[發明專利]復合柔性襯底及其制作方法和電子設備

有效

• 申請號: 202010104734.X
• 申請日: 2020-02-20
• 公開（公告）號: CN111276633B
• 公開（公告）日: 2022-09-02
• 發明（設計）人: 魯佳浩
• 申請（專利權）人: OPPO廣東移動通信有限公司
• 主分類號: H01L51/52
• 分類號: H01L51/52;H01L51/56
• 代理公司: 北京知帆遠景知識產權代理有限公司 11890
• 代理人: 徐靜

1.一種復合柔性襯底，其特征在于，包括：

第一柔性基板，所述第一柔性基板劃分為視窗區和圍繞所述視窗區分布的非視窗區；

第一無機阻隔層，所述第一無機阻隔層設置在所述第一柔性基板的一個表面上，且僅覆蓋所述視窗區；

第二柔性基板，所述第二柔性基板設置在所述第一無機阻隔層遠離所述第一柔性基板的表面上，且覆蓋第一柔性基板中未被所述第一無機阻隔層覆蓋的表面；

第二無機阻隔層，所述第二無機阻隔層圍繞設置在所述第一無機阻隔層的外邊沿，且所述第二無機阻隔層遠離所述第一無機阻隔層的邊緣不超出所述非視窗區的外邊沿；

所述第二無機阻隔層的寬度大于等于1.2毫米，且小于等于5毫米。

2.根據權利要求1所述的復合柔性襯底，其特征在于，所述第一無機阻隔層和所述第二無機阻隔層的厚度分別為100-400納米，形成所述第一無機阻隔層和所述第二無機阻隔層的材料分別選自氮化硅、氧化硅和非晶硅中的至少一種。

3.一種制作權利要求1或2所述的復合柔性襯底的方法，其特征在于，包括：

提供第一柔性基板，將所述第一柔性基板劃分為視窗區和圍繞所述視窗區分布的非視窗區；

在所述第一柔性基板的一個表面上形成第一無機阻隔層，且所述第一無機阻隔層僅覆蓋所述視窗區；

在所述第一無機阻隔層遠離所述第一柔性基板的表面上形成第二柔性基板，且所述第二柔性基板覆蓋所述第一柔性基板中未被所述第一無機阻隔層覆蓋的表面，

在所述第一無機阻隔層的外邊沿形成第二無機阻隔層，且所述第二無機阻隔層遠離所述第一無機阻隔層的邊緣不超出所述非視窗區的外邊沿。

4.根據權利要求3所述的方法，其特征在于，所述第一無機阻隔層和所述第二無機阻隔層是通過同步工藝形成的。

5.根據權利要求4所述的方法，其特征在于，形成所述第一無機阻隔層和所述第二無機阻隔層的步驟包括：

在所述第一柔性基板的表面上沉積形成無機層，所述無機層覆蓋所述第一柔性基板的

整個表面；

在所述無機層遠離所述第一柔性基板的表面形成圖案化的光刻膠層；

通過刻蝕工藝將未被所述光刻膠層覆蓋的所述無機層部分刻蝕去除；

去除所述光刻膠層，得到所述第一無機阻隔層和所述第二無機阻隔層。

6.根據權利要求5所述的方法，其特征在于，形成所述第一無機阻隔層和所述第二無機阻隔層的步驟包括：

在所述非視窗區的預定區域形成遮擋結構；

在所述視窗區和不設置有所述遮擋結構的部分非視窗區沉積形成所述第一無機阻隔層和所述第二無機阻隔層。

7.一種電子設備，其特征在于，包括權利要求1或2所述的復合柔性襯底。