[發明專利]一種稀疏兩相流中顆粒局部結構的測量方法有效
| 申請號: | 202010132167.9 | 申請日: | 2020-02-29 |
| 公開(公告)號: | CN111307669B | 公開(公告)日: | 2022-07-05 |
| 發明(設計)人: | 孔平;王蓬;李然 | 申請(專利權)人: | 上海健康醫學院 |
| 主分類號: | G01N15/00 | 分類號: | G01N15/00;G01N21/84;G06V10/44;G06V10/56;G06K9/62;G06T7/00;G06T7/62 |
| 代理公司: | 上海科盛知識產權代理有限公司 31225 | 代理人: | 葉敏華 |
| 地址: | 201318 上*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 稀疏 兩相 顆粒 局部 結構 測量方法 | ||
1.一種稀疏兩相流中顆粒局部結構的測量方法,其特征在于,包括以下步驟:
S1、獲取流化顆粒圖像,并對流化顆粒圖像進行背景去噪和二值化處理,得到處理后的流化顆粒圖像;
S2、對處理后的流化顆粒圖像進行特征提取和篩選,以得到流化顆粒圖像中每一個顆粒上白色光點的像素值;
S3、根據每一個顆粒上白色光點的像素值,對每一個顆粒進行定位,確定每一個顆粒在直角坐標系下的坐標值,并記錄顆粒定位順序,其中,直角坐標系的原點為流化顆粒圖像的左下角;
S4、根據每一個顆粒在直角坐標系下的坐標值,構建對應的顆粒系統的Voronoi圖,并以此計算每一個顆粒的局部體積分數;
S5、構建接觸模型,其中,接觸模型包括與鍵取向序參數對應的七個拓撲結構,即有鍵取向序參數為Q0~Q6;
S6、確定每一個顆粒的鍵取向序參數Qn,結合接觸模型,以對每一個顆粒進行局部結構匹配及顏色表征,同時計算每一個顆粒的方位角、建立顆粒局部結構變化曲線,即完成對流化顆粒局部結構的測量;
所述步驟S6具體包括以下步驟:
S61、按照步驟S3的顆粒定位順序,依次對每一個顆粒劃分最小局部結構體積元,以計算每一個顆粒與其鄰近顆粒之間的距離,確定顆粒系統中的每一個顆粒與鄰近顆粒接觸的個數n,即得到每一個顆粒的鍵取向序參數Qn;
S62、依次將每一個顆粒的鍵取向序參數Qn分別與接觸模型的七個拓撲結構進行匹配,并進行顏色表征,在進行匹配時,具體過程為:首先對應于鍵取向序參數Qn的值,構建局部體積分數的七個區間;之后判斷每一個顆粒的鍵取向序參數Qn所對應的局部體積分數是否位于對應的區間內,若位于對應的區間,則匹配準確,否則匹配不準確,需返回步驟S61,以進行再次測量與匹配;
S63、計算所測量的每一個顆粒與其鄰近顆粒之間的夾角,即該顆粒拓撲結構中鄰近顆粒的方位角;
S64、實時統計鍵取向序參數為Q6的顆粒個數,通過曲線擬合鍵取向序參數為Q6的顆粒個數與時間的關系,得到顆粒局部結構變化曲線。
2.根據權利要求1所述的一種稀疏兩相流中顆粒局部結構的測量方法,其特征在于,所述步驟S3具體包括以下步驟:
S31、將每一個顆粒上白色光點進行連通域標識,以識別每一個顆粒;
S32、選取流化顆粒圖像的左下角為坐標原點,以建立直角坐標系;
S33、根據連通域標識順序,依次對每一個顆粒進行定位,即得到每一個顆粒在直角坐標系下的坐標值,并記錄顆粒定位順序。
3.根據權利要求1所述的一種稀疏兩相流中顆粒局部結構的測量方法,其特征在于,所述步驟S4具體包括以下步驟:
S41、根據每一個顆粒在直角坐標系下的坐標值,基于Delaunay三角剖分算法,得到空間離散點,以生成對偶元Delaunay三角網;
S42、確定Delaunay三角網中每個三角形的外接圓圓心,通過連接相鄰三角形的外接圓圓心,形成以每個三角形頂點為生成元的多邊形網,即為顆粒系統的Voronoi圖,其中,Voronoi圖中每個多邊形對應于一個顆粒;
S43、基于凸多邊形的性質,得到Voronoi圖中每個多邊形的面積,以計算每一個顆粒的局部體積分數。
4.根據權利要求3所述的一種稀疏兩相流中顆粒局部結構的測量方法,其特征在于,所述局部體積分數具體為:
其中,Fi為顆粒i的局部體積分數,d為顆粒i的直徑,Ai為顆粒i對應多邊形的面積。
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