[發明專利]發光控制裝置、光源裝置以及投射型影像顯示裝置有效
| 申請號: | 202010114582.1 | 申請日: | 2020-02-25 |
| 公開(公告)號: | CN111629483B | 公開(公告)日: | 2022-07-29 |
| 發明(設計)人: | 山元佑基 | 申請(專利權)人: | 精工愛普生株式會社 |
| 主分類號: | H05B45/325 | 分類號: | H05B45/325 |
| 代理公司: | 北京三友知識產權代理有限公司 11127 | 代理人: | 李慶澤;鄧毅 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 發光 控制 裝置 光源 以及 投射 影像 顯示裝置 | ||
發光控制裝置、光源裝置以及投射型影像顯示裝置。發光控制裝置包含第1檢測電路、第2檢測電路和發光控制電路。第1檢測電路檢測作為第1電阻的兩端的電位差的第1電位差。第2檢測電路檢測作為第2電阻的兩端的電位差的第2電位差。發光控制電路輸出控制第1開關元件的接通/斷開的第1控制信號和控制第2開關元件的接通/斷開的第2控制信號。發光控制電路在檢測出第1電位差小于第1閾值并且檢測出第2電位差大于第2閾值時,進行使第1控制信號和第2控制信號中的至少一方成為非激活的停止處理。
技術領域
本發明涉及發光控制裝置、光源裝置以及投射型影像顯示裝置等。
背景技術
已知有對投影儀等所使用的光源進行控制的發光控制裝置。發光控制裝置通過對使電流流過電感器的晶體管進行導通/截止控制來進行開關調節控制,使通過該開關調節控制得到的恒定電流流過發光元件,從而控制發光元件的發光量。此時,發光控制裝置檢測流過發光元件的電流和流過開關調節用的晶體管的電流,并根據這些電流進行開關調節控制。例如在專利文獻1中公開了這樣的發光控制裝置的現有技術。
專利文獻1:日本特開2018-106862號公報
在發光控制裝置中,為了避免過電流所引起的異常或故障而進行過電流檢測。以往,通過進行針對流過發光元件的電流的過電流檢測和針對流過開關調節用的晶體管的電流的過電流檢測,并單獨地利用它們的檢測結果來應對過電流。但是,存在如下課題:如果僅單獨利用檢測結果,有時不能適當地應對過電流。
發明內容
本發明的一個方式涉及一種發光控制裝置,其控制光源電路的第1開關元件和第2開關元件,該光源電路包含串聯設置在第1電源節點與第1節點之間的發光元件、第1電阻和所述第1開關元件以及串聯設置在所述第1節點與第2電源節點之間的電感器、所述第2開關元件和第2電阻,其中,該發光控制裝置包含:第1檢測電路,其檢測作為所述第1電阻的兩端的電位差的第1電位差;第2檢測電路,其檢測作為所述第2電阻的兩端的電位差的第2電位差;以及發光控制電路,其輸出控制所述第1開關元件的接通/斷開的第1控制信號和控制所述第2開關元件的接通/斷開的第2控制信號,所述發光控制電路在由所述第1檢測電路檢測到所述第1電位差小于第1閾值并且由所述第2檢測電路檢測到所述第2電位差大于第2閾值時,進行使所述第1控制信號和所述第2控制信號中的至少一方成為非激活的停止處理。
附圖說明
圖1是光源裝置的結構例。
圖2是光源裝置的結構例。
圖3是模擬調光模式下的波形圖。
圖4是PWM調光模式下的波形圖。
圖5是說明停止處理的波形圖。
圖6是電流檢測電路的詳細結構例以及第1檢測電路的第1詳細結構例。
圖7是第2檢測電路的詳細結構例。
圖8是動作控制電路的詳細結構例。
圖9是第1檢測電路的第2詳細結構例。
圖10是說明第1檢測電路的第2詳細結構例的動作的波形圖。
圖11是軟啟動控制電路的詳細結構例。
圖12是說明軟啟動控制電路的動作的波形圖。
圖13是在正常時進行軟啟動處理的情況下的波形圖。
圖14是投射型影像顯示裝置的結構例。
標號說明
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