[發(fā)明專利]提升抗LATCH UP能力的方法及系統(tǒng)在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010123435.0 | 申請(qǐng)日: | 2020-02-27 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN113314415A | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-08-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王學(xué)良;劉建華;郎金榮;閔亞能 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 上海先進(jìn)半導(dǎo)體制造有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/331 | 分類號(hào): | H01L21/331;H01L21/67 |
| 代理公司: | 上海弼興律師事務(wù)所 31283 | 代理人: | 薛琦;林嵩 |
| 地址: | 200233 *** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 提升 latch up 能力 方法 系統(tǒng) | ||
本發(fā)明公開(kāi)了一種提升平面柵IGBT的抗LATCH UP能力的方法及系統(tǒng),所述平面柵IGBT包括第一寄生三極管和第二寄生三極管;所述方法包括:在所述第一寄生三極管的集電極中注入氫離子;其中,隨著所述氫離子的注入,所述第一寄生三極管的放大倍數(shù)降低,所述平面柵IGBT的抗LATCH UP能力增強(qiáng);和/或,在所述第二寄生三極管的基極中注入氫離子;其中,隨著所述氫離子的注入,所述第二寄生三極管的放大倍數(shù)降低,所述平面柵IGBT的抗LATCH UP能力增強(qiáng)。本發(fā)明能夠有效地提升了平面柵IGBI的抗LATCH UP能力,提高了平面柵IGBI的使用性能,使其能夠滿足更高的實(shí)際使用需求。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種提升平面柵IGBT(絕緣柵雙極型晶體管)的抗LATCH UP(閂鎖效應(yīng))能力的方法及系統(tǒng)。
背景技術(shù)
LATCH UP是由寄生晶體管對(duì)產(chǎn)生的,屬于寄生晶體管中存在的電路缺陷,因此需要在電路設(shè)計(jì)和工藝制作中加以防止和限制。但是,現(xiàn)有的平面柵IGBT的抗LATCH UP能力仍存在不夠理想,不能夠滿足實(shí)際的使用需求的問(wèn)題。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的技術(shù)問(wèn)題是為了克服現(xiàn)有技術(shù)中平面柵IGBT存在抗LATCH UP能力均不理想,不能夠滿足實(shí)際的使用需求的缺陷,提供一種提升平面柵IGBT的抗LATCH UP能力的方法及系統(tǒng)。
本發(fā)明是通過(guò)下述技術(shù)方案來(lái)解決上述技術(shù)問(wèn)題:
本發(fā)明提供一種提升平面柵IGBT的抗LATCH UP能力的方法,所述平面柵IGBT包括寄生晶體管對(duì),所述寄生晶體管對(duì)包括第一寄生三極管和第二寄生三極管;
所述第一寄生三極管的發(fā)射極與N+區(qū)連接,所述第一寄生三極管的集電極與所述第二寄生三極管的基極連接,所述第一寄生三極管的基極與所述第二寄生三極管的集電極連接,所述第二寄生三極管的發(fā)射極與所述平面柵IGBT的背面P+區(qū)連接;
所述方法包括:
在所述第一寄生三極管的集電極中注入氫離子;
其中,隨著所述氫離子的注入,所述第一寄生三極管的放大倍數(shù)降低,所述平面柵IGBT的抗LATCH UP能力增強(qiáng);和/或,
在所述第二寄生三極管的基極中注入氫離子;
其中,隨著所述氫離子的注入,所述第二寄生三極管的放大倍數(shù)降低,所述平面柵IGBT的抗LATCH UP能力增強(qiáng)。
較佳地,所述在所述第一寄生三極管的集電極中注入氫離子的步驟包括:
采用高能離子注入機(jī)在所述第一寄生三極管的集電極中注入氫離子;
所述在所述第二寄生三極管的基極中注入氫離子的步驟包括:
采用高能離子注入機(jī)在所述第二寄生三極管的基極中注入氫離子。
較佳地,所述平面柵IGBT包括平面型IGBT、平面型FS IGBT、平面型CS IGBT或平面型FS CS IGBT(平面型IGBT、平面型FS IGBT、平面型CS IGBT或平面型FS CS IGBT均為一種晶體管)。
較佳地,所述第一寄生三極管為NPN型寄生三極管,所述第二寄生三極管為PNP型寄生三極管(NPN型寄生三極管、PNP型寄生三極管均為一種三極管)。
本發(fā)明還提供一種提升平面柵IGBT的抗LATCH UP能力的系統(tǒng),所述平面柵IGBT包括寄生晶體管對(duì),所述寄生晶體管對(duì)包括第一寄生三極管和第二寄生三極管;
所述第一寄生三極管的發(fā)射極與N+區(qū)連接,所述第一寄生三極管的集電極與所述第二寄生三極管的基極連接,所述第一寄生三極管的基極與所述第二寄生三極管的集電極連接,所述第二寄生三極管的發(fā)射極與所述平面柵IGBT的背面P+區(qū)連接;
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- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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