[發(fā)明專利]一種陶瓷上釉設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010152303.0
• 申請(qǐng)日: 2020-03-06
• 公開（公告）號(hào): CN111283855B
• 公開（公告）日: 2021-07-13
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張凱麗
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 肇慶市高要區(qū)鴻順達(dá)陶瓷有限公司
• 主分類號(hào): B28B11/04
• 分類號(hào): B28B11/04
• 代理公司: 東莞市神州眾達(dá)專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) 44251
• 代理人: 周松強(qiáng)

1.一種陶瓷上釉設(shè)備，其特征在于，包括：

進(jìn)料裝置(1)，所述進(jìn)料裝置(1)包括運(yùn)輸組件a(11)；

轉(zhuǎn)運(yùn)組件(2)，所述轉(zhuǎn)運(yùn)組件(2)包括運(yùn)輸組件b(21)、安裝組件(22)、抓取組件(23)及控制組件(24)，所述運(yùn)輸組件b(21)設(shè)置在所述運(yùn)輸組件a(11)一側(cè)；所述安裝組件(22)上下滑動(dòng)設(shè)置在所述運(yùn)輸組件a(11)的側(cè)面，若干所述安裝組件(22)沿所述運(yùn)輸組件b(21)的輸送路徑陣列，且所述安裝組件(22)經(jīng)過(guò)所述運(yùn)輸組件a(11)的上方；所述抓取組件(23)與所述安裝組件(22)一一對(duì)應(yīng)設(shè)置，且其伸縮設(shè)置在所述安裝組件(22)的底部；所述控制組件(24)設(shè)置在所述安裝組件(22)的上方，且其與所述安裝組件(22)抵觸設(shè)置；

上釉裝置(3)，所述上釉裝置(3)包括釉池(31)和旋轉(zhuǎn)組件(32)，所述釉池(31)沿所述運(yùn)輸組件b(21)的輸送路徑設(shè)置在所述進(jìn)料裝置(1)的后側(cè)；所述旋轉(zhuǎn)組件(32)沿所述運(yùn)輸組件b(21)輸送路徑設(shè)置在所述釉池(31)兩側(cè)，且所述旋轉(zhuǎn)組件(32)驅(qū)動(dòng)所述抓取組件(23)轉(zhuǎn)動(dòng)；

出料裝置(4)，所述出料裝置(4)包括運(yùn)輸組件c(41)，所述運(yùn)輸組件b(21)的輸送路徑設(shè)置在所述釉池(31)的后側(cè)；

在工作過(guò)程中，未上釉的瓶胚通過(guò)所述運(yùn)輸組件a(11)輸送并經(jīng)過(guò)與其同步移動(dòng)的所述安裝組件(22)的下方，所述控制組件(24)驅(qū)動(dòng)所述安裝組件(22)下移，所述抓取組件(23)伸入瓶胚內(nèi)部，隨著移動(dòng)，所述抓取組件(23)伸出將瓶胚與所述安裝組件(22)固定，瓶胚被運(yùn)送至所述釉池(31)上方時(shí)，所述控制組件(24)驅(qū)動(dòng)所述安裝組件(22)下移，瓶胚進(jìn)入所述釉池(31)，所述旋轉(zhuǎn)組件(32)帶動(dòng)所述抓取組件(23)及瓶胚在所述釉池(31)內(nèi)轉(zhuǎn)動(dòng)，上釉之后瓶胚繼續(xù)運(yùn)輸至所述運(yùn)輸組件c(41)上方，所述抓取組件(23)松開對(duì)瓶胚的束縛，同時(shí)所述控制組件(24)帶動(dòng)所述抓取組件(23)移出瓶胚，瓶胚被所述運(yùn)輸組件c(41)輸送；

所述運(yùn)輸組件b(21)包括安裝架(211)、鏈輪(212)、鏈條(213)及電機(jī)(214)，所述鏈輪(212)轉(zhuǎn)動(dòng)安裝在所述安裝架(211)上，且三個(gè)所述鏈輪(212)沿所述安裝架(211)長(zhǎng)度方向陣列；所述鏈條(213)套設(shè)在所述鏈輪(212)的外側(cè)；所述電機(jī)(214)固定在所述安裝架(211)上，且其動(dòng)力軸與位于中間的所述鏈輪(212)同軸固定連接；

所述安裝組件(22)包括固定桿(221)、滾輪(222)及安裝臺(tái)(223)，所述固定桿(221)垂直固定在所述鏈條(213)上，且若干所述固定桿(221)沿所述鏈條(213)轉(zhuǎn)動(dòng)路徑陣列；所述滾輪(222)與所述固定桿(221)一一對(duì)應(yīng)設(shè)置，且其通過(guò)連接桿轉(zhuǎn)動(dòng)安裝在所述固定桿(221)的下方，該滾輪(222)沿所述安裝架(211)的邊緣滾動(dòng)；所述安裝臺(tái)(223)固定在所述固定桿(221)的自由端；

