[發明專利]顯示用基板及電致發光顯示裝置有效
| 申請號: | 202010120423.2 | 申請日: | 2020-02-26 |
| 公開(公告)號: | CN111180500B | 公開(公告)日: | 2023-10-24 |
| 發明(設計)人: | 全威 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司 |
| 主分類號: | H10K59/12 | 分類號: | H10K59/12;H10K50/816;H10K50/828;H10K71/00 |
| 代理公司: | 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 顯示 用基板 電致發光 顯示裝置 | ||
1.一種顯示用基板,包括不同顏色的第一亞像素、第二亞像素以及第三亞像素,其特征在于,所述顯示用基板包括:
底板以及設置在所述底板上的第二電極層;
設置在所述第二電極層上的發光層;
設置在所述發光層上的第一電極層;
所述第一電極層或所述第二電極層呈透光態,所述第一電極層和/或所述第二電極層包括依次層疊設置的第一金屬氧化物層、金屬層以及第二金屬氧化物層,所述第一金屬氧化物層相比于所述第二金屬氧化物層靠近所述發光層;
其中,所述第二金屬氧化物層包括位于所述第一亞像素的第一金屬氧化物圖案、位于所述第二亞像素的第二金屬氧化物圖案以及位于所述第三亞像素的第三金屬氧化物圖案;所述第一金屬氧化物圖案、所述第二金屬氧化物圖案以及所述第三金屬氧化物圖案的厚度不相同。
2.根據權利要求1所述的顯示用基板,其特征在于,所述第一電極層和/或所述第二電極層還包括設置在所述第一金屬氧化物層遠離所述金屬層一側的石墨烯層。
3.根據權利要求1所述的顯示用基板,其特征在于,所述第一亞像素為紅色亞像素、所述第二亞像素為綠色亞像素、所述第三亞像素為藍色亞像素;所述第二金屬氧化物圖案的厚度大于所述第三金屬氧化物圖案的厚度,且小于所述第一金屬氧化物圖案的厚度。
4.根據權利要求2所述的顯示用基板,其特征在于,所述第一金屬氧化物圖案的厚度范圍為114.95nm~127.05nm;
所述第二金屬氧化物圖案的厚度范圍為95.5nm~106.05nm;
所述第三金屬氧化物圖案的厚度范圍為85.5nm~94.5nm。
5.根據權利要求1所述的顯示用基板,其特征在于,所述金屬層的厚度范圍為7.76nm~8.24nm。
6.根據權利要求1所述的顯示用基板,其特征在于,所述第一金屬氧化物層包括位于所述第一亞像素的第四金屬氧化物圖案、位于所述第二亞像素的第五金屬氧化物圖案以及位于所述第三亞像素的第六金屬氧化物圖案;
其中,所述第四金屬氧化物圖案、所述第五金屬氧化物圖案以及所述第六金屬氧化物圖案的厚度不完全相同。
7.根據權利要求3所述的顯示用基板,其特征在于,在所述第一電極層呈透光態的情況下,所述紅色亞像素、所述綠色亞像素、所述藍色亞像素中的所述金屬層靠近所述發光層的表面與所述第二電極之間的距離L;
或者,在所述第二電極層呈透光態的情況下,所述紅色亞像素、所述綠色亞像素、所述藍色亞像素中的所述金屬層靠近發光層的表面與所述第一電極層之間的距離L滿足以下公式:
以及φ1=2(qπ+kL1);
其中,m為發光器件的共振態模擬階數、q為整數,k為發光器件的有效吸收率,φ1為所述金屬層靠近所述發光層的表面的發射系數,φ2為所述金屬層遠離所述發光層的表面的反射系數,L1為所述發光層發出的光到所述金屬層遠離所述發光層的表面的距離。
8.根據權利要求1所述的顯示用基板,其特征在于,所述第一金屬氧化物層的材料和所述第二金屬氧化物層的材料包括氧化銦鋅和/或氧化銦錫。
9.根據權利要求1所述的顯示用基板,其特征在于,所述金屬層的材料包括銀、鋁、鎂中的至少一種。
10.根據權利要求2所述的顯示用基板,其特征在于,所述石墨烯層包括位于紅色亞像素的第一石墨烯圖案、位于綠色亞像素的第二石墨烯圖案以及位于藍色亞像素的第三石墨烯圖案;
其中,所述第一石墨烯圖案、所述第二石墨烯圖案以及所述第三石墨烯圖案的厚度不完全相同。
11.一種電致發光顯示裝置,其特征在于,包括如權利要求1-10任一項所述的顯示用基板。
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