[發明專利]熱真空干燥設備的定位銷、基臺和熱真空干燥設備有效
| 申請號: | 202010119349.2 | 申請日: | 2020-02-26 |
| 公開(公告)號: | CN111306164B | 公開(公告)日: | 2022-02-25 |
| 發明(設計)人: | 鄭清藝;陸忠 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/02 | 分類號: | H01L21/02;F16B19/02;F26B5/04 |
| 代理公司: | 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 尹璐 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 真空 干燥設備 定位 | ||
1.一種熱真空干燥設備的定位銷,其特征在于,所述定位銷的形狀為圓臺形,所述定位銷的上底面的中心在所述定位銷的下底面的正投影與所述定位銷的下底面的中心不重合。
2.根據權利要求1所述的定位銷,其特征在于,所述定位銷的母線與下底面之間的夾角為50°~80°。
3.根據權利要求2所述的定位銷,其特征在于,僅具有一個貫穿所述定位銷的上底面和所述定位銷的下底面的螺孔。
4.根據權利要求3所述的定位銷,其特征在于,所述螺孔在所述定位銷的下底面上的正投影與所述定位銷的下底面的中心不重合。
5.根據權利要求4所述的定位銷,其特征在于,定義通過所述定位銷的下底面的中心和所述螺孔在所述定位銷的下底面上的正投影的線段為第一線段,所述第一線段的兩個端點均位于所述定位銷的下底面邊沿,且所述螺孔在所述定位銷的下底面上的正投影將所述第一線段劃分為第一段和第二段,所述第一段與所述第二段的長度之比為(1~3):(2~4)。
6.一種熱真空干燥設備的基臺,其特征在于,包括:
底座;
基板,所述基板位于所述底座的上方;
多個升降銷,多個所述升降銷固定在所述底座上,且位于所述基板的下方,并用于支撐以及升降所述基板;和
多個權利要求1~5中任一項所述的定位銷,多個所述定位銷固定在所述底座上,且圍繞所述基板的邊沿設置,當所述基板處于下降狀態時,多個所述定位銷用于定位所述基板。
7.根據權利要求6所述的基臺,其特征在于,所述基板為矩形,所述定位銷分別設置在所述基板邊沿的四個拐角處,每個所述拐角處由相互垂直的第一邊沿和第二邊沿構造而成,每個所述拐角處設置有兩個所述定位銷,設置于每個所述拐角處的兩個所述定位銷分別位于所述第一邊沿和所述第二邊沿外側。
8.根據權利要求6所述的基臺,其特征在于,當所述定位銷與所述基板相接觸時,通過所述定位銷與所述基板的接觸點的所述定位銷的母線與所述定位銷的下底面之間的夾角為60°。
9.根據權利要求6所述的基臺,其特征在于,還包括:
螺桿,所述螺桿穿設于所述定位銷上的螺孔中,所述定位銷可圍繞所述螺桿進行旋轉。
10.根據權利要求6~9中任一項所述的基臺,其特征在于,當所述基板處于下降狀態時,部分所述定位銷與所述基板相接觸,部分所述定位銷與所述基板之間存在間隙,所述間隙為2mm~12mm。
11.根據權利要求10所述的基臺,其特征在于,所述間隙為2mm。
12.一種熱真空干燥設備,其特征在于,包括權利要求6~11中任一項所述的基臺。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于京東方科技集團股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司,未經京東方科技集團股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202010119349.2/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