所述抓取組件(23)包括導(dǎo)向桿(231)、套筒(232)、限位輪(233)、限位桿a(234)、滑動(dòng)桿(235)、導(dǎo)向輪(236)、限位組件(237)、橡膠板(238)及彈簧a(239)，所述導(dǎo)向桿(231)上下滑動(dòng)設(shè)置在所述安裝臺(tái)(223)上；所述套筒(232)轉(zhuǎn)動(dòng)安裝在所述導(dǎo)向桿(231)的底部；所述限位輪(233)固定安裝在所述套筒(232)頂端，且其與所述導(dǎo)向桿(231)轉(zhuǎn)動(dòng)連接；所述限位桿a(234)彈性固定在所述套筒(232)頂端，且其與所述限位輪(233)抵觸配合；所述滑動(dòng)桿(235)沿所述套筒(232)徑向滑動(dòng)設(shè)置在所述套筒(232)底部，且四根所述滑動(dòng)桿(235)以所述套筒(232)的軸心為中心圓周陣列分布；一對(duì)所述導(dǎo)向輪(236)轉(zhuǎn)動(dòng)安裝在所述滑動(dòng)桿(235 )長(zhǎng)度方向兩端；所述限位組件(237)上下滑動(dòng)設(shè)置在所述套筒(232)內(nèi)部，且其與位于所述套筒(232)內(nèi)部的所述導(dǎo)向輪(236)抵觸配合；所述橡膠板(238)環(huán)繞在所述套筒(232)的外壁上，且其位于所述滑動(dòng)桿(235)的上方；所述彈簧a(239)套設(shè)在所述滑動(dòng)桿(235)上，且其兩端分別固定在所述套筒(232)的內(nèi)壁和所述滑動(dòng)桿(235)的一端；

所述限位組件(237)包括接觸桿(2371)、限位孔(2372)、限位桿b(2373)、限位條(2374)、限位軌a(2375)及限位軌b(2376)，所述接觸桿(2371)豎直滑動(dòng)設(shè)置在所述套筒(232)內(nèi)，且所述接觸桿(2371)頂端通過(guò)彈簧與所述套筒(232)連接，該接觸桿(2371)包括上下設(shè)置的凸起部(23711)和配合部(23712)，且位于所述套筒(232)內(nèi)部的所述導(dǎo)向輪(236)沿所述凸起部(23711)和配合部(23712)滾動(dòng)；兩個(gè)所述限位孔(2372)上下設(shè)置在所述凸起部(23711)上；所述限位桿b(2373)彈性固定在所述套筒(232)的內(nèi)壁上，且其可插設(shè)在所述限位孔(2372)內(nèi)；所述限位條(2374)垂直所述鏈條(213)轉(zhuǎn)動(dòng)方向設(shè)置在所述接觸桿(2371)的頂部，且所述限位條(2374)伸出所述套筒(232)；所述限位軌a(2375)沿所述鏈條(213)的轉(zhuǎn)動(dòng)方向設(shè)置在所述釉池(31)的前側(cè)，且其位于所述運(yùn)輸組件a(11)的上方，該限位軌a(2375)沿所述鏈條(213)的轉(zhuǎn)動(dòng)方向其軌道高度降低，且其下表面與所述限位條(2374)抵觸配合；所述限位軌b(2376)沿所述鏈條(213)的轉(zhuǎn)動(dòng)方向設(shè)置在所述釉池(31)的后側(cè)，且其位于所述運(yùn)輸組件c(41)的上方，該限位軌b(2376)沿所述鏈條(213)的轉(zhuǎn)動(dòng)方向其軌道高度增加，且其上表面與所述限位條(2374)抵觸配合；

所述控制組件(24)包括擋板(241)、彈簧(242)及限位圈(243)，所述擋板(241)固定在所述導(dǎo)向桿(231)的上；所述彈簧(242)設(shè)置在所述擋板(241)及所述安裝臺(tái)(223)之間，且其套設(shè)在所述導(dǎo)向桿(231)上；所述限位圈(243)與所述安裝架(211)固定連接，且其沿所述安裝組件(22)的移動(dòng)路徑設(shè)置，并且與所述導(dǎo)向桿(231)的頂端抵觸配合；

所述旋轉(zhuǎn)組件(32)包括齒輪(321)、齒條a(322)及齒條b(323)，所述齒輪(321)同軸固定在所述套筒(232)上；所述齒條a(322)設(shè)置在所述釉池(31)一側(cè)；所述齒條b(323)相對(duì)于所述齒條a(322)設(shè)置在所述釉池(31)的另一側(cè)，且其沿所述鏈條(213)的轉(zhuǎn)動(dòng)方向設(shè)置在所述齒條a(322)的后側(cè)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種陶瓷上釉設(shè)備，其特征在于，所述限位圈(243)包括接觸部(2431)、凹陷部a(2432)、凹陷部b(2433)及凹陷部c(2434)，所述凹陷部a(2432)及所述凹陷部c(2434)分別與所述限位軌a(2375)及限位軌b(2376)設(shè)置，所述凹陷部b(2433)位于所述釉池(31)上方；所述接觸部(2431)將所述凹陷部a(2432)、凹陷部b(2433)及凹陷部c(2434)串聯(lián)成一整體。