[發(fā)明專利]一種氣懸浮運(yùn)輸裝置

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010143992.9
• 申請(qǐng)日: 2020-03-04
• 公開（公告）號(hào): CN111170013A
• 公開（公告）日: 2020-05-19
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 尉世卓
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 上海睿范自動(dòng)化設(shè)備有限公司
• 主分類號(hào): B65G54/00
• 分類號(hào): B65G54/00
• 代理公司: 北京盛凡智榮知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11616
• 代理人: 李青

一種氣懸浮運(yùn)輸裝置，涉及運(yùn)輸裝置領(lǐng)域，包括載板，載板頂面等間距設(shè)置出氣機(jī)構(gòu)，載板內(nèi)部設(shè)向出氣機(jī)構(gòu)供氣的供氣管路；出氣機(jī)構(gòu)包括凹盤，凹盤被側(cè)擋板分為相同構(gòu)造的兩側(cè)，側(cè)擋板頂端水平固定有壓氣板，在側(cè)擋板兩側(cè)的壓氣板底面均設(shè)有導(dǎo)氣槽，導(dǎo)氣槽頂面為一半圓平面、側(cè)面為向外傾斜的平直面；供氣管路包括第一進(jìn)氣口、第二進(jìn)氣口，第一進(jìn)氣口通過第一總管連通第一支管，第一支管均分布于側(cè)擋板同一側(cè)的凹盤下方；第二進(jìn)氣口通過第二總管連通第二支管，第二支管均分布于側(cè)擋板另一側(cè)的凹盤下方；第一支管、第二支管分別通過通氣管向上排氣，通氣管分別正對(duì)著相應(yīng)一側(cè)的導(dǎo)氣槽。本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N氣懸浮運(yùn)輸裝置，能實(shí)現(xiàn)硅片等氣懸浮的傳輸效果。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及運(yùn)輸裝置領(lǐng)域，具體涉及一種適用于光伏、面板、玻璃等高要求清潔度的板式物料傳輸行業(yè)的氣懸浮運(yùn)輸裝置。

背景技術(shù)

目前光伏行業(yè)內(nèi)的硅片傳輸普遍使用皮帶式傳輸結(jié)構(gòu)，皮帶傳輸硅片存在以下兩大問題：

1、硅片與皮帶直接接觸，在加速或減速的時(shí)候容易與皮帶產(chǎn)生摩擦，造成劃痕；

2、由于兩根皮帶傳輸，會(huì)存在不同步的問題，在硅片薄片化的趨勢(shì)下，容易造成硅片碎片。

發(fā)明內(nèi)容

為了至少解決上述現(xiàn)有技術(shù)中存在的問題之一，本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N氣懸浮運(yùn)輸裝置，能實(shí)現(xiàn)硅片等板料氣懸浮加速或/和減速的傳輸效果。

為了實(shí)現(xiàn)上述技術(shù)效果，本發(fā)明的具體技術(shù)方案如下：

一種氣懸浮運(yùn)輸裝置，包括長(zhǎng)條形載板，所述載板的長(zhǎng)度方向即為硅片的傳輸方向；所述載板頂面上等間距設(shè)置若干個(gè)出氣機(jī)構(gòu)，所述載板內(nèi)部設(shè)有向上述出氣機(jī)構(gòu)供氣的供氣管路；

其中，出氣機(jī)構(gòu)包括圓形凹盤，所述凹盤通過一豎直穿過凹盤圓心的側(cè)擋板被分為相同構(gòu)造的兩側(cè)，該側(cè)擋板與載板的長(zhǎng)度方向垂直，所述側(cè)擋板頂端水平固定有與凹盤同圓心設(shè)置的圓形壓氣板，位于側(cè)擋板兩側(cè)的所述壓氣板底面均設(shè)有內(nèi)凹的導(dǎo)氣槽，所述導(dǎo)氣槽頂面為一半圓平面、側(cè)面為向外傾斜的平直面；

供氣管路包括第一進(jìn)氣口、第二進(jìn)氣口，第一進(jìn)氣口通過第一總管連通有數(shù)量對(duì)應(yīng)于出氣機(jī)構(gòu)個(gè)數(shù)的第一支管，上述各第一支管均分布于側(cè)擋板同一側(cè)的凹盤下方；第二進(jìn)氣口通過第二總管連通有數(shù)量對(duì)應(yīng)于出氣機(jī)構(gòu)個(gè)數(shù)的第二支管，上述各第二支管均分布于側(cè)擋板另一側(cè)的凹盤下方；上述第一支管、第二支管分別通過豎直向上的通氣管向上排氣，上述通氣管分別正對(duì)著相應(yīng)一側(cè)的導(dǎo)氣槽。假定第一進(jìn)氣口及相關(guān)的供氣管路、出氣機(jī)構(gòu)是用于硅片的正常傳輸推動(dòng)，當(dāng)加大通過第一進(jìn)氣口的壓縮空氣時(shí)，便可實(shí)現(xiàn)對(duì)硅片的加速；當(dāng)?shù)谝贿M(jìn)氣口及相關(guān)的供氣管路、出氣機(jī)構(gòu)在對(duì)硅片進(jìn)行正常推動(dòng)時(shí)，此時(shí)同時(shí)通過第二進(jìn)氣口及相關(guān)的供氣管路、出氣機(jī)構(gòu)輸入一定條件的壓縮空氣，便可實(shí)現(xiàn)對(duì)硅片的減速。

進(jìn)一步地，位于側(cè)擋板兩側(cè)的所述凹盤，其底面也為一半圓平面、側(cè)面為向上翻起的圓弧形曲面。經(jīng)過供氣管路最終從通氣管向上排出的壓縮空氣，壓縮空氣的氣路：首先是碰撞到導(dǎo)氣槽，在導(dǎo)氣槽的作用下壓縮空氣轉(zhuǎn)為向下傾斜流動(dòng)，并且流速加快；然后壓縮空氣貼著凹盤的半圓平面水平流動(dòng)，最后貼著向上翻起的圓弧形曲面向外沖出來頂起硅片并推動(dòng)或減速硅片的移動(dòng)；其中，壓縮空氣的流動(dòng)路徑由導(dǎo)氣槽和凹盤的表面形狀決定，壓縮空氣最終向外沖出的路徑及角度由圓弧形曲面決定，這樣的設(shè)計(jì)一方面使得壓縮空氣有一小部分用于頂起硅片，使硅片處于懸浮狀態(tài)，同時(shí)壓縮空氣中的大部分是用于推動(dòng)或減速硅片，相比于其他的傾斜的平直面或內(nèi)凹的圓弧形曲面，我們把決定最終壓縮空氣向外沖出的路徑及角度的凹盤側(cè)面形狀設(shè)計(jì)為向上翻起的圓弧形曲面，經(jīng)多次試驗(yàn)發(fā)現(xiàn)，由于該設(shè)計(jì)中大部分壓縮空氣的流向更貼近水平方向，在提供同樣的壓縮空氣下，硅片的傳輸速度更快，使得硅片的傳輸效率更高。

進(jìn)一步地，所述圓弧形曲面與載板頂面相交的點(diǎn)的斜率在tan15°—tan30°之間。在該角度限制下，相比于其他角度，在提供同樣的壓縮空氣下，硅片的傳輸速度相對(duì)更快，使得硅片的傳輸效率更高。