[發(fā)明專利]基板玻璃缺陷檢測(cè)方法及裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010131362.X | 申請(qǐng)日: | 2020-02-28 |
| 公開(公告)號(hào): | CN111239161A | 公開(公告)日: | 2020-06-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李青;李赫然;吳松江;蘇記華;劉丹;張曉宇;尚建威;付沖;李崗 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 鄭州旭飛光電科技有限公司;東旭光電科技股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01N21/958 | 分類號(hào): | G01N21/958 |
| 代理公司: | 北京英創(chuàng)嘉友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11447 | 代理人: | 金蘭 |
| 地址: | 450016 河南省鄭*** | 國(guó)省代碼: | 河南;41 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 玻璃 缺陷 檢測(cè) 方法 裝置 | ||
1.一種基板玻璃缺陷檢測(cè)方法,其特征在于,所述基板玻璃缺陷檢測(cè)方法包括:
將基板玻璃(100)沿其厚度方向均勻地分成N個(gè)檢測(cè)層,N為≥4的自然數(shù)并為4的倍數(shù);
設(shè)定第1層檢測(cè)層至第N/4層檢測(cè)層為所述基板玻璃(100)的第一比對(duì)區(qū)域,第N/4+1層檢測(cè)層至第3N/4層檢測(cè)層設(shè)定為所述基板玻璃(100)的第二比對(duì)區(qū)域,第3N/4+1層檢測(cè)層至第N層檢測(cè)層設(shè)定為所述基板玻璃(100)的第三比對(duì)區(qū)域;
對(duì)所述基板玻璃(100)的缺陷位置處的各檢測(cè)層進(jìn)行圖像采集;
對(duì)所采集的圖像進(jìn)行識(shí)別,并通過將其與所對(duì)應(yīng)的對(duì)比區(qū)域的標(biāo)準(zhǔn)缺陷尺寸進(jìn)行比對(duì),以判斷是否符合標(biāo)準(zhǔn)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板玻璃缺陷檢測(cè)方法,其特征在于,所述對(duì)所述基板玻璃(100)的缺陷位置處的各檢測(cè)層進(jìn)行圖像采集包括:通過圖像采集設(shè)備的變焦來實(shí)現(xiàn)對(duì)N個(gè)檢測(cè)層的分別檢測(cè)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板玻璃缺陷檢測(cè)方法,其特征在于,所述基板玻璃(100)的厚度為0.4mm或0.8mm,N為4,或N為8,或N為16。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板玻璃缺陷檢測(cè)方法,其特征在于,所述第一比對(duì)區(qū)域的標(biāo)準(zhǔn)缺陷尺寸為不大于0.02mm,所述第二比對(duì)區(qū)域的標(biāo)準(zhǔn)缺陷尺寸為不大于0.05mm,所述第三比對(duì)區(qū)域的標(biāo)準(zhǔn)缺陷尺寸為不大于0.1mm。
5.一種基板玻璃缺陷檢測(cè)裝置,其特征在于,所述基板玻璃檢測(cè)裝置可根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板玻璃缺陷檢測(cè)方法對(duì)所述基板玻璃(100)進(jìn)行缺陷檢測(cè),其包括控制單元、用于對(duì)所述基板玻璃(100)的缺陷位置進(jìn)行圖像采集的可變焦的攝像單元;
所述攝像單元包括驅(qū)動(dòng)部(21)、可移動(dòng)的物側(cè)透鏡(22)、固定設(shè)置的攝像單元本體(23)、以及與所述攝像單元本體(23)固定連接的像側(cè)透鏡(24),所述驅(qū)動(dòng)部(21)根據(jù)所述控制單元發(fā)送的控制指令驅(qū)動(dòng)所述物側(cè)透鏡(22)沿其中心線方向移動(dòng),以實(shí)現(xiàn)對(duì)所述缺陷位置處N個(gè)檢測(cè)層的聚焦及圖像采集;
所述控制單元用于對(duì)所述攝像單元所采集的圖像進(jìn)行識(shí)別,并通過將其與所對(duì)應(yīng)的對(duì)比區(qū)域的標(biāo)準(zhǔn)缺陷尺寸進(jìn)行比對(duì),以判斷是否符合標(biāo)準(zhǔn)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的基板玻璃缺陷檢測(cè)裝置,其特征在于,所述基板玻璃缺陷檢測(cè)裝置還包括用于對(duì)所述基板玻璃(100)的缺陷位置進(jìn)行照明的光源(4),所述光源(4)的中心線與所述物側(cè)透鏡(22)的中心線重合,以使所述光源(4)發(fā)射出的光束沿所述攝像單元的圖像采集路徑(A)射向所述缺陷位置。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的基板玻璃缺陷檢測(cè)裝置,其特征在于,所述光源(4)選用LED發(fā)光二極管,以發(fā)射出波長(zhǎng)在400-800nm之間、光束發(fā)散性為37°且輻射面積大于10mm2的可見光。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的基板玻璃缺陷檢測(cè)裝置,其特征在于,所述基板玻璃缺陷檢測(cè)裝置還包括測(cè)距單元(3),所述測(cè)距單元(3)用于測(cè)量該檢測(cè)裝置與所述基板玻璃(100)之間的距離,所述控制單元用于根據(jù)所述測(cè)距單元(3)測(cè)得的距離信息控制所述攝像單元聚焦在所述基板玻璃(100)的缺陷位置處靠近該檢測(cè)裝置的一面。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的基板玻璃缺陷檢測(cè)裝置,其特征在于,所述測(cè)距單元(3)包括激光發(fā)射器、以及用于接收從該激光發(fā)射器射出并經(jīng)所述缺陷位置處靠近該檢測(cè)裝置的一面反射的激光的光電接收器。
10.根據(jù)權(quán)利要求5所述的基板玻璃缺陷檢測(cè)裝置,其特征在于,所述攝像單元還包括第一反射機(jī)構(gòu)(25)和第二反射機(jī)構(gòu)(26),所述物側(cè)透鏡(22)的中心線用于與所述基板玻璃(100)平行,所述像側(cè)透鏡(24)的中心線用于與所述基板玻璃(100)垂直,所述第一反射機(jī)構(gòu)(25)用于將所述缺陷位置的圖像信息反射至所述物側(cè)透鏡(22),所述第二反射機(jī)構(gòu)(26)用于將所述物側(cè)透鏡(22)接收的所述圖像信息反射至所述像側(cè)透鏡(24)。
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G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
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