防窺膜可以提高防窺模式下顯示裝置的亮度。
技術(shù)領(lǐng)域
本公開涉及顯示裝置領(lǐng)域,具體地,涉及一種防窺膜、一種背光源和一種顯示裝置。
背景技術(shù)
目前市場上存在一種具有防窺功能的顯示裝置,具體地,該顯示裝置具有兩種模式:一種為共享模式,顯示裝置的視角較大;另一種為防窺模式,顯示裝置的視角較小。當所述顯示裝置處于防窺模式時,允許正對所述顯示裝置的顯示面的觀看者看到畫面;當所述顯示裝置處于共享模式時,允許稍偏離顯示裝置顯示面的觀看者看到畫面。
目前的具有防窺功能的顯示裝置亮度較低,從而增加了顯示裝置的能耗。因此,如何提高顯示裝置的能耗稱為本領(lǐng)域亟待解決的技術(shù)問題。
發(fā)明內(nèi)容
本公開的目的在于本公開的目的在于提供一種防窺膜、一種背光源和一種顯示裝置。所述防窺膜可以提高顯示裝置在防窺模式下的亮度,降低顯示裝置的能耗。
為了實現(xiàn)上述目的,作為本公開的一個方面,提供一種防窺膜,其中,所述防窺膜包括透光的膜本體、電泳液、第一電極圖形和第二電極圖形,所述膜本體包括入光面和出光面,所述第一電極圖形和所述第二電極圖形沿所述防窺膜的厚度方向間隔設(shè)置,所述膜本體內(nèi)部形成有多個容納腔,所述電泳液設(shè)置在所述容納腔內(nèi),且所述電泳液位于所述第一電極圖形和所述第二電極圖形之間,延伸方向一致的相鄰兩條所述容納腔之間的距離為預(yù)定距離,所述電泳液包括分散介質(zhì)和電泳粒子,所述分散介質(zhì)的折射率小于所述膜本體的折射率。
可選地,所述膜本體的出光面包括多個平面連接部和多個曲面凸起部,所述曲面凸起部位于相鄰兩個所述容納腔之間,所述平面連接部連接相鄰的所述曲面凸起部。
可選地,所述防窺膜的尺寸滿足以下關(guān)系:
其中,d1為相鄰兩個容納槽相對的側(cè)面之間的距離;
h1為容納槽的頂面與所述入光面之間的距離;
σ為從所述防窺膜的入光側(cè)投射在所述曲面凸起部上的光線的最大發(fā)散角。
可選地,所述分散介質(zhì)的折射率和所述膜本體的折射率之間滿足以下關(guān)系:
其中,n4為所述分散介質(zhì)的折射率;
n1為所述膜本體的折射率;
δ為從所述容納腔的側(cè)壁上反射的光線的最大發(fā)散角。
可選地,所述第一電極圖形包括多個第一電極,每個所述容納腔內(nèi)均設(shè)置有至少一個所述第一電極。
可選地,所述膜本體包括第一基板和第二基板,所述第一基板和所述第二基板貼合,所述第二基板背離所述第一基板的表面為所述入光面,所述第一基板背離所述第二基板的表面為所述出光面。
可選地,所述第一電極設(shè)置在所述容納腔的頂面上,所述第一電極的邊緣與所述容納腔的側(cè)壁之間存在間隔,其中,所述容納腔的頂面為所述容納腔上朝向所述出光面的表面。
可選地,所述容納腔形成在所述第一基板內(nèi),或者,所述容納腔包括形成在所述第一基板上的第一容納槽和形成在所述第二基板上的第二容納槽。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學;光學
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導結(jié)構(gòu)中的





