[發(fā)明專利]一種富氫水生產(chǎn)系統(tǒng)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010154400.3 | 申請日: | 2020-03-07 |
| 公開(公告)號: | CN113354054A | 公開(公告)日: | 2021-09-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 李紅傳;黃尚杰;謝曙;張建國 | 申請(專利權(quán))人: | 東莞寶杰康氫科技有限公司;株洲寶杰康氫科技有限公司 |
| 主分類號: | C02F1/68 | 分類號: | C02F1/68;B01F3/04 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 523000 廣東省東莞市松*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 水生 系統(tǒng) | ||
1.一種富氫水生產(chǎn)系統(tǒng),其特征在于,包括制氫模塊、飲水箱和曝氣裝置,所述制氫模塊上設(shè)置有用于排出制得氣體的氣體流道,所述氣體流道包括氫氣流道,所述飲水箱連接有飲用水管,所述氫氣流道連通至所述飲用水管以制得富氫水,所述飲水箱上設(shè)置有富氫水出水管,所述富氫水流經(jīng)所述曝氣裝置,使富氫水中的大分子氫氣變成微納米級別的小分子氫氣;所述制氫模塊包括可相互導(dǎo)熱的電解池和熱交換系統(tǒng),用于調(diào)節(jié)所述制氫模塊的溫度。
2.如權(quán)利要求1所述的富氫水生產(chǎn)系統(tǒng),其特征在于,所述富氫水生產(chǎn)系統(tǒng)還包括可測定富氫水濃度的濃度檢測裝置和回流管路,所述回流管路連通至所述氫氣流道與所述飲用水管的連通處。
3.如權(quán)利要求1所述的富氫水生產(chǎn)系統(tǒng),其特征在于,所述富氫水系統(tǒng)還包括氣液混合裝置和瞬時加熱模塊,富氫水經(jīng)所述氣液混合裝置和所述瞬時加熱模塊流至富氫水出口;和/或,
所述富氫水系統(tǒng)還包括密封儲水箱,所述密封儲水箱連接在所述曝氣裝置的下游。
4.如權(quán)利要求1所述的富氫水生產(chǎn)系統(tǒng),其特征在于,所述富氫水生產(chǎn)系統(tǒng)還包括給水箱,所述給水箱通過給水管路與所述制氫模塊連通,所述給水管路上設(shè)置有過濾裝置和瞬時加熱模塊,所述給水管路上還設(shè)置有給水泵或者單向閥。
5.如權(quán)利要求4所述的富氫水生產(chǎn)系統(tǒng),其特征在于,所述給水箱內(nèi)還設(shè)置有水質(zhì)檢測裝置和液位檢測裝置。
6.如權(quán)利要求1所述的富氫水生產(chǎn)系統(tǒng),其特征在于,所述熱交換系統(tǒng)包括熱交換裝置本體,所述熱交換裝置本體內(nèi)設(shè)置有熱交換腔和相變腔,所述熱交換腔和所述相變腔可直接相互導(dǎo)熱,所述熱交換裝置本體上還設(shè)置有導(dǎo)熱介質(zhì)進口和導(dǎo)熱介質(zhì)出口,所述導(dǎo)熱介質(zhì)進口和所述導(dǎo)熱介質(zhì)出口皆與所述熱交換腔相連通;所述相變腔內(nèi)設(shè)置有相變材料。
7.如權(quán)利要求6所述的富氫水生產(chǎn)系統(tǒng),其特征在于,所述相變腔包括第一相變腔和第二相變腔,所述第一相變腔位于所述熱交換腔和所述第二相變腔之間,所述第一相變腔與所述熱交換腔可直接相互導(dǎo)熱,所述第一相變腔和所述第二相變腔也可直接相互導(dǎo)熱,所述第一相變腔和第二相變腔內(nèi)分別設(shè)置有相變溫度不同的相變材料。
8.如權(quán)利要求7所述的富氫水生產(chǎn)系統(tǒng),其特征在于,所述第一相變腔內(nèi)設(shè)置有第一相變材料,所述第二相變腔內(nèi)設(shè)置有第二相變材料,所述第一相變材料的相變溫度小于所述第二相變材料的相變溫度;所述第一相變材料的相變溫度與所述第二相變材料的相變溫度之比為:1:1.5-3.5。
9.如權(quán)利要求8所述的富氫水生產(chǎn)系統(tǒng),其特征在于,所述第一相變材料為氣液相變材料,所述第二相變材料為固液相變材料;或者;
所述第一相變材料為水、乙醇或者氟利昂中的一種或者多種的混合物;所述第二相變材料為相變金屬材料、石蠟或者無機水合鹽中的一種或者多種的混合物。
10.如權(quán)利要求6所述的富氫水生產(chǎn)系統(tǒng),其特征在于,所述第一相變腔內(nèi)的第一相變材料占所述第一相變腔容積的10%-100%,所述第二相變腔內(nèi)的第二相變材料占所述第二相變腔容積的70%-100%;所述第一相變腔為真空腔;所述第二相變腔為真空腔或普通密封腔體。
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