[發明專利]一種衰減調節方法和可變光衰減器有效
| 申請號: | 202010082535.3 | 申請日: | 2020-02-07 |
| 公開(公告)號: | CN113253389B | 公開(公告)日: | 2022-06-14 |
| 發明(設計)人: | 宋家軍;蘇玉鋒;冷芬;王景灝 | 申請(專利權)人: | 華為技術有限公司 |
| 主分類號: | G02B6/26 | 分類號: | G02B6/26 |
| 代理公司: | 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
| 地址: | 518129 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 衰減 調節 方法 可變 衰減器 | ||
1.一種可變光衰減器衰減調節方法,其特征在于,所述方法包括:
可變光衰減器獲取鍍膜元件的調節信息和衰減片的調節信息,所述鍍膜元件的調節信息指示所述鍍膜元件的第一目標位置,使合波信號穿通所述鍍膜元件的目標子區域,所述目標子區域為所述鍍膜元件包括的多個波長相關損耗WDL調節斜率不同的子區域中的一個,所述衰減片的調節信息指示所述衰減片的第二目標位置,使所述合波信號穿通所述衰減片的目標通光區域,所述目標通光區域為所述衰減片包括的多個衰減值不同的通光區域中的一個;
可變光衰減器發送所述鍍膜元件的調節信息給第一驅動裝置,所述第一驅動裝置根據所述鍍膜元件的調節信息將所述鍍膜元件調節至所述第一目標位置;
可變光衰減器發送所述衰減片的調節信息給第二驅動裝置,所述第二驅動裝置根據所述衰減片的調節信息將所述衰減片調節至所述第二目標位置。
2.根據權利要求1所述方法,其特征在于,所述可變光衰減器獲取所述鍍膜元件的調節信息和所述衰減片的調節信息之前,所述方法還包括:
接收外部調節需求,所述外部調節需求包括所述合波信號需要調節的WDL和總衰減值,其中,所述可變光衰減器根據所述合波信號需要調節的WDL獲取所述鍍膜元件的調節信息;并根據所述總衰減值獲取所述衰減片的調節信息。
3.根據權利要求1和2任一所述方法,其特征在于,所述合波信號穿通所述可變光衰減器的總衰減值等于所述合波信號穿通所述鍍膜元件產生的衰減值與所述合波信號穿通所述衰減片產生的衰減值之和。
4.根據權利要求1和2任一所述的方法,其特征在于,所述鍍膜元件的所述子區域按照所述WDL調節斜率從小到大的順序依次排列。
5.根據權利要求1和2任一所述的方法,其特征在于,所述可變光衰減器獲取所述鍍膜元件的調節信息和所述衰減片的調節信息之后,所述可變光衰減器發送所述鍍膜元件的調節信息給所述第一驅動裝置,同時發送所述衰減片的調節信息給所述第二驅動裝置。
6.根據權利要求1和2任一所述的方法,其特征在于,所述可變光衰減器先獲取并發送所述鍍膜元件的調節信息給所述第一驅動裝置,之后所述可變光衰減器獲取并發送所述衰減片的調節信息給所述第二驅動裝置。
7.根據權利要求1和2任一所述的方法,其特征在于,所述鍍膜元件的調節信息、所述合波信號穿通的所述子區域、所述WDL的調節斜率三者具有對應關系,所述對應關系在所述可變光衰減器中預先設置。
8.根據權利要求1和2任一所述的方法,其特征在于,所述方法還包括:
第一位置傳感器向所述可變光衰減器反饋所述鍍膜元件的位置,直至所述鍍膜元件到達所述第一目標位置;
第二位置傳感器向所述可變光衰減器反饋所述衰減片的位置,直至所述衰減片到達所述第二目標位置。
9.根據權利要求1和2任一所述的方法,其特征在于,所述第一驅動裝置包括多個繼電器,所述多個繼電器與多個所述子區域一一連接,用于根據所述鍍膜元件的調節信息調節多個所述子區域的位置。
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