[發(fā)明專利]一種適用于帶狀注行波管的新型可調(diào)磁聚焦系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010150361.X
• 申請日: 2020-03-06
• 公開（公告）號: CN111383873B
• 公開（公告）日: 2021-07-06
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 段兆云;江勝坤;羅恒宇;麥爾丹·吾拉木;唐濤;王戰(zhàn)亮;鞏華榮;宮玉彬
• 申請（專利權(quán)）人: 電子科技大學(xué)
• 主分類號: H01J23/087
• 分類號: H01J23/087;H01J25/34
• 代理公司: 電子科技大學(xué)專利中心 51203
• 代理人: 吳姍霖

1.一種適用于帶狀注行波管的新型可調(diào)磁聚焦系統(tǒng)，包括磁聚焦系統(tǒng)和磁聚焦系統(tǒng)固定裝置，其特征在于，所述磁聚焦系統(tǒng)包括n個單周期磁體組件和一對極靴，所述單周期磁體組件由兩組對稱設(shè)置、相互排斥的磁體單元組成，所述磁體單元包括兩個并排設(shè)置的第一永磁體和交錯吸附于第一永磁體表面的兩個第二永磁體，所述極靴設(shè)置于第一永磁體靠近電子槍一側(cè)，其中，所述第一永磁體表面為并排設(shè)置的第一永磁體遠離另一排的所在表面，n為正整數(shù)；

所述磁聚焦系統(tǒng)固定裝置包括第一磁聚焦系統(tǒng)支架、第二磁聚焦系統(tǒng)支架、磁聚焦系統(tǒng)支架條和連接板；所述第一磁聚焦系統(tǒng)支架和第二磁聚焦系統(tǒng)支架均為L型，所述第一磁聚焦系統(tǒng)支架和第二磁聚焦系統(tǒng)支架的側(cè)面結(jié)構(gòu)相同，均設(shè)置有通孔，用于放置磁聚焦系統(tǒng)中的第二永磁體；通孔上方固定設(shè)置有磁聚焦系統(tǒng)支架條，和磁聚焦系統(tǒng)支架配合固定單周期磁體組件；所述連接板位于磁聚焦系統(tǒng)支架條上方，用于固定連接第一磁聚焦系統(tǒng)支架和第二磁聚焦系統(tǒng)支架；所述第一磁聚焦系統(tǒng)支架的底面設(shè)置有定位塊，定位塊上方用于放置高頻結(jié)構(gòu)，且兩組磁體單元關(guān)于定位塊對稱；所述第二磁聚焦系統(tǒng)支架的底面與第一磁聚焦系統(tǒng)支架的底面固定連接。

2.如權(quán)利要求1所述適用于帶狀注行波管的新型可調(diào)磁聚焦系統(tǒng)，其特征在于，通過調(diào)節(jié)第二磁聚焦系統(tǒng)支架底面相對于第一磁聚焦系統(tǒng)支架底面的距離來調(diào)節(jié)磁聚焦系統(tǒng)中兩組磁體單元的間距。

3.如權(quán)利要求1所述適用于帶狀注行波管的新型可調(diào)磁聚焦系統(tǒng)，其特征在于，所述通孔的高度大于第二永磁體高度，用于調(diào)節(jié)第二永磁體相對于第一永磁體的位置。

4.如權(quán)利要求1所述適用于帶狀注行波管的新型可調(diào)磁聚焦系統(tǒng)，其特征在于，所述交錯設(shè)置的第二永磁體之間的垂直間距為w，當w值由小變大時，帶狀電子注的寬邊由過聚焦到聚焦不足。

5.如權(quán)利要求1所述適用于帶狀注行波管的新型可調(diào)磁聚焦系統(tǒng)，其特征在于，所述第一永磁體和第二永磁體的材料均為釹鐵硼；所述極靴材料為純鐵；所述磁聚焦系統(tǒng)固定裝置材料均為無磁金屬。

6.如權(quán)利要求5所述適用于帶狀注行波管的新型可調(diào)磁聚焦系統(tǒng)，其特征在于，所述無磁金屬為鋁。