[發明專利]復合基礎結構及施工方法

在審

• 申請號: 202010105030.4
• 申請日: 2020-02-20
• 公開（公告）號: CN111188353A
• 公開（公告）日: 2020-05-22
• 發明（設計）人: 郭全元;鐘仕興;顧慧;曾勝強
• 申請（專利權）人: 中鐵第四勘察設計院集團有限公司;中鐵四院集團廣州設計院有限公司
• 主分類號: E02D27/12
• 分類號: E02D27/12
• 代理公司: 北京派特恩知識產權代理有限公司 11270
• 代理人: 董超男;張穎玲

1.一種復合基礎結構，設置在巖土體軟硬分布不均的場地上，其特征在于，包括：

基礎本體，設置在所述場地上，所述基礎本體的一端朝向所述場地的基巖裸露段延伸，所述基礎本體的另一端朝向所述場地的基巖淺埋段延伸；

支撐樁，用于支撐位于所述基巖淺埋段內的所述基礎本體，所述支撐樁的一端插設在所述基巖淺埋段內，所述支撐樁的另一端與所述基礎本體連接；

其中，所述支撐樁插入的一端至少位于所述基巖淺埋段內的巖土交界面。

2.如權利要求1所述的復合基礎結構，其特征在于，所述支撐樁包括：

樁管，插設在所述基巖淺埋段內，所述樁管內部形成有空腔；

樁體，設置在所述空腔；

其中，所述樁管和所述樁體均與所述基礎本體相連。

3.如權利要求3所述的復合基礎結構，其特征在于，所述樁管插設在所述基巖淺埋段內的一端形成有尖端。

4.如權利要求2所述的復合基礎結構，其特征在于，所述樁管的側壁上開設有多個與所述空腔連通的出漿孔。

5.如權利要求1至4中任一項所述的復合基礎結構，其特征在于，所述基礎本體包括：

橫梁，間隔設置有多個，各所述橫梁的一端朝向所述基巖裸露段延伸，另一端朝向所述基巖淺埋段延伸；

縱梁，設置在所述場地上，用于將多個所述橫梁相連；

其中，每個所述橫梁位于所述基巖淺埋段內的一端上均連接有多個所述支撐樁。

6.如權利要求1至5中任一項所述的復合基礎結構，其特征在于，所述復合基礎結構還包括鋪設在所述場地上的中粗砂層，所述基礎本體設置在所述中粗砂層上，所述支撐樁穿過所述中粗砂層與所述基礎本體連接。

7.一種施工方法，用于如權利要求1至6中任一項所述的復合基礎結構的施工，其特征在于，所述施工方法包括：

平整場地，將所述場地中的基巖裸露段和基巖淺埋段平整至設計標高；

支撐樁的設置，在所述場地內按照布置規則施工形成所述支撐樁；

基礎本體的修筑，在所述場地內按照布置規則施工形成所述基礎本體；

其中，修筑的所述基礎本體與所述支撐樁相連。

8.如權利要求7所述的施工方法，其特征在于，所述平整場地的施工包括：

先將所述基巖裸露段中裸露凸出的基巖平整，以及將所述基巖淺埋段中的原有土層清除，然后在所述基巖裸露段上和所述基巖淺埋段上鋪設中粗砂層至統一標高。

9.如權利要求7所述的施工方法，其特征在于，所述支撐樁的設置包括：

按需選定樁管的規格，并在所述樁管上按照設計規定進行出漿孔的加工，然后將所述樁管壓入到所述基巖淺埋段內，隨后向所述樁管內注入漿料，并加壓使所述漿料由所述出漿孔噴射至所述基巖淺埋段內的土體中，最后，向所述樁管內注滿漿料而形成樁體。

10.如權利要求7所述的施工方法，其特征在于，所述基礎本體的修筑包括：

在所述支撐樁施工完成后，在所述場地內按照布置規則，使用混凝土修筑形成所述基礎本體，同時，確保各所述支撐樁均與所述基礎本體相連。