[發(fā)明專利]數(shù)據(jù)處理裝置、數(shù)據(jù)處理方法以及存儲介質(zhì)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010084074.3 | 申請日: | 2020-02-10 |
| 公開(公告)號: | CN111561871B | 公開(公告)日: | 2022-01-04 |
| 發(fā)明(設計)人: | 尾上太郎 | 申請(專利權(quán))人: | 柯尼卡美能達株式會社 |
| 主分類號: | G01B11/02 | 分類號: | G01B11/02 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務所 11105 | 代理人: | 韓鋒 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 數(shù)據(jù)處理 裝置 方法 以及 存儲 介質(zhì) | ||
1.一種數(shù)據(jù)處理裝置,對將測量對象的形狀作為二維坐標上的測量數(shù)據(jù)而測量的第一線傳感器和第二線傳感器所獲取的測量數(shù)據(jù)進行處理,其特征在于,
由所述第一線傳感器測量的第一坐標平面與由所述第二線傳感器測量的第二坐標平面相同或平行,
具備:
獲取部,其在使表面與所述第一坐標平面和所述第二坐標平面正交配置的基準平面板以與所述第一坐標平面和所述第二坐標平面正交的軸為中心而進行了旋轉(zhuǎn)的彼此不同的兩個以上的位置,從所述第一線傳感器和所述第二線傳感器獲取測量數(shù)據(jù);
計算部,其基于在所述基準平面板的所述兩個以上的位置從所述第一線傳感器和所述第二線傳感器獲取的測量數(shù)據(jù),計算所述第一坐標平面與所述第二坐標平面的同一坐標軸之間的角度、以及所述第一坐標平面的原點與所述第二坐標平面的原點的相對位置。
2.如權(quán)利要求1所述的數(shù)據(jù)處理裝置,其中,
所述計算部基于在所述基準平面板的所述兩個以上的位置中的至少一個以上的位置從所述第一線傳感器和所述第二線傳感器獲取的測量數(shù)據(jù),計算所述第一坐標平面與所述第二坐標平面的同一坐標軸之間的角度,
所述計算部針對所述基準平面板的所述兩個以上的位置中的每個位置,求出與從所述第一線傳感器獲取的測量數(shù)據(jù)對應的所述第一坐標平面上的直線的斜率和截距、以及使與從所述第二線傳感器獲取的測量數(shù)據(jù)對應的所述第二坐標平面上的直線以所述第二坐標平面的原點為中心旋轉(zhuǎn)所述角度后的直線的斜率和截距,并基于針對所述兩個以上的位置中的每個位置求出的所述第一坐標平面上的直線的斜率和截距、以及在所述第二坐標平面上旋轉(zhuǎn)后的直線的斜率和截距,計算所述第一坐標平面的原點與所述第二坐標平面的原點的相對位置。
3.如權(quán)利要求1或者2所述的數(shù)據(jù)處理裝置,其中,
具備將從所述第二線傳感器獲取的測量數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換為與所述第一線傳感器同一的坐標系中的測量數(shù)據(jù)的轉(zhuǎn)換部。
4.如權(quán)利要求1或2所述的數(shù)據(jù)處理裝置,其中,
所述第一線傳感器和所述第二線傳感器配置在用于測量在電子照相式圖像形成裝置中使用的感光體與顯影輥之間的距離的夾具上。
5.如權(quán)利要求4所述的數(shù)據(jù)處理裝置,其中,
在所述夾具上設有用于保持所述感光體的保持軸,
所述保持軸也用于保持所述基準平面板來代替所述感光體,
通過使所述基準平面板以所述保持軸為中心進行旋轉(zhuǎn),進行所述兩個以上的位置上的所述基準平面板的測量。
6.一種數(shù)據(jù)處理方法,對將測量對象的形狀作為二維坐標上的測量數(shù)據(jù)而測量的第一線傳感器和第二線傳感器所獲取的測量數(shù)據(jù)進行處理,其特征在于,
由所述第一線傳感器測量的第一坐標平面與由所述第二線傳感器測量的第二坐標平面相同或平行,
包含:
獲取工序,其在使表面與所述第一坐標平面和所述第二坐標平面正交配置的基準平面板以與所述第一坐標平面和所述第二坐標平面正交的軸為中心而進行了旋轉(zhuǎn)的彼此不同的兩個以上的位置,從所述第一線傳感器和所述第二線傳感器獲取測量數(shù)據(jù);
計算工序,其基于在所述基準平面板的所述兩個以上的位置從所述第一線傳感器和所述第二線傳感器獲取的測量數(shù)據(jù),計算所述第一坐標平面與所述第二坐標平面的同一坐標軸之間的角度、以及所述第一坐標平面的原點與所述第二坐標平面的原點的相對位置。
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