[發明專利]一種顯示基板及其制備方法、顯示裝置

在審

• 申請號: 202010120675.5
• 申請日: 2020-02-26
• 公開（公告）號: CN111192912A
• 公開（公告）日: 2020-05-22
• 發明（設計）人: 馬坤;賈聰聰
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: H01L27/32
• 分類號: H01L27/32;H01L51/52
• 代理公司: 北京安信方達知識產權代理有限公司 11262
• 代理人: 解婷婷;曲鵬

1.一種顯示基板，包括：基底、設置在所述基底上的驅動結構層，設置在所述驅動結構層上的發光結構層，所述發光結構層包括第一發光結構和第二發光結構，從靠近所述驅動結構層向遠離所述驅動結構層的方向上，所述第一發光結構包括層疊的第一透明陽極、第一發光層、第一陰極，所述第二發光結構包括層疊的第二反射陽極、第二發光層和第二陰極。

2.根據權利要求1所述的顯示基板，其特征在于，所述第二陰極的厚度小于所述第一陰極的厚度。

3.根據權利要求1所述的顯示基板，其特征在于，所述第二發光結構還包括設置在所述第二反射陽極靠近所述驅動結構層一側的第二透明陽極，且所述第一透明陽極和所述第二透明陽極同層設置。

4.根據權利要求1所述的顯示基板，其特征在于，所述第一發光層和所述第二發光層同層設置，所述第一陰極和所述第二陰極同層設置。

5.根據權利要求1所述的顯示基板，其特征在于，所述第一陰極的厚度為80nm到150nm，所述第二陰極的厚度為10nm到20nm。

6.根據權利要求1至5任一所述的顯示基板，其特征在于，所述第二反射陽極包括疊設的第一反射層、第二反射層和第三反射層，所述第一反射層和所述第三反射層使用氧化銦錫制成，所述第一反射層的厚度為60nm到80nm，所述第三反射層的厚度為60nm到80nm，所述第二反射層使用銀制成，所述第二反射層的厚度為80nm到120nm。

7.根據權利要求1至5任一所述的顯示基板，其特征在于，所述顯示基板包括多個發光單元構成的陣列，每個發光單元包括所述第一發光結構和所述第二發光結構。

8.一種顯示裝置，其特征在于，包括權利要求1～7任一所述的顯示基板。

9.一種顯示基板的制備方法，其特征在于，包括：

在基底上形成驅動結構層；

在所述驅動結構層上形成發光結構層，所述發光結構層包括第一發光結構和第二發光結構，從靠近所述驅動結構層向遠離所述驅動結構層的方向上，所述第一發光結構包括層疊的第一透明陽極、第一發光層、第一陰極，所述第二發光結構包括層疊的第二反射陽極、第二發光層和第二陰極。

10.根據權利要求9所述的顯示基板的制備方法，其特征在于，所述第二陰極的厚度小于所述第一陰極的厚度。

11.根據權利要求9所述的顯示基板的制備方法，其特征在于，所述在所述驅動結構層上形成發光結構層包括：

在所述驅動結構層上通過一次構圖工藝形成所述第一透明陽極和第二透明陽極；

在所述第二透明陽極上形成所述第二反射陽極；

在所述第一透明陽極和所述第二反射陽極上通過一次構圖工藝形成所述第一發光層和所述第二發光層；

在所述第一發光層和所述第二發光層上通過一次構圖工藝形成所述第一陰極和所述第二陰極。

12.根據權利要求11所述的顯示基板的制備方法，其特征在于，所述在所述第二透明陽極上形成所述第二反射陽極包括：

在所述第一透明陽極和所述第二透明陽極上形成像素定義層；

在所述像素定義層上涂覆光刻膠，并暴露出所述第二透明陽極；

在上述形成的結構上沉積反射陽極薄膜，剝離所述光刻膠，形成所述第二反射陽極。