[發明專利]一種具備檢測功能的退火爐在審
| 申請號: | 202010149896.5 | 申請日: | 2020-03-06 |
| 公開(公告)號: | CN111363904A | 公開(公告)日: | 2020-07-03 |
| 發明(設計)人: | 劉樟 | 申請(專利權)人: | 安徽鼎華玻璃科技有限公司 |
| 主分類號: | C21D9/00 | 分類號: | C21D9/00;C21D1/26;C21D11/00;F27D3/12 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 239000 安徽省*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 具備 檢測 功能 退火爐 | ||
本發明提供一種具備檢測功能的退火爐,涉及退火爐領域,包括退火爐本體、運輸爐車和爐槽,所述退火爐本體的內部開設有爐槽,其中退火爐本體的開口位置處的兩端均設置有側擋板,側擋板的內部通過齒輪驅動機構嚙合連接有前擋板。本發明中,通過在爐體內部設置上限位板和下限位板,則運輸爐車可在上限位板和下限位板之間進行滑動,同時,上限位板和下限位板內部開設有滑槽,運輸爐車上的滑動塊可在滑槽內部滑動,之后爐車將材料輸送到爐體內,前擋板下移擋住爐體,通過這樣的設置可使得爐車移動的穩定性更高,且限位塊的設置還能夠保證爐車移動的位置,同時還可最大程度的保證了退火爐整體的密封性能。
技術領域
本發明涉及退火爐領域,尤其涉及一種具備檢測功能的退火爐。
背景技術
退火爐是在半導體器件制造中使用的一種工藝,其包括加熱多個半導體晶片以影響其電性能;熱處理是針對不同的效果而設計的。可以加熱晶片以激活摻雜劑,將薄膜轉換成薄膜或將薄膜轉換成晶片襯底界面,使致密沉積的薄膜,改變生長的薄膜的狀態,修復注入的損傷,移動摻雜劑或將摻雜劑從一個薄膜轉移到另一個薄膜或從薄膜進入晶圓襯底;退火爐可以集成到其他爐子處理步驟中,例如氧化,或者可以自己處理。退火爐是由專門為加熱半導體晶片而設計的設備完成的;熱處理爐分為退火爐、淬火爐、回火爐、正火爐、調質爐,主要用于大型碳鋼、合金鋼零件的退火;表面淬火件回火;焊件消除應力退火、時效等熱處理工藝。加熱方式有電加熱、燃油、燃氣、燃煤、熱風循環;退火爐是一種新型換熱設備。
但是,現有的臺車式退火爐的運輸爐車會隨材料一同進入內部進行加工,所以爐體本身的密封性無法得到保障,同時還存在著自動化程度低等缺陷;不滿足現有的需求,因此本發明提出一種具備檢測功能的退火爐來解決上述問題。
發明內容
本發明的目的在于提供一種具備檢測功能的退火爐,以解決上述技術問題。
本發明為解決上述技術問題,采用以下技術方案來實現:一種具備檢測功能的退火爐,包括退火爐本體、運輸爐車和爐槽,其特征在于:所述退火爐本體的內部開設有爐槽,其中退火爐本體的開口位置處的兩端均設置有側擋板,側擋板的內部通過齒輪驅動機構嚙合連接有前擋板,前擋板正好完全擋住爐槽開口處;
所述退火爐本體的內側底部設置有底座,底座的頂部兩側設置有滾輪槽,其中滾輪槽上通過滾輪滑動連接有運輸爐車;所述退火爐本體的內側底部固定有下限位板,下限位板的上方設置有上限位板,其中運輸爐車的兩端滑動連接在上限位板和下限位板之間;
所述退火爐本體的外側設置有主控器,退火爐本體的內部設置有溫度控制器和計時控制器,所述溫度控制器和計時控制器均與主控器電性連接。
優選的,所述齒輪驅動機構包含有驅動輪、驅動電機和齒條板,其中齒條板設置在前擋板的兩側,驅動輪設置在側擋板的內部,且驅動輪與齒條板嚙合連接,其中驅動電機設置在側擋板的外側,驅動電機通過鏈條與驅動輪傳動連接。
優選的,所述驅動電機的控制器與主控器電性連接。
優選的,所述上限位板和下限位板的內部均開設有滑槽,且兩個滑槽相向設置,運輸爐車兩端的上下兩側均設置有滑動塊,其中滑動塊在相應的滑槽內滑動。
優選的,所述運輸爐車的控制器與主控器電性連接。
優選的,所述退火爐本體的內壁上設置有加熱板。
優選的,所述前擋板的高度與退火爐本體的高度相同。
進一步的,。
與相關技術相比較,本發明提供的具備檢測功能的退火爐具有如下有益效果:
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